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具有耐磨輪廓的發(fā)射極導(dǎo)線修整保護裝置的制作方法

文檔序號:5060426閱讀:159來源:國知局
專利名稱:具有耐磨輪廓的發(fā)射極導(dǎo)線修整保護裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本申請總體上涉及在例如電動流體加速器和靜電除塵器的電動流體裝置或靜電裝置中的電極修整保護(conditioning)。發(fā)明背景許多電子裝置和機械操作的裝置需要氣流以通過對流來幫助冷卻某些操作系統(tǒng)。 冷卻有助于防止裝置過熱和提高長期可靠性。已經(jīng)知道,可以使用風扇或其它類似的移動機械裝置來提供冷卻的空氣流,但這樣的裝置通常具有有限的工作壽命,產(chǎn)生噪音或振動, 浪費功率或具有其它設(shè)計問題。離子流式換氣裝置例如電動流體(EHD)裝置或電液動力(EFD)裝置的使用可以提高冷卻效率,并且降低振動、功耗、電子裝置溫度和噪音的產(chǎn)生。這可以降低總體裝置壽命成本、裝置尺寸或體積,并且可以改善電子裝置的性能或用戶的體驗。在許多EHD或EFA裝置和其它類似裝置中,如硅樹突的有害物質(zhì)、表面污染物、粒狀或其它碎片可能會堆積或形成在電極表面,并且可能會降低這些裝置的性能、效率和壽命。特別是,硅氧烷蒸氣在等離子體或電暈環(huán)境中會分解和在電極上形成固態(tài)的硅沉積,例如在發(fā)射極電極或集電極電極上。其它有害物質(zhì)也可以在各種電極表面上積聚。這種有害材料的積聚可以降低效率、性能和可靠性,引起火花或降低跳火電壓,并導(dǎo)致裝置故障。有需要定期地清除這些沉積物,以恢復(fù)性能和可靠性。因此,本領(lǐng)域中尋求對電極表面的清潔和修整保護的改進方案。使用流體的離子運動的原理構(gòu)造的裝置在文獻中具有不同的稱謂離子風機、電風機、電暈風泵、電-流體-力學(xué)(EFD)裝置、電動流體(EHD)推進器和EHD氣泵。該技術(shù)的某些方面也已被開發(fā)用于稱為靜電空氣清潔器或靜電除塵器的裝置中。一般地,EHD技術(shù)使用離子流原理來推動流體(例如空氣分子)。本領(lǐng)域技術(shù)人員對EHD流體流的基本原理已有很充分的理解。因此,對簡單的雙電極系統(tǒng)中使用電暈放電原理的離子流作簡要說明,這為下文的詳細描述提供了基礎(chǔ)。參照圖1所示,EHD原理包括在第一電極10(常被稱為“電暈電極”、“電暈放電電極”、“發(fā)射極電極”或只是“發(fā)射極”)和第二電極12之間施加高強度電場。在發(fā)射極放電區(qū)11附近的流體分子,例如周圍的空氣分子,在離子化后形成向第二電極12加速的離子16 流14,并與中性流體分子22碰撞。在碰撞期間,動量從離子16流14傳遞到中性流體分子 22,導(dǎo)致流體分子22沿箭頭13所示的所希望的流體流動方向朝第二電極12相應(yīng)地移動。 第二電極12有各種不同的稱謂,如“加速電極”、“吸引電極”、“目標電極”或“集電極”。雖然離子16流14被第二電極12吸引,通常被第二電極12中和,但是中性流體分子22仍繼續(xù)以一定的速度經(jīng)過第二電極12。由EHD原理產(chǎn)生的流體運動也有各種不同稱謂,如“電”、 “電暈”或“離子”風,被定義為由高壓放電電極10附近的離子運動所導(dǎo)致的氣體運動。
發(fā)明內(nèi)容業(yè)已發(fā)現(xiàn),使用修整保護裝置(conditioning device)可以修整保護電動(“EHD”)發(fā)射極絲線型電極,所述修整保護裝置具有曲線或圓弧的耐磨輪廓,該輪廓被構(gòu)造成在所述修整保護裝置沿著發(fā)射極絲線型電極移動時可使發(fā)射極電極彈性地變形。還發(fā)現(xiàn),所述修整保護裝置的曲線輪廓在各修整保護周期中可維持所述修整保護裝置和發(fā)射極絲線型電極之間的實質(zhì)接觸,其中可在EHD裝置的整個使用壽命中可以重復(fù)所述修整保護周期。在一些實施例中,修整保護包括沉積修整保護材料,例如形成包括含銀材料的犧牲層,該修整保護材料在工作過程中退化(degradation),通過修整保護裝置加以補充。例如,所述修整保護材料可以包括碳、銀、鉬、錳、鈀或鎳。在一些實施例中,修整保護包括清潔處理。在一些實施例中,通過使用修整保護裝置將發(fā)射極絲線型電極置入彈性的蛇形彎曲形狀內(nèi),在EHD裝置工作期間積聚在發(fā)射極絲線型電極上的有害物質(zhì)如硅石能夠被有效地驅(qū)散和擦除。在某些情況下,修整保護裝置的摩擦接合可以有助于擦除作用。即使在修整保護裝置磨損后,仍然可以保持有效的修整保護,例如從EHD發(fā)射極絲線型電極去除積聚的沉積物和/或沉積修整保護材料。在一些實施例中,誘導(dǎo)彈性電極彎曲或者甚至誘導(dǎo)產(chǎn)生多個蛇形彎曲形狀,可以驅(qū)散和去除積聚的沉積物,從而恢復(fù)電極的性能和可靠性。在一些實施例中,發(fā)射極電極在兩個帶有修整保護材料的表面(例如銀柱或含銀耐磨墊)之間通過,以便在發(fā)射極電極的縱向范圍上沉積含銀的犧牲層。在一些實施例中, 帶有修整保護材料的表面誘導(dǎo)發(fā)射極電極發(fā)生彈性變形,從而增大修整保護材料的沉積和/或增強從發(fā)射極電極去除積聚的有害物質(zhì)。在一些實施例中,發(fā)射極電極輕輕地夾在兩個限定互補表面的相對的修整保護裝置墊之間,所述互補表面的形狀適合于誘導(dǎo)導(dǎo)線形成可控的彎曲形狀。所述彎曲形狀的半徑這樣選擇,使得發(fā)射極導(dǎo)線的半徑與彎曲半徑的比率不超過發(fā)射極導(dǎo)線材料的屈服應(yīng)變,避免塑料永久地變形。所述的彈性變形和可控的彎曲應(yīng)力可破壞發(fā)射極導(dǎo)線上的硅酸沉積。蛇形彎曲形狀還可在所述墊磨損時確保在所述修整保護裝置墊和發(fā)射極導(dǎo)線之間始終保持接觸。在一些實施例中,電極修整保護裝置包括相對的表面(204、206、304、306、404、 406、504、506、702),所述相對的表面與在它們之間的所述電極摩擦接合。在一些實施例中, 修整保護裝置包括相對的表面,所述相對的表面與在它們之間的在工作期間容易積聚有害物質(zhì)的電極摩擦接合。所述相對的表面具有至少部分地互補的表面輪廓,在接合時,所述表面輪廓使拉緊電極的線性縱向范圍橫向地變形。所述相對的表面會發(fā)生磨損,但即使磨損深度超過電極的半徑,仍能保持摩擦接合,這至少部分地歸因于至少部分互補的表面輪廓與拉緊電極接合。在一些實施例中,獲得能量的電極有助于在電動流體加速器及除塵器裝置的其中一個之內(nèi)的離子流的流動。在一些實施例中,電極為具有半徑的發(fā)射極導(dǎo)線,表面輪廓這樣選擇,使得所述電極的半徑與最小輪廓半徑的比率不超過電極材料的屈服應(yīng)變。在一些實施例中,所述表面輪廓經(jīng)過選擇,使發(fā)射極電極在縱向行進過程在第一方向彈性變形,并且修整保護裝置可橫向地移動,使所述發(fā)射極電極在第二方向彈性變形。[0020]在一些實施例中,所述修整保護裝置成一角度定位,使得在所述修整保護裝置沿電極的縱向范圍移動期間,所述電極至少部分地橫向經(jīng)過相應(yīng)的修整保護裝置表面。在一些實施例中,所述EHD裝置為用于對流冷卻外殼之內(nèi)一或多個器件的熱管理組件的一部分。所述熱管理組件限定了流徑,在所述外殼的多個部位之間沿著所述流徑定位的傳熱表面上傳送空氣,可以將一或多個器件產(chǎn)生的熱量散去。所述熱管理組件包括電動(EHD)流體加速器,所述電動流體加速器包括獲得能量從而沿所述流徑產(chǎn)生流體流的集電極和發(fā)射極電極。修整保護裝置包括限定表面輪廓的相對表面,在與至少一個電極接合時,在電極上沉積修整保護材料的期間,所述表面輪廓使所述至少一個拉緊電極的線性縱向范圍彈性地變形。在一些實施例中,所述修整保護材料包括碳、銀、鉬、錳、鈀和鎳中的至少一種。在一些實施例中,所述電極的至少一個在其工作期間容易積聚有害物質(zhì),所述修整保護包括去除有害物質(zhì)。在一些實施例中,所述修整保護裝置可響應(yīng)于以下其中一各項而移動檢測到一或多個電子器件的低熱工作周期、通電周期和斷電周期;電火花;電壓電平;電流電平;聲級;以及檢測到性能下降。在一些實施例中,所述一或多個器件包括以下其中一項計算裝置,板型計算裝置,投影機,復(fù)印機,傳真機,打印機,收音機,錄音或錄像設(shè)備,音頻或視頻播放設(shè)備,通信設(shè)備,充電設(shè)備,功率變換器,光源,熱源,醫(yī)療器械,家用電器,電動工具,玩具,游戲機,電視和視頻顯示設(shè)備。在一些應(yīng)用中,本發(fā)明的另一方面是一種從電極去除有害物質(zhì)的方法,所述方法包括以下步驟將修整保護裝置定位成與所述電極摩擦接合;相對于所述修整保護裝置和所述電極中之一輸送所述修整保護裝置和所述電極中另一個,從而在所述電極上沉積修整保護材料。所述修整保護裝置包括相對的表面,所述相對的表面限定至少部分互補的表面輪廓,在與至少一個電極接合時,所述表面輪廓使所述至少一個拉緊電極的線性縱向范圍彈性地變形。所述方法還包括使所述電極彈性地變形,從而驅(qū)散在所述電極上積聚的有害物質(zhì)。在一些應(yīng)用中,所述修整保護裝置還可用來去除在所述電極上積聚的有害物質(zhì)。在一些應(yīng)用中,所述相對的表面因為重復(fù)的輸送周期而出現(xiàn)磨損,所述方法還包括即使磨損深度超過電極的半徑,但仍能保持摩擦接合,這至少部分地歸因于至少部分互補的表面輪廓與拉緊電極接合。在一些應(yīng)用中,所述方法還包括通過輸送所述修整保護裝置和所述電極中之一而在所述電極上原位沉積修整保護材料。在某些情況下,所述修整保護裝置是可磨損的,能夠沉積所述修整保護材料來形成減緩電極氧化或減少臭氧的犧牲層。在一些應(yīng)用中,所述方法還包括所述修整保護裝置的定位使得電極至少部分地橫向經(jīng)過相應(yīng)的修整保護裝置表面。在一些應(yīng)用中,所述修整保護裝置還可相對于電極的縱向范圍作橫向移動,使所述電極發(fā)生多軸向變形。在某些情況下,修整保護墊相對于電極偏離出平面。

[0032]通過參照附圖,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可更好地理解本發(fā)明,而其眾多的目的、特征和優(yōu)點也會變得明顯。圖1所示為電動(EHD)流體流的若干基本原理的示意圖。圖2所示為根據(jù)不同實施例的修整保護裝置的側(cè)視圖,其中所述修整保護裝置具有帶前邊緣和尾邊緣耐磨修整保護材料的相對的曲線輪廓修整保護墊。圖3所示為根據(jù)不同實施例的修整保護裝置的側(cè)視圖,其中所述修整保護裝置具有帶中間耐磨修整保護材料的相對的曲線輪廓修整保護墊。圖4所示為根據(jù)不同實施例的修整保護裝置的側(cè)視圖,其中所述修整保護裝置具有使細長的發(fā)射極電極彈性地變形并對其修整保護的相對的蜿蜒形修整保護墊。圖5A-5B所示為根據(jù)不同實施例的修整保護裝置的側(cè)視圖和剖視圖,其中所述修整保護裝置限定使細長的發(fā)射極電極彈性地變形的曲線輪廓修整保護墊。圖6所示為使電極橫向地變形的修整保護裝置的頂視圖。圖7所示為可滑動地安裝在相對的集電極電極上并且可平移的修整保護裝置以及定位成與集電極電極和發(fā)射極電極接觸以用于串接地修整保護電極的的相應(yīng)的修整保護墊。圖8所示為使用EHD裝置實施方案的電子系統(tǒng),其中所述EHD裝置如本文所述會被清潔和移除其上積聚的物質(zhì)。 在不同附圖中相同的參考符號表示相類似或相同的對象。
具體實施方式
參照圖2,修整保護裝置200包括互補的具有曲線輪廓的修整保護墊204和206, 它們定位成摩擦接合在它們之間的細長的發(fā)射極電極208的至少一部分。在某些實施例中,修整保護裝置200可以移動,帶動修整保護墊204和206沿著發(fā)射極電極208的縱向范圍行進,從而從相應(yīng)的電極表面除去有害物質(zhì),例如硅樹突、表面污染物、粒子或其它碎片。 修整保護墊204和206的輪廓使電極208彈性地變形成彎曲形狀,從電極208去除樹突或其它有害物質(zhì),或換句話說,是清潔或修整保護電極。電極彎曲形狀的半徑的選擇要避免電極208發(fā)生塑性變形。例如,電極直徑和彎曲形狀的半徑要選擇成使得所述電極的半徑與彎曲形狀的半徑之間的比值不超過所述電極材料的屈服應(yīng)變。修整保護墊204和206的互補表面可以包括用于誘導(dǎo)電極208可控的彎曲應(yīng)力的多個起伏,以驅(qū)散沉積在電極上的脆硅石。電極208的偏離也有利于在所述修整保護墊磨損時維持電極208與修整保護墊204和206之間的接觸。發(fā)射極電極208可以通電從而產(chǎn)生離子,而且可相對于集電極電極來定位以沿著流體流徑產(chǎn)生流體流。因此,發(fā)射極電極208和集電極電極可以至少部分地限定EHD流體加速器。在流體流徑中所述EHD流體加速器的上游和下游可以設(shè)置任何數(shù)量的額外電極。 例如,在一些實施例中,集電極電極可以設(shè)置在流體流徑中所述EHD流體加速器的上游,可以操作成為靜電除塵器??梢栽O(shè)置額外的清潔表面,與集電極電極或額外電極的表面摩擦接合并在這些表面上行進,所述行進可獨立于修整保護裝置200沿著發(fā)射極電極208的縱向范圍行進或者與之串接地行進。另外,在一些實施例中,發(fā)射極電極208可相對于修整保護裝置200移動。例如,修整保護裝置200可繞驅(qū)動滑輪形成環(huán)路上鏈,或可繞在卷帶盤和供帶盤上,或者以別的方式被輸送通過修整保護裝置200的修整保護墊204和206。參照圖3,修整保護墊304和306可以包括用于修整保護電極308的表面的修整保護材料插入物310。修整保護材料插入物310可設(shè)置在修整保護墊304和306的中心部位。 在某些情況下,主要在修整保護墊304/306的相應(yīng)前沿清潔表面上進行清潔,在電極308經(jīng)過修整保護材料插入物310時進行修整保護。修整保護材料插入物310可與修整保護墊304/306做成一體并可與修整保護墊 304/306 一起更換,或可根據(jù)需要被移除和更換。插入物310可通過粘附、緊固件、干涉配合或其它合適的手段來保持。修整保護材料插入物310可包括相類似的或不同的修整保護材料成分。例如,一種修整保護材料成分可以提供電極屏蔽成分以防止氧化,而另一種修整保護材料成分可以包括臭氧還原劑。因此,無論是電極清潔還是電極修整保護都可以通過修整保護墊304/306沿著電極308移動來進行。在一些實施例中,修整保護墊可以包括多個清潔或修整保護區(qū)域或表面。在某些情況下,每個修整保護墊包括通過彎曲和摩擦清潔從電極去除枝狀物的至少第一區(qū)域,和用于將修整保護材料涂層沉積在電極上的至少第二區(qū)域。在某些情況下,清潔和修整保護操作可以通過修整保護裝置的運動甚至相同的修整保護裝置表面同時執(zhí)行。修整保護墊可以包括以下表面輪廓的任何組合,包括平坦的、彎曲的、槽形的、起伏的等等輪廓以提供在修整保護過程中所需的摩擦接觸程度和/或電極的變形程度。各種電極可形成為線材、棒材、陣列、塊狀、條狀或其它形狀,且所述修整保護裝置可被構(gòu)造成修整或保護電極中任何所希望的表面部分。繼續(xù)參照圖3,在一些實施例中,修整保護墊304和306可以獨立地被更換或可成套地更換。修整保護墊304和306可根據(jù)需要定期更換。例如,修整保護墊304和306可以初始時相隔一段距離,由于持續(xù)的修整保護使用而引起的修整保護墊的磨損,最終可以相互接觸。因此,修整保護墊304/306的接觸可以用于表示例如相應(yīng)的修整保護墊的使用壽命的終結(jié)。在某些情況下,修整保護裝置300的操作可以導(dǎo)致去除修整保護墊的一些材料, 從而在修整保護墊上形成槽或?qū)е虏奂由睢km然修整保護墊304和306做成在電極308的相對表面上的匹配的相對配對件, 應(yīng)當理解的是,本發(fā)明不限于如圖所示的用在線形電極上的兩部件式修整保護墊,而是可以包括用在其它形狀的電極上的單件式修整保護墊,如梭子、珠子、刷子或多個清潔頭及表面。因此,修整保護裝置300可以通過單程或多程縱向移動或其它運動(包括相對于電極的縱向范圍作橫向移動)來從相應(yīng)的電極表面去除有害物質(zhì)。參照圖4,在一些實施例中,相應(yīng)的相對修整保護墊404和406通過施加外力“F” 彼此相互抵靠,或者通過施加的力靠在發(fā)射極電極408上。外力“F”可以通過壓縮的泡沫塊414、彈簧、或位于修整保護墊404/406的至少一個和相應(yīng)的支持結(jié)構(gòu)416之間的其它機構(gòu)來提供。修整保護墊404和泡沫塊414設(shè)置成在修整保護墊404和電極408之間提供足以摩擦修整保護所述電極408的壓力,它們也可被偏轉(zhuǎn)或變形,從而用于清潔和修整保護。 在某些情況下,外力“F”可以通過在修整保護裝置和電極之間的干涉配合或壓配合或者作用于所述修整保護裝置的夾具來產(chǎn)生。[0053]修整保護墊404可以這樣構(gòu)造和設(shè)置,使得外力“F”不會導(dǎo)致電極發(fā)生塑性變形, 即,使得當在泡沫塊完全壓縮時,施加于電極的外力不超過會導(dǎo)致所述電極塑性變形的彈性形變極限。同樣地,通過控制外力“F”可以避免電極發(fā)生塑性變形。在特定情況下,細長的發(fā)射極導(dǎo)線408與集電極電極間隔例如l_5mm放置,它們能夠獲得能量以在其間建立電暈放電。發(fā)射極導(dǎo)線408拉緊放置,例如拉緊10-30克的力,并用具有曲線輪廓的碳修整保護墊404和406來清潔,其中在修整保護墊404和406與發(fā)射極電極408之間具有40-80克的預(yù)載荷。含碳的修整保護墊404/406在初次傳送路徑和返回的傳送路徑中都沿發(fā)射極電極408以大約13毫米/秒的速度被輸送。出現(xiàn)在修整保護墊404/406上的碳具有能夠從電極408有效地去除有害物質(zhì)的硬度,而且是足夠軟的,可以被磨下和在電極408上沉積成碳涂層。但碳只是可至少部分形成在修整保護墊404和406 的材料的其中一個例子。其它材料也可以使用,以提供例如臭氧還原涂層、犧牲涂層、電極表面的精加工、電極潤滑或其它有用的電極修整保護。在各種細長電極的實施方案中,可以采用不同的電極拉緊程度、夾緊力“F”和清潔速度。例如,具有柔軟的表面的修整保護墊(如毛氈或毛刷)可以采用較高的電極夾緊力 “F”預(yù)載荷,例如350克??梢栽谛拚Wo墊和電極之間或在修整保護表面配對物之間通過彈簧、可壓縮泡沫、磁排斥力、雜散電場(fringing field)、電磁閥、電動排斥力或可提供所希望的力的任何其它裝置來提供作用力“F”。在相對較短的操作時間內(nèi),例如在30-120分鐘內(nèi),可以在發(fā)射極電極上長成影響電極性能的枝狀物。因此,定期啟動修整保護操作可以有利地依據(jù)定期時間表上檢測的枝狀物生長的函數(shù)或響應(yīng)于不同的事件如功率周期、電極的電弧放電、或性能例如聲級、電壓電平、或電流電平。參照圖5A-5B,修整保護裝置500被構(gòu)造并設(shè)置成通過修整保護表面的圓弧輪廓、 電極引導(dǎo)件或其它合適的電極接觸特征使電極508在修整保護期間彈性地變形。在一些實施例中,電極508夾持在兩個修整保護墊504和506之間,每個修整保護墊限定互補的圓弧表面,使電極508偏轉(zhuǎn)成可控的彎曲形狀。參照圖5A和圖5B的剖視圖,機械式修整保護裝置500包括相對的第一和第二修整保護墊504和506,它們限定用于摩擦接觸電極508的清潔表面。修整保護墊504和506 一起限定曲線的電極路徑,用于使電極508彈性變形和在電極正面上摩擦清潔接觸。由于修整保護墊504和506被輸送經(jīng)過電極508,所以電極引導(dǎo)件508在剖視圖中限定一個通道,所述通道的大小適合接納電極。在某些情況下,電極的彈性變形可提高清潔或修整保護的效率或控制。例如,可控制在某些接觸點處的電極變形程度或摩擦的程度,以改變清潔和修整保護參數(shù),例如,電極的張力或在修整保護墊504和506之間的間距或壓力是可變的。例如,修整保護墊504和 506最初是間隔開一段距離的,在持續(xù)的清潔周期的磨損之后可以逐步移動靠近并最終互相接觸。修整保護墊504和506做成限定孔510,用于接收緊固件以將墊504和506連接到可移動的修整保護裝置。例如,墊504和506可做成固定器連接在可移動盒體上,以相對于電極508輸送修整保護墊504和506。參照圖5B,圖中顯示修整保護墊504和506沿其邊緣部分接觸。在一些實施例中,
9修整保護墊504和506可以只在修整保護操作中與電極接觸。在某些情況下,修整保護墊 504和506之間的接觸可以用于表示墊磨損或墊的壽命終點。參照圖6,在一些實施例中,在修整保護裝置600行過電極608的縱向范圍以進一步去除其上積聚的有害物質(zhì)時,修整保護裝置600的正交或橫向行進用于使電極608橫向變形。相對于其它方向引起的其它電極變形,例如通過上文描述的修整保護墊的輪廓而引起的變形,所述橫向變形是額外的。在某些情況下,細長的電極608可以在第一方向彎曲或以其它方式變形,而在第二個方向被拉伸或變形。例如,電極608在修整保護工作期間可以從第一工作位置“B”移動到第二橫向位移或橫向變形位置“C”。修整保護裝置600可前后地和/或左右地傾斜,使電極608達到所希望的橫向位移和彈性變形。另外,修整保護裝置600可相對于電極608沿任何所希望的路徑移動,誘導(dǎo)電極608作橫向位移和彈性變形。例如,修整保護裝置600可相對于細長的發(fā)射極電極608 沿弧形路徑或其它分叉路徑來行進,從而誘導(dǎo)電極608橫向變形??蛇x擇地或附加地,修整保護裝置600可繞與發(fā)射極電極的縱向范圍正交的軸線旋轉(zhuǎn)或傾斜,使得電極608既可通過修整保護墊(例如前述的墊304/306)的輪廓又可通過修整保護墊相對于發(fā)射極電極608 的傾斜方向上的偏離軸而彈性地變形。因此,電極608可采用許多不同方法和修整保護裝置配置繞兩根或更多正交軸線彎曲或變形。修整保護裝置600的這種角度位置與由修整保護裝置600引起的電極608的橫向拉緊或橫向運動相結(jié)合,可以導(dǎo)致電極608至少部分地橫向行進穿過修整保護裝置600的表面。在電極608移動通過修整保護裝置600中引入橫向分量,能夠使修整保護裝置600 隨時間的推移而被磨損得更多,和減少形成通常具有對齊的縱向行進的槽。在不同的實施例中,修整保護裝置600可以被定向在與圖示方案不同的角度,例如垂直地,且可以沿任意數(shù)量的軸被角向定位或移動,以便與所述電極接觸或使所述電極變形。參照圖7,修整保護裝置700包括在發(fā)射極電極706的相對兩側(cè)垂直地定向的修整保護墊702。額外的修整保護墊704與集電極電極708接合。驅(qū)動纜繩710或其它合適的驅(qū)動結(jié)構(gòu)可以位于集電極電極708的下游并遠離發(fā)射極電極706,傳動皮帶或驅(qū)動纜繩710 這種遠離電極706的定位,可以減少從電極706周圍的電場到驅(qū)動纜繩710的充電和火花, 并且有助于避免受到電極706周圍的電場的干擾。在一些實施例中,集電極電極708可作為修整保護裝置700的運動和對準的引導(dǎo)件。在某些情況下,修整保護裝置700可以滑動地保持在電極708上。例如,修整保護裝置 700可以在電極708之間延伸,修整保護表面704則通過在互補的電極、墊和修整保護裝置的輪廓之間的滑動配合而保持在電極708的相應(yīng)表面附近。繼續(xù)參照圖7,相應(yīng)的第一修整保護墊702可以沿發(fā)射極電極706的縱向范圍行進,且相應(yīng)的第二修整保護墊704在集電極電極708或其它電極的表面的大部分尺寸上串接地行進。例如,EHD或EFA裝置也可以包括接地電極、排斥電極、回流電極、或其它電極。在所示的實施方案中,修整保護裝置700包括多對修整保護表面702和704,它們被定位用于修整保護電極706和708的相應(yīng)表面。此外,修整保護裝置700可配置額外的修整保護表面,它們將被輸送經(jīng)過任何數(shù)量的電極、過濾器或其它系統(tǒng),所述電極、過濾器或其它系統(tǒng)的特點是容易積聚有害物質(zhì)和需要機械清潔或其它表面處理。修整保護裝置700可以通過驅(qū)動纜繩710而被驅(qū)動或平移,所述驅(qū)動纜繩圍繞驅(qū)動滑輪和惰輪而被上鏈。其它類型的驅(qū)動機構(gòu)也可以用于移動修整保護裝置700,從而清潔和/或修整保護電極。修整保護裝置700可以是單向移動的,使得在每個周期中所述修整保護裝置700在電極706和708的交錯端部之間移動。替換地,修整保護裝置700可以在單個周期中往復(fù)運動或雙向移動,或者可以在一個給定的周期中以各種速度執(zhí)行任意組合的移動。在一些實施例中,擦拭器例如刷子或其它輔助清潔裝置被定位為接觸與修整保護墊702和704相鄰的修整保護裝置的前邊緣或表面,在該處從電極706或708脫落的有害物質(zhì)可以積聚在修整保護裝置700上。因此,通過刷子或其它合適的輔助清潔機構(gòu)可以去除修整保護裝置700包括修整保護墊702和704積聚的次級有害物質(zhì)。被刷子刷落的有害物質(zhì)可以積聚在接收區(qū)域中,接收區(qū)域的位置與修整保護裝置700在修整保護周期之間駐留的收藏位置相鄰。積聚的微??啥ㄆ诘貤壍艋驈南到y(tǒng)中排出。不同修整保護裝置的實施例中的修整保護墊可以由可磨損的材料(包括修整保護材料)形成,所述材料能夠被分解以減少粘連、減少臭氧或減輕離子轟擊或等離子體環(huán)境的不利影響,如氧化。例如,氧化銀可以既作為犧牲涂層,又可以減少臭氧。在一個特定的實施方案中,修整保護墊由基本上固態(tài)的可磨損石墨修整保護材料形成。在一些實施例中,可磨損的修整保護材料遠比電極的鍍層更軟,以避免在修整/保護過程中損壞電極。在某些情況下,修整保護材料的成分可以包括碳、銀、鉬、錳、鈀、鎳或它們的氧化物或合金。在某些情況下,修整保護材料的成分包括碳、在等離子體或離子轟擊條件下分解的有機金屬材料、及它們的組合。在一些實施例中,選擇的修整保護材料可以具有減少臭氧的功能,例如,減少由 EHD裝置產(chǎn)生的臭氧量。例如,包含銀(Ag)的材料可用于減少臭氧的產(chǎn)生,也可以用于防止硅石的生長。在一些實施例中,修整保護材料可以提供犧牲層或修整保護層。這種涂層不需要在電極的整個操作表面上都是連續(xù)的。在某些情況下,該涂層可以提供低粘附或“不粘” 的表面,或者可以具有排斥硅石的表面屬性,硅石是在枝狀物形成中的常見物質(zhì)。作為示范例子,修整保護材料可以包括碳例如石墨,對枝狀物形成和其它有害物質(zhì)具有低粘附性,且更容易通過機械方式去除這種有害物質(zhì)。在某些情況下,修整保護材料可作為犧牲層,其在等離子體環(huán)境或經(jīng)離子轟擊被氧化或侵蝕。經(jīng)由修整保護裝置沿電極縱向范圍的運動而對該犧牲層進行補給,保護了可能被侵蝕或變薄的下層電極金屬如鎢或其它保護性涂層。在一些實施例中,相對的修整保護墊由不同材料形成或包括不同的修整保護材料。例如,一個墊可以包括氈或馬海毛的清潔材料,而另一個墊包括可磨損的石墨修整保護材料。圖8是說明其中修整保護裝置可以操作的一種環(huán)境實例的示意框圖。電子器件 900 (例如計算機)包括EFA或EHD空氣冷卻系統(tǒng)920。電子器件900包括殼體916或外殼, 其具有包含顯示裝置912的蓋板910。殼體916的前表面921的一部分已被切開以露出其內(nèi)部922。電子器件900的殼體916還可以包括頂面(未顯示),該頂面支持一個或多個輸入裝置,其中可以包括例如鍵盤、觸摸板和跟蹤裝置。電子器件900還包括在操作時產(chǎn)生熱量的電子電路960。熱管理解決方案包括熱管944,用于將熱量從電子電路960傳送到散熱器 942。[0077]裝置920是由高壓電源930供電并且靠近散熱器942。電子器件900還可以包括許多其它電路,根據(jù)其預(yù)定用途而定;為簡化該第二實施方案的示意圖,其它可以占用殼體 920的內(nèi)部區(qū)域922的元件已經(jīng)從圖8中省略。繼續(xù)參考圖8,在操作中,高壓電源930工作以在位于裝置920中的發(fā)射極電極和集電極電極之間產(chǎn)生電壓差,藉此產(chǎn)生使環(huán)境空氣向集電極電極移動的離子流動或流。所述移動的空氣使裝置920在箭頭902的方向中行進穿過散熱器942,并穿過在殼體916的后表面918中的排氣格柵或開口(未顯示),從而散去積聚在散熱器942的上面和周圍的空氣中的熱量。需要注意的是,所示的元件例如電源裝置930相對于裝置920和電子電路 960的位置可以與圖8所示的有所不同??刂破?32連接到裝置920,且可以使用傳感器輸入來確定空氣冷卻系統(tǒng)的狀態(tài),例如確定是否需要修整保護或清潔電極。替換地,所述修整保護或清潔可以由控制器 932定時地或按計劃地啟動,或者基于系統(tǒng)效率的測量或基于其它確定何時清理電極的合適方法來啟動。例如,電極的電弧放電的檢測或其它電極性能特性的檢測可用于啟動修整保護裝置的運動以修整保護所述電極。電極性能可通過監(jiān)測電壓電平、電流電平、聲級等等來確定。在一些實施例中,清潔或者其它修整保護是在電極未被使用時執(zhí)行的。替換地,修整保護操作可以相隔一定的時間間隔執(zhí)行。在某些情況下,由控制器932啟動的修整保護或清潔基于一個或多個所施加的電壓電平、測得的電勢、通過光學(xué)裝置測定發(fā)現(xiàn)存在一定水平的污染、檢測到事件或性能參數(shù)、或顯示對所述電極進行機械清潔有好處的其它方法。本文所述的熱管理系統(tǒng)的一些實施方案采用EFA或EHD裝置基于離子加速來產(chǎn)生流體流,通常為空氣流,其中所述流體流是基于電暈放電導(dǎo)致離子加速而產(chǎn)生的。其它實施方案可以采用其它離子產(chǎn)生技術(shù),根據(jù)此處提供的描述性內(nèi)容是完全可以理解這些技術(shù)。 使用熱傳遞表面,由電子(如微處理器、圖形單元等)和/或其它元件所散發(fā)的熱量可以被轉(zhuǎn)移到流體流中并且被散去,其中所述熱傳遞表面可以是或不是單片的或與集電極電極集成為一體。通常,當熱管理系統(tǒng)被整合到操作環(huán)境中時,就會提供熱量傳遞路徑(例如熱管)以將熱量從其所耗散或產(chǎn)生的位置轉(zhuǎn)移到殼體內(nèi)的另一個位置(或多個位置),在該另一個位置(或多個位置)中由一個EFA或EHD裝置(或多個EFA或EHD裝置)所產(chǎn)生的空氣流將流過熱傳遞表面。在一些實施例中,采用電極修整保護系統(tǒng)的EFA或EHD空氣冷卻系統(tǒng)或其它類似的離子作用裝置可以整合在一個工作系統(tǒng)中,如筆記本電腦或臺式電腦、投影機或視頻顯示裝置等,其它的實施方案可采用子組件的形式。不同的特征可以與包含EFA或EHD裝置的不同器件使用,例如空氣轉(zhuǎn)換器、薄膜分離器、薄膜處理裝置、空氣微粒清潔機、影印機、 以及用于例如電腦、筆記本電腦和手持電子器件的冷卻系統(tǒng)。一或多個器件包括包括以下其中之一計算裝置,投影機,復(fù)印機,傳真機,打印機,收音機,錄音或錄像設(shè)備,音頻或視頻播放設(shè)備,通信設(shè)備,充電設(shè)備,功率變換器,光源,熱源,醫(yī)療器械,家用電器,電動工具, 玩具,游戲機,電視和視頻顯示設(shè)備。雖然前面描述了本發(fā)明的不同實施方案,可以理解的是,本發(fā)明的特征由下面的權(quán)利要求限定,而且這里沒有具體描述的其它實施方案也落在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種裝置,所述裝置包括電極008、308、408、508、608、706),所述電極的表面在電極工作期間容易退化;以及電極修整保護裝置000、500、600、700),所述電極修整保護裝置包括相對的表面004、206、304、306、404、406、504、506、702),所述相對的表面與在它們之間的所述電極摩擦接合,其中所述相對的表面具有至少部分地互補的表面輪廓,在接合時,所述表面輪廓使在拉緊時電極的線性縱向范圍橫向地變形,所述相對的表面會發(fā)生磨損,但即使磨損深度超過所述電極的半徑,仍能保持摩擦接合,這至少部分地歸因于至少部分地互補的表面輪廓與所述拉緊電極接合。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于所述電極在獲得能量時有助于在電動流體加速器及除塵器裝置的其中一個之內(nèi)的離子流的流動。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于所述修整保護裝置適于被輸送經(jīng)過所述拉緊電極的至少大部分縱向范圍,并從所述電極去除積聚的有害物質(zhì)。
4.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于所述修整保護裝置適于被輸送經(jīng)過所述拉緊電極的至少大部分縱向范圍,并沉積修整保護材料。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于所述修整保護裝置的所述相對的表面包括銀,適于在所述電極上沉積包含銀的犧牲層,其中所述犧牲層在EHD裝置的工作期間容易退化,通過在所述電極的至少大部分縱向范圍上輸送所述修整保護裝置而得到補充。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于所述修整保護裝置的位置大致固定,所述拉緊電極配置成輸送所述固定的修整保護裝置經(jīng)過所述拉緊電極的至少大部分。
7.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于所述修整保護裝置的表面輪廓選擇成使得所述電極彈性地變形。
8.如權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于所述電極為具有半徑的發(fā)射極導(dǎo)線,所述表面輪廓選擇成使得所述電極的半徑與最小輪廓半徑的比率不超過所述電極的材料的屈服應(yīng)變。
9.如權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于所述表面輪廓選擇成使得所述電極繞多根軸線變形,從而驅(qū)散在所述電極上的脆性硅石沉積物。
10.如權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于所述表面輪廓選擇成使得發(fā)射極電極在縱向行進過程中在第一方向彈性地變形,所述修整保護裝置可橫向地移動,使所述發(fā)射極電極于第二方向彈性地變形。
11.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于所述修整保護裝置成一角度定位,使得在所述修整保護裝置沿所述電極的縱向范圍移動期間,所述電極至少部分地橫向地經(jīng)過相應(yīng)的修整保護裝置表面。
12.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于所述電極獲得能量,從而沿流徑流動產(chǎn)生流體流,所述裝置還包括沿著所述流徑設(shè)置的傳熱表面,將從電子器件的熱量散去。
13.如權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于所述電極和所述修整保護裝置中的至少一個響應(yīng)于以下其中一項而移動檢測到所述電子器件的低熱工作周期、通電周期和斷電周期;電火花;電壓電平;電流電平;聲級;以及檢測到性能下降。
14.如權(quán)利要求12所述的裝置,其特征在于所述電子器件為以下其中之一計算裝置,板型計算裝置,投影機,復(fù)印機,傳真機,打印機,收音機,錄音或錄像設(shè)備,音頻或視頻播放設(shè)備,通信設(shè)備,充電設(shè)備,功率變換器,光源,熱源,醫(yī)療器械,家用電器,電動工具,玩具,游戲機,電視和視頻顯示設(shè)備。
15.一種裝置,所述裝置包括夕卜殼;熱管理組件,所述熱管理組件用于對在所述外殼中的一個或多個器件的對流冷卻,所述熱管理組件限定了流動路徑以在沿所述流動路徑定位的熱傳遞表面上在所述外殼的各部分之間傳送空氣,對由所述一個或多個器件產(chǎn)生的熱量進行散熱,所述熱管理組件包括含有集電極和發(fā)射極電極的電動(EHD)流體加速器,所述集電極和發(fā)射極電極能夠獲得能量從而沿流體流動路徑產(chǎn)生流體流;以及修整保護裝置,所述修整保護裝置包括相對的表面,所述相對的表面限定的表面輪廓在與至少一個電極接合時,能夠在所述電極上沉積修整保護材料的期間使得所述至少一個電極在拉緊時其線性縱向范圍彈性地變形。
16.如權(quán)利要求15所述的裝置,其特征在于所述修整保護裝置響應(yīng)于以下其中一項而移動檢測到所述一個或多個器件的低熱工作周期、通電周期和斷電周期;電火花;電壓電平;電流電平;聲級;以及檢測到性能下降。
17.如權(quán)利要求15所述的裝置,其特征在于所述一或多個器件包括以下其中之一計算裝置,板型計算裝置,投影機,復(fù)印機,傳真機,打印機,收音機,錄音或錄像設(shè)備,音頻或視頻播放設(shè)備,通信設(shè)備,充電設(shè)備,功率變換器,光源,熱源,醫(yī)療器械,家用電器,電動工具,玩具,游戲機,電視和視頻顯示設(shè)備。
專利摘要一種具體耐磨輪廓的發(fā)射極導(dǎo)線修整保護裝置,包括電極,所述電極的表面在電極工作期間容易退化;以及電極修整保護裝置,所述電極修整保護裝置包括相對的表面,所述相對的表面與在它們之間的所述電極摩擦接合,其中所述相對的表面具有至少部分地互補的表面輪廓,在接合時,所述表面輪廓使在拉緊時電極的線性縱向范圍橫向地變形,所述相對的表面會發(fā)生磨損,但即使磨損深度超過所述電極的半徑,仍能保持摩擦接合,這至少部分地歸因于至少部分地互補的表面輪廓與所述拉緊電極接合。修整保護裝置使相應(yīng)的修整保護表面沿著發(fā)射極電極的縱向范圍行進以修整保護發(fā)射極電極,從而至少部分地減輕電極上的臭氧、侵蝕、腐蝕、氧化、或枝狀物的形成。
文檔編號B03C3/34GK202316118SQ201120224248
公開日2012年7月11日 申請日期2011年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月30日
發(fā)明者D·布朗斯汀, E·尼恩, G·亨浦司頓, G·高, M·舒維伯特, P·貝茨, R·戈德曼, Z·特萊納 申請人:德塞拉股份有限公司
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