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酸性蝕刻液循環(huán)再生的電解槽裝置、系統(tǒng)及應(yīng)用的制作方法

文檔序號(hào):12779604閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種酸性蝕刻液循環(huán)再生的電解槽裝置,包括電解槽,其特征在于:還包括主陽(yáng)極、至少一片陰極、至少一片隔膜及至少一片偏陽(yáng)極;

所述隔膜將所述電解槽形成的腔體分隔成陽(yáng)極室和陰極室;所述主陽(yáng)極設(shè)置于所述陽(yáng)極室內(nèi);所述陰極設(shè)置于所述陰極室內(nèi);所述偏陽(yáng)極設(shè)置于所述陽(yáng)極室內(nèi),設(shè)置在所述主陽(yáng)極和所述陰極兩者所夾的區(qū)間內(nèi);所述主陽(yáng)極、陰極、偏陽(yáng)極及隔膜兩兩相互平行,且所述主陽(yáng)極、偏陽(yáng)極及隔膜兩兩之間有間隔,所述陰極和隔膜之間有間隔。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述主陽(yáng)極包括主陽(yáng)極基體和附著于所述主陽(yáng)極基體表面的金屬化合物導(dǎo)電層;所述主陽(yáng)極基體為鈦、鈮、鋯、鉭中任何一種基體;所述金屬化合物導(dǎo)電層為Ru、Ir、Pt、Pd、Ta中的至少一種金屬化合物形成的導(dǎo)電層。

3.如權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于:所述金屬化合物導(dǎo)電層還摻雜有Mo、Mn、Sn中的至少一種。

4.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述偏陽(yáng)極包括偏陽(yáng)極基體和附著于所述偏陽(yáng)極基體表面的導(dǎo)電層;或所述偏陽(yáng)極為石墨。

5.如權(quán)利要求4所述的裝置,其特征在于:所述導(dǎo)電層為Mo、Mn、Sn中的至少一種金屬氧化物導(dǎo)電層;或所述導(dǎo)電層為包含硼、四硼酸鈉及金剛石粉末摻雜的混合物導(dǎo)電層。

6.如權(quán)利要求1-4任一所述的裝置,其特征在于:所述主陽(yáng)極為板狀、或網(wǎng)狀、或粉末壓鑄狀、或泡沫狀;和/或所述偏陽(yáng)極為板狀、或網(wǎng)狀、或粉末壓鑄狀、或泡沫狀;和/或所述隔膜為石棉隔膜、復(fù)合隔膜、陰離子膜中的任一種。

7.如權(quán)利要求1-4任一所述的裝置,其特征在于:所述主陽(yáng)極表面積為所述陰極表面積的1.0倍及以上;和/或所述偏陽(yáng)極表面積為所述主陽(yáng)極表面積的50%-150%。

8.如權(quán)利要求1-4任一所述的裝置,其特征在于:所述裝置的陽(yáng)極室側(cè)壁上開設(shè)有蝕刻廢液入口、再生液出口及抽風(fēng)排氣口。

9.一種酸性蝕刻液循環(huán)再生的系統(tǒng),包括電解槽裝置,其特征在于:所述電解槽裝置由權(quán)利要求1~8任一所述的裝置提供。

10.如權(quán)利要求1-8任一所述的電解槽裝置或如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)在印刷電路板酸性蝕刻廢液在回收銅和循環(huán)再生蝕刻液工業(yè)中的應(yīng)用。

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