漿汁加熱循環(huán)研磨裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及漿汁加熱循環(huán)研磨裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)的漿汁加熱研磨裝置的加熱裝置大多裝在儲(chǔ)料缸的內(nèi)部，通過加熱裝置直接給儲(chǔ)料缸的磨料加熱，具有以下缺點(diǎn):1.磨料不能集中研磨、分散、磨料在缸內(nèi)翻滾、效率低;2.加熱裝置大多裝在磨料缸的內(nèi)部，通過加熱裝置直接給料缸的磨料加熱，容易造成受熱不均，糊底等現(xiàn)象。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于提供磨料能集中研磨，磨料在缸內(nèi)不翻滾分散，受熱均勻，不糊底，無生水混雜的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置。
[0004]本實(shí)用新型提供一種漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，包括儲(chǔ)料缸，所述儲(chǔ)料缸底部通過變徑缸連通研磨機(jī)的入口，所述變徑缸的上部呈正梯形。所述變徑缸的下部呈倒梯形，所述變徑缸置于水煲內(nèi)。
[0005]進(jìn)一步地，所述水煲通過開水管連通儲(chǔ)料缸。
[0006]進(jìn)一步地，所述變徑缸內(nèi)的物料經(jīng)過所述水煲受熱進(jìn)入研磨機(jī)，由循環(huán)栗通過循環(huán)管道栗回所述儲(chǔ)料缸。
[0007]采用本實(shí)用新型給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，由于采用在儲(chǔ)料缸底部設(shè)置變徑缸，且變徑缸的上部呈正梯形，可以有效防止物料往儲(chǔ)料缸內(nèi)翻滾，并且待研磨的物料可以得到水煲內(nèi)的水有效的加熱，受熱均勻，不糊底，無生水混雜，漿汁煮沸時(shí)無泡，衛(wèi)生，機(jī)動(dòng)性大。
【附圖說明】
[0008]此處所說明的附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0009]圖1示意性示意出本實(shí)用新型實(shí)施例給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖2示意性示意出本實(shí)用新型實(shí)施例給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖3示意性示意出本實(shí)用新型實(shí)施例給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置的立體圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例，來詳細(xì)說明本實(shí)用新型。
[0013]參照附圖，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，包括儲(chǔ)料缸I，儲(chǔ)料缸I底部通過變徑缸2連通研磨機(jī)3的入口，變徑缸2的上部呈正梯形，變徑缸2的下部呈倒梯形，變徑缸2置于水煲4內(nèi)，水煲4里面的水通過加熱部件加熱，變徑缸2內(nèi)的物料經(jīng)過水煲4受熱進(jìn)入研磨機(jī)3，研磨機(jī)3內(nèi)的物料由循環(huán)栗通過循環(huán)管道5栗回儲(chǔ)料缸I，待漿汁符合生產(chǎn)要求，研磨機(jī)3停止工作，通過循環(huán)管道5出料。水煲4通過開水管6連通儲(chǔ)料缸I。
[0014]通過進(jìn)水閥往水煲4內(nèi)注水，水進(jìn)到水煲4設(shè)定的水位上限之后，閥門關(guān)閉，同時(shí)加熱部件工作對水煲4內(nèi)的水進(jìn)行加熱，當(dāng)水加熱到沸點(diǎn)時(shí)，通過開水管6進(jìn)入儲(chǔ)料缸I內(nèi)部與物料混合，當(dāng)水煲4內(nèi)的水位到達(dá)設(shè)定的水位下限，閥門開始進(jìn)水，如此循環(huán)。
[0015]該裝置針對生產(chǎn)不同量值，在儲(chǔ)料缸I內(nèi)設(shè)置液位量程選擇，選擇某一個(gè)量程，開水進(jìn)入到達(dá)所需的量程之后，便停止給水。
[0016]采用本實(shí)用新型實(shí)施例給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，由于采用在儲(chǔ)料缸I底部設(shè)置變徑缸2，且變徑缸2的上部呈正梯形，可以有效防止物料往儲(chǔ)料缸I內(nèi)翻滾，并且待研磨的物料可以得到水煲4內(nèi)的水有效的加熱，受熱均勻，不糊底，無生水混雜，漿汁煮沸時(shí)無泡，衛(wèi)生，機(jī)動(dòng)性大。
[0017]以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，其特征在于，包括儲(chǔ)料缸，所述儲(chǔ)料缸底部通過變徑缸連通研磨機(jī)的入口，所述變徑缸的上部呈正梯形，所述變徑缸的下部呈倒梯形，所述變徑缸置于水堡內(nèi)。2.如權(quán)利要求1所述的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，其特征在于，所述水煲通過開水管連通儲(chǔ)料缸。3.如權(quán)利要求1或2所述的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，其特征在于，所述變徑缸內(nèi)的物料經(jīng)過所述水煲受熱進(jìn)入所述研磨機(jī)，所述研磨機(jī)內(nèi)的物料由循環(huán)栗通過循環(huán)管道栗回所述儲(chǔ)料缸。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，包括儲(chǔ)料缸，所述儲(chǔ)料缸底部通過變徑缸連通研磨機(jī)的入口，所述變徑缸的上部呈正梯形。所述變徑缸的下部呈倒梯形，所述變徑缸置于水煲內(nèi)。采用本實(shí)用新型給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，由于采用在儲(chǔ)料缸底部設(shè)置變徑缸，且變徑缸的上部呈正梯形，可以有效防止物料往儲(chǔ)料缸內(nèi)翻滾，并且待研磨的物料可以得到水煲內(nèi)的水有效的加熱，受熱均勻，不糊底，無生水混雜，漿汁煮沸時(shí)無泡，衛(wèi)生，機(jī)動(dòng)性大。
【IPC分類】B02C23/00
【公開號(hào)】CN205109827
【申請?zhí)枴緾N201520857332
【發(fā)明人】唐安校
【申請人】唐安校
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2015年10月29日