1.電磁波屏蔽用金屬箔,其中,在由金屬箔構成的基材的一面或兩面形成由Ni構成的基底層,在所述基底層的表面形成Sn-Ni合金層,
所述Sn-Ni合金層含有20~80質量%的Sn,
在將Sn的總附著量記為TSn[μg/dm2],將Sn-Ni合金中Sn的比例記為ASn[質量%],將Ni的總附著量記為TNi[μg/dm2],將Sn-Ni合金中Ni的比例記為ANi[質量%]時,TSn:500~91000μg/dm2,TNi:2200~236000μg/dm2,170000≥{TNi-TSn×(ANi/ASn)}≥1700。
2.權利要求1所述的電磁波屏蔽用銅箔,其中,在所述Sn-Ni合金層的表面不存在純Sn層。
3.權利要求1或2所述的電磁波屏蔽用銅箔,其中,所述基底層和所述Sn-Ni合金層中的至少一方進一步含有選自P、W、Fe和Co的1種以上元素。
4.權利要求1~3中任一項所述的電磁波屏蔽用銅箔,其中,所述Sn-Ni合金層含有10質量%以下的所述基材的構成元素。
5.權利要求1~4中任一項所述的電磁波屏蔽用金屬箔,其中,所述基材由金、銀、鉑、不銹鋼、鐵、鎳、鋅、銅、銅合金、鋁或鋁合金構成。
6.權利要求1~4中任一項所述的電磁波屏蔽用金屬箔,其中,所述基材為鋁或鋁合金,在所述基材與所述基底層之間形成Zn層。
7.電磁波屏蔽材料,其中,在權利要求1~6中任一項所述的電磁波屏蔽用金屬箔的一面層合樹脂層。
8.權利要求7所述的電磁波屏蔽材料,其特征在于,所述樹脂層為樹脂膜。
9.屏蔽電纜,其用權利要求7或8所述的電磁波屏蔽材料屏蔽。