專利名稱：一種表面改性有序介孔二氧化硅復(fù)合材料及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種表面改性有序介孔二氧化硅復(fù)合材料及其制備方法，屬于多孔納米材料技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
按照國(guó)際純粹與應(yīng)用化學(xué)協(xié)會(huì)(IUPAC)的定義，孔徑在2 50nm范圍的多孔材料稱為介孔材料。1992年，Mobil公司首次研制出新型M41S系列介孔二氧化硅材料，引起了研究人員的極大關(guān)注。介孔二氧化硅材料由于具有較高的比表面積、較大的孔容、規(guī)則可調(diào)的孔徑分布和穩(wěn)定的骨架結(jié)構(gòu)，在吸附、催化、分離和藥物傳輸?shù)阮I(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景。之后，人們陸續(xù)合成了 HMS、MSU、FDU和SBA等一系列介孔二氧化硅材料。這些介孔材料普遍具有較高的比表面積和孔徑可調(diào)的規(guī)則孔道結(jié)構(gòu)。由于二氧化硅本身的晶體結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，表面硅原子容易和表面吸附水結(jié)合，保持氧的四面體配位，因此在介孔二氧化硅的孔道內(nèi)壁表面存在大量的硅羥基，這些羥基一方面可用來(lái)固定活性基團(tuán)，賦予介孔分子篩新的性能；另一方面，大量端羥基的存在，使得介孔分子篩對(duì)環(huán)境濕度非常敏感，長(zhǎng)期暴露于空氣環(huán)境不利于保持其結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。表面烷基化修飾改性可潛在增強(qiáng)二氧化硅介孔材料的疏水性，改善孔結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，有利于材料在空氣環(huán)境中的保存和運(yùn)輸。因此，對(duì)這些有序介孔材料進(jìn)行表面改性成為當(dāng)前研究熱點(diǎn)之一。過(guò)去，人們?cè)诩{米二氧化硅粉體和二氧化硅氣凝膠的表面改性方面做了一系列工作，以改善納米粉體的團(tuán)聚現(xiàn)象，增強(qiáng)氣凝膠組織的機(jī)械性能和疏水性。如解曉玲等人(解曉玲，郭李有，許并杜，納米二氧化硅表面改性的研究，應(yīng)用化工， 2007，36 (7)，703-704)采用鈦酸酯對(duì)納米二氧化硅顆粒進(jìn)行表面改性研究，使顆粒由親水性變?yōu)槭杷?，提高了同聚合物膠料的親合性。馮軍宗等人(馮軍宗，馮堅(jiān)，高慶福，武緯， 六甲基二硅氮烷對(duì)二氧化硅氣凝膠的表面改性，硅酸鹽學(xué)報(bào)，36(S1)，89-94)利用氣相六甲基二硅氮烷與二氧化硅氣凝膠進(jìn)行反應(yīng)，得到了水接觸角約為120°的疏水性氣凝膠，并使熱穩(wěn)定性和機(jī)械強(qiáng)度得到了一定程度的提高。CN200910039501X公開(kāi)了一種采用有機(jī)高分子材料復(fù)合制備高機(jī)械性能二氧化硅氣凝膠的方法，得到了具有一定強(qiáng)度和柔韌性的納米多孔材料。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，通過(guò)對(duì)有序介孔二氧化硅材料進(jìn)行表面改性，改善其表面疏水性，有利于孔道結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定。針對(duì)上述發(fā)明目的，本發(fā)明提供一種有序介孔二氧化硅復(fù)合材料的制備方法，該方法包括以下步驟(1)對(duì)有序介孔二氧化硅材料進(jìn)行脫氣處理；(2)在惰性氣體條件下，將經(jīng)過(guò)脫氣處理的有序介孔二氧化硅材料與有機(jī)硅烷在能夠溶解該有機(jī)硅烷的有機(jī)溶劑中接觸，之后過(guò)濾、洗滌、干燥，制得有序介孔二氧化硅復(fù)合材料。本發(fā)明還提供了由上述本發(fā)明的方法制得的有序介孔二氧化硅復(fù)合材料。本發(fā)明利用有序介孔二氧化硅材料的表面羥基和有機(jī)硅烷發(fā)生縮合反應(yīng)，使烴基鏈接到材料的孔壁上，增加了材料的疏水性。本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)在于合成設(shè)備簡(jiǎn)單、合成工藝容易操作等特點(diǎn)。本發(fā)明制備的改性介孔二氧化硅材料比表面積較高，孔道結(jié)構(gòu)有序穩(wěn)定，并可在多個(gè)領(lǐng)域有潛在應(yīng)用。


圖1為本發(fā)明實(shí)施例1制備的有序介孔二氧化硅材料的透射電鏡照片；圖2為本發(fā)明實(shí)施例1制備的有序介孔二氧化硅材料的氮?dú)馕?脫附等溫線和孔徑分布圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例1制備的硅氮烷改性的有序介孔二氧化硅材料的透射電鏡照片；圖4為本發(fā)明實(shí)施例1制備的硅氮烷改性的有序介孔二氧化硅材料的氮?dú)馕?脫附等溫線和孔徑分布圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明提供了一種有序介孔二氧化硅復(fù)合材料的制備方法，該制備方法包括以下步驟(1)對(duì)有序介孔二氧化硅材料進(jìn)行脫氣處理；(2)在惰性氣體條件下，將經(jīng)過(guò)脫氣處理的有序介孔二氧化硅材料與有機(jī)硅烷在能夠溶解該有機(jī)硅烷的有機(jī)溶劑中接觸，之后過(guò)濾、洗滌、干燥，制得有序介孔二氧化硅復(fù)合材料。其中，所述的有機(jī)硅烷的濃度為0. 06 0. 15毫升/毫升，所述有機(jī)硅烷與有序介孔二氧化硅材料的重量比為5 M 1。所述有序介孔二氧化硅材料可以為選自SBA-15、MCM-41、SBA-16和MCM-48中的一種或多種。所述有機(jī)硅烷，可以選自氯硅烷、烷氧基硅烷和二硅氮烷中的一種或多種。其中， 氯硅烷可以選自二甲基二氯硅烷和三甲基一氯硅烷中的一種或多種；烷氧基硅烷可以選自氨基丙基三乙氧基硅烷(APTES)、正辛基三甲氧基硅烷(OTMS)和正十二烷基三甲氧基硅烷(DTMS)中的一種或多種；二硅氮烷可以選自六甲基二硅氮烷(HMDS)、四甲基二硅氮烷 (TMDS)中的一種或多種。所述有機(jī)溶劑，可以選自四氫呋喃、正己烷、甲苯、氯仿中的一種或多種。所述步驟(1)對(duì)有序介孔二氧化硅材料進(jìn)行脫氣處理?xiàng)l件為所述脫氣處理的過(guò)程包括在150 250°C下真空脫氣4 12小時(shí)，自然冷卻。所述步驟( 將有機(jī)硅烷溶解在所述有機(jī)溶劑中，，然后加入有序介孔二氧化硅材料，在惰性氣體氣氛、20-30°C條件下攪拌6 M小時(shí)。惰性氣體可以選自氮?dú)?、氦氣、氖氣，氬氣一種或多種。所述有序介孔二氧化硅材料優(yōu)選通過(guò)包括以下步驟的方法制得將表面活性劑和
4無(wú)機(jī)酸的水溶液與硅源接觸，然后將接觸后所得混合物依次在第一溫度和第二溫度下分別靜置第一時(shí)間段和第二時(shí)間段，之后冷卻、過(guò)濾，并將得到的固體物質(zhì)干燥、焙燒，其中，所述第一溫度低于第二溫度，所述第一時(shí)間段小于第二時(shí)間段。其中，所述水溶液中表面活性劑的質(zhì)量濃度可以為5_30%，無(wú)機(jī)酸的濃度可以為 1-3摩爾/升，所述硅源與表面活性劑的重量比可以為1-3.0 1。所述無(wú)機(jī)酸可以為鹽酸、硫酸、硝酸和磷酸中的一種或多種；所述硅源可以選自正硅酸甲酯、正硅酸乙酯、正硅酸丙酯中的一種或多種；所述表面活性劑可以為聚環(huán)氧乙烯醚-聚環(huán)氧丙烯醚-聚環(huán)氧乙烯醚系列三嵌段共聚物非離子表面活性劑和聚氧乙烯脂肪醚系列非離子表面活性劑中的一種或多種。其中，接觸的條件包括溫度為25-60°C，時(shí)間為5-30分鐘；所述接觸在攪拌下進(jìn)行，攪拌速度為400-1500轉(zhuǎn)/分鐘。所述第一溫度為25_60°C，第一時(shí)間段為10-30小時(shí)；所述第二溫度為60_100°C， 第二時(shí)間段為36-60小時(shí)；所述冷卻的溫度為20-30°C ；所述干燥的溫度為100_150°C ；所述焙燒的溫度為500-600°C、時(shí)間為4-12小時(shí)。根據(jù)本發(fā)明提供的一種一種有序介孔二氧化硅復(fù)合材料，其中，復(fù)合材料的特征 有序介孔二氧化硅復(fù)合材料不僅保持了較高的比表面積和規(guī)則有序的孔道結(jié)構(gòu)，改善了多孔結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性，還具有一定的疏水性能，賦予了材料新的性能，拓展了其應(yīng)用領(lǐng)域。樣品的透射電鏡照片由Tecnai G2 20ST透射電鏡測(cè)得，加速電壓為200KV ； 氮?dú)馕降葴鼐€由麥克公司的Tristar II 3020儀器在77K下測(cè)得，在測(cè)試前樣品在 250 °C真空脫水處理6小時(shí)，樣品的比表面積根據(jù)BET (Brunauer-Emmett-Teller)公式由相對(duì)壓力介于0. 06-0. 20之間的吸附數(shù)據(jù)計(jì)算得到，材料的孔徑分布結(jié)果采用 BJH(Barrett-Joyner-Halenda)模型由脫附曲線計(jì)算得到；水接觸角采用Krilss公司的 DSA100全自動(dòng)接觸角測(cè)量?jī)x對(duì)樣品壓片測(cè)試得到。下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明予以進(jìn)一步闡述。實(shí)施例1取20. 0克聚醚類嵌段聚合物EO2qPO7qEO2q(P 123，Sigma-Aldrich公司)，加入到 150. 0克去離子水和600. 0克2M鹽酸中，攪拌至澄清，加入42. 5克正硅酸乙酯(TE0S， Sigma-Aldrich公司)，攪拌5 10分鐘，繼而在35°C和90°C下分別放置20小時(shí)和48小時(shí)，經(jīng)過(guò)冷卻、過(guò)濾、水洗得到白色產(chǎn)物，白色產(chǎn)物干燥后于550°C下焙燒5小時(shí)，得到有序介孔二氧化硅材料SBA-15，由圖1可知其微觀結(jié)構(gòu)為有序的二維六方介孔結(jié)構(gòu)(p6mm)，由圖2可知其比表面積為900m2/g，孔容為0. 99cm7g，BJH最可幾孔徑為7. 60nm。水滴完全在樣品壓片上平鋪，樣品具有極好的親水性。取5. 0克SBA_15，200°C下真空脫氣6小時(shí)，自然冷卻，加入80毫升六甲基二硅氮烷(HMDS，Sigma-Aldrich公司)的正己烷溶液(溶液濃度1毫升/15毫升)，氮?dú)鈿夥铡?25°C下攪拌對(duì)小時(shí)，抽濾，正己烷清洗，在100°C下真空干燥10小時(shí)，得到硅氮烷修飾的 SBA-15。圖3為上述硅氮烷修飾的SBA-15材料的透射電鏡照片，從圖中可以看出微觀結(jié)構(gòu)為有序的二維六方介孔結(jié)構(gòu)(P6mm)。圖4為上述介孔二氧化硅材料的氮?dú)馕?脫附等溫線和孔徑分布圖，從圖中可以計(jì)算出該材料的比表面積為550m2/g，孔容為0. 66cm3/g, BJH 最可幾孔徑為5. 60nm。水接觸角為125. 5°，樣品具有很好的疏水性。
實(shí)施例2取20.0克P123，加入到100. 0克去離子水和400. 0克IM鹽酸中，攪拌至澄清，力口入42. 5克TE0S，攪拌5 10分鐘，繼而在25°C和80°C下分別放置20小時(shí)和48小時(shí)，經(jīng)過(guò)冷卻、過(guò)濾、水洗得到白色產(chǎn)物，白色產(chǎn)物干燥后于550°C下焙燒5小時(shí)，得到有序介孔二氧化硅材料SBA-15，其微觀結(jié)構(gòu)為有序的二維六方介孔結(jié)構(gòu)(p6mm)，比表面積為900m2/g，孔容為0. 99cm3/g, BJH最可幾孔徑為7. 60nm。水滴完全在樣品壓片上平鋪，樣品具有極好的親水性。取2. 5克SBA-15，150°C下真空脫氣4小時(shí)，自然冷卻，加入60毫升四甲基二硅氮烷(TMDS，Sigma-Aldrich公司)的四氫呋喃溶液(溶液濃度1毫升/25毫升)，氮?dú)鈿夥铡?25°C下室溫?cái)嚢?小時(shí)，抽濾，四氫呋喃清洗，在50°C下真空干燥10小時(shí)，得到硅氮烷修飾的SBA-15。水接觸角為125. 4°。實(shí)施例2的透射電鏡照片、氮?dú)馕?脫附等溫線和孔徑分布圖與實(shí)施例1相似。實(shí)施例3取20. 0克P123，加入到200. 0克去離子水和600. 0克3M硝酸中，攪拌至澄清，加入 42. 5克正硅酸丙酯(TPOS，Sigma-Aldrich公司)，攪拌5 10分鐘，繼而在50°C和100°C下分別放置20小時(shí)和48小時(shí)，經(jīng)過(guò)冷卻、過(guò)濾、水洗得到白色產(chǎn)物，白色產(chǎn)物干燥后于550°C 下焙燒5小時(shí)，得到有序介孔二氧化硅材料SBA-15。取10.0克SBA_15，250°C下真空脫氣12小時(shí)，自然冷卻，加入80毫升六甲基二硅氮烷(HMDS，Sigma-Aldrich公司)的甲苯溶液(溶液濃度為1毫升/10毫升)，氮?dú)鈿夥铡?5°C下攪拌M小時(shí)，抽濾，甲苯清洗，在100°C下真空干燥15小時(shí)，得到硅氮烷修飾的 SBA-15ο水接觸角為125.4°。實(shí)施例3的透射電鏡照片、氮?dú)馕?脫附等溫線和孔徑分布圖與實(shí)施例1相似。實(shí)施例4取實(shí)施例2的有序介孔二氧化硅材料SBA-15。取15.0克SBA_15，200°C下真空脫氣6小時(shí)，自然冷卻，加入80毫升氨基丙基三乙氧基硅烷(APTES，Sigma-Aldrich公司)的氯仿溶液(溶液濃度為1毫升/10毫升)，氮?dú)鈿夥铡?5°C下攪拌M小時(shí)，抽濾，氯仿清洗，在100°C下真空干燥過(guò)夜，得到氨基丙基三乙氧基修飾的SBA-15。水接觸角為118. 8°。實(shí)施例4的透射電鏡照片、氮?dú)馕?脫附等溫線和孔徑分布圖與實(shí)施例1相似。實(shí)施例5TE0S、十六烷基三甲基溴化銨(CTAB，北京化學(xué)試劑公司)、NaOH和去離子水在室溫下按照摩爾比TEOS CTAB NaOH H2O = 1. 0 0. 12 0. 5 130，攪拌 M 小時(shí)， 經(jīng)過(guò)濾、洗滌，在100°C下真空干燥10小時(shí)，然后用IM HCl/乙醇溶液萃取表面活性劑，再用無(wú)水乙醇洗滌，最后于真空干燥10小時(shí)，得到有序介孔二氧化硅材料MCM-41。取5.0克MCM_41，200°C下真空脫氣6小時(shí)，自然冷卻，加入100毫升氨基丙基三乙氧基硅烷的氯仿溶液(溶液濃度為1毫升/25毫升)，氮?dú)鈿夥铡?5°C下攪拌M小時(shí)，抽濾， 氯仿清洗，在30°C下真空干燥10小時(shí)，得到氨基丙基修飾的MCM-41。水接觸角為120.0°。實(shí)施例620. 0 克 EO132PO70EO132 (F 108，Sigma-Aldrich 公司)和 52. 4 克 K2SO4 溶于 600 毫升2M的鹽酸中，控制體系溫度為38°C。劇烈攪拌下加入42. 0克TE0S，攪拌15分鐘，38°C 靜止1天。白色粉末用大量去離子水洗，室溫干燥，得到有序介孔二氧化硅材料SBA-16。取5.0克SBA_16，200°C下真空脫氣6小時(shí)，自然冷卻，加入100毫升正辛基三甲氧基硅烷(OTMS，Sigma-Aldrich公司)的氯仿溶液(溶液濃度為15毫升/100毫升)，加入 75毫克對(duì)甲基苯磺酸作為催化劑，氮?dú)鈿夥铡?5°C下攪拌M小時(shí)，抽濾，氯仿清洗，在30°C 下真空干燥10小時(shí)，得到正辛基修飾的SBA-16。水接觸角為123. 2°。實(shí)施例737. 0克CTAB，2. 5克NaOH和150. 0克去離子水加熱到70°C攪拌10分鐘，逐滴加入42. 0克TE0S，繼續(xù)加熱攪拌2小時(shí)，得到均勻溶膠，將溶膠密封于聚四氟乙烯內(nèi)襯的不銹鋼反應(yīng)釜中，在100°C下晶化3天(填充率為80%)，待老化完全后過(guò)濾、洗滌、室溫干燥，得到有序介孔二氧化硅材料MCM-48。取5.0克MCM_48，200°C下真空脫氣6小時(shí)，自然冷卻，加入100毫升正十二烷基三甲氧基硅烷(DTMS，Sigma-Aldrich公司)的氯仿溶液(溶液濃度為15毫升/100毫升)， 加入75毫克對(duì)甲基苯磺酸作為催化劑，氮?dú)鈿夥铡?5°C下攪拌M小時(shí)，抽濾，氯仿清洗，在 30°C下真空干燥10小時(shí)，得到正十二烷基修飾的MCM-48。水接觸角為122. 2。。實(shí)施例8取5. 0克實(shí)施例1中的SBA-15，200°C下真空脫氣6小時(shí)，自然冷卻，加入100毫升三甲基一氯硅烷(TMCS，Sigma-Aldrich公司)的環(huán)己烷溶液(溶液濃度為15毫升/100 毫升)，氮?dú)鈿夥铡?5°C下攪拌M小時(shí)，抽濾，環(huán)己烷清洗，在30°C下真空干燥10小時(shí)，得到三甲烷基修飾的SBA-15。水接觸角為117.0°。實(shí)施例9該實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明提供的改性有序介孔二氧化硅材料的用途。取10毫克實(shí)施例2所制備的硅氮烷改性的SBA-15，分散到100毫升質(zhì)量濃度為 0. 01毫克/毫升的丁基羅丹明B水溶液，靜置8小時(shí)，高速離心分離，用紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)檢測(cè)介孔二氧化硅材料的丁基羅丹明B水溶液在558納米處的吸收(丁基羅丹明B的最大吸收波長(zhǎng))，該吸光度的變化與介孔二氧化硅對(duì)丁基羅丹明B的吸附直接相關(guān)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果發(fā)現(xiàn)，改性有序介孔二氧化硅材料對(duì)丁基羅丹明B的脫色率達(dá)70%，即10毫克介孔二氧化硅材料吸附了 0. 70毫克丁基羅丹明B。
權(quán)利要求
1.一種有序介孔二氧化硅復(fù)合材料的制備方法，該制備方法包括以下步驟(1)對(duì)有序介孔二氧化硅材料進(jìn)行脫氣處理；(2)在惰性氣體條件下，將經(jīng)過(guò)脫氣處理的有序介孔二氧化硅材料與有機(jī)硅烷在能夠溶解該有機(jī)硅烷的有機(jī)溶劑中接觸，之后過(guò)濾、洗滌、干燥，制得有序介孔二氧化硅復(fù)合材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述有機(jī)硅烷的濃度為0.04 0. 15毫升/毫升，所述有機(jī)硅烷與有序介孔二氧化硅材料的重量比為5 對(duì)1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，有序介孔二氧化硅材料選自SBA-15、 MCM-41、SBA-16和MCM-48中的一種或多種；所述有機(jī)硅烷選自氯硅烷、烷氧基硅烷和二硅氮烷中的一種或多種；所述有機(jī)溶劑選自四氫呋喃、正己烷、甲苯、氯仿中的一種或多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述氯硅烷選自二甲基二氯硅烷和三甲基一氯硅烷中的一種或多種；烷氧基硅烷選自氨基丙基三乙氧基硅烷、正辛基三甲氧基硅烷和正十二烷基三甲氧基硅烷中的一種或多種；二硅氮烷選自六甲基二硅氮烷、四甲基二硅氮烷中的一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在步驟(1)中，所述脫氣處理的過(guò)程包括在 150 250°C下真空脫氣4 12小時(shí)，自然冷卻。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在步驟O)中，所述接觸的過(guò)程包括將有機(jī)硅烷溶解在所述有機(jī)溶劑中，然后加入有序介孔二氧化硅材料，在氮?dú)鈿夥铡?0-30°C下攪拌 6 24小時(shí)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，所述有序介孔二氧化硅材料的制備過(guò)程包括將表面活性劑和無(wú)機(jī)酸的水溶液與硅源接觸，然后將接觸后所得混合物依次在第一溫度和第二溫度下分別靜置第一時(shí)間段和第二時(shí)間段，之后冷卻、過(guò)濾，并將得到的固體物質(zhì)干燥、焙燒， 其中，所述第一溫度低于第二溫度，所述第一時(shí)間段小于第二時(shí)間段。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述水溶液中表面活性劑的質(zhì)量濃度為5-30%， 無(wú)機(jī)酸的濃度為1-3摩爾/升，所述硅源與表面活性劑的重量比為1-3. 0 1 ；所述無(wú)機(jī)酸為鹽酸、硫酸、硝酸和磷酸中的一種或多種；所述硅源選自正硅酸甲酯、正硅酸乙酯、正硅酸丙酯中的一種或多種；所述表面活性劑為聚環(huán)氧乙烯醚-聚環(huán)氧丙烯醚-聚環(huán)氧乙烯醚系列三嵌段共聚物非離子表面活性劑和聚氧乙烯脂肪醚系列非離子表面活性劑中的一種或多種。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，接觸的條件包括溫度為25-60°C，時(shí)間為5-30分鐘；所述第一溫度為25-60°C，第一時(shí)間段為10-30小時(shí)；所述第二溫度為60-100°C，第二時(shí)間段為36-60小時(shí)；所述冷卻的溫度為20-30°C ；所述干燥的溫度為100_150°C ；所述焙燒的溫度為500-600°C、時(shí)間為4-12小時(shí)。
10.一種有序介孔二氧化硅復(fù)合材料，其特征在于，該復(fù)合材料由權(quán)利1-9中的任意一項(xiàng)所述的方法制備得到。
全文摘要
本發(fā)明提供一種表面改性有序介孔二氧化硅復(fù)合材料的制備方法，屬于多孔納米材料技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括先對(duì)有序介孔二氧化硅材料進(jìn)行脫氣處理，然后在惰性氣體條件下，將經(jīng)過(guò)脫氣處理的有序介孔二氧化硅材料與有機(jī)硅烷在能夠溶解該有機(jī)硅烷的有機(jī)溶劑中接觸，之后過(guò)濾、洗滌、干燥，制得表面改性的有序介孔二氧化硅復(fù)合材料。本發(fā)明還提供一種有序介孔二氧化硅復(fù)合材料。本發(fā)明具有合成設(shè)備簡(jiǎn)單、合成工藝容易操作等特點(diǎn)。本發(fā)明制備的改性介孔二氧化硅復(fù)合材料比表面積和孔容較高，具有柱狀規(guī)則孔道，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，而且具有一定的疏水性，可在催化劑載體、生物分子載體等方面有潛在應(yīng)用。
文檔編號(hào)B82Y40/00GK102476803SQ201010572179
公開(kāi)日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2010年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月29日
發(fā)明者毛立娟, 韓寶航 申請(qǐng)人:國(guó)家納米科學(xué)中心