一種球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種噴霧裝置，特別是涉及一種球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置，屬于煙氣脫硝技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]煙氣脫硝技術(shù)中，選擇性非催化還原是在合適的煙氣溫度段內(nèi)噴入還原劑將其中氮氧化物還原為氮氣和水的過程。一般采用爐內(nèi)噴氨、尿素或氫氨酸作為還原劑還原氮氧化物。為了達到預期的脫硝效果，還原劑通常是以霧化形式噴入爐內(nèi)。因此在現(xiàn)有的回轉(zhuǎn)窯中，通常采用在窯內(nèi)頂部位置安裝多個噴頭，分別通過管路連接，并配置自動控制系統(tǒng)以控制還原劑噴入量達到提高脫硝效率的目的。但是位于窯內(nèi)頂部噴頭噴入還原劑必然造成還原劑在窯內(nèi)高度方向分布不均，頂部過剩溫度下降幅度大的問題。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型的目的是提供一種回轉(zhuǎn)窯煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置，解決窯內(nèi)還原劑噴霧不均的問題。
[0004]本實用新型的技術(shù)方案是這樣的:一種回轉(zhuǎn)窯煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置，包括環(huán)形管路支架、噴嘴板和調(diào)節(jié)板，所述環(huán)形管路支架包括同心固定連接的內(nèi)支架和外支架，所述內(nèi)支架和外支架均為環(huán)形槽鋼，所述內(nèi)支架和外支架的凹口相對設置；所述噴嘴板和調(diào)節(jié)板成環(huán)形設置在內(nèi)支架和外支架之間，所述噴嘴板和調(diào)節(jié)板與環(huán)形管路支架構(gòu)成內(nèi)部中空的環(huán)形管路，所述噴嘴板外側(cè)設有若干霧化噴嘴，所述調(diào)節(jié)板設有若干調(diào)節(jié)桿，所述調(diào)節(jié)桿穿過調(diào)節(jié)板，調(diào)節(jié)桿頭端設有用于遮擋霧化噴嘴與噴嘴板連接口的擋板。
[0005]在本實用新型的一個具體實施例中，所述噴嘴板和調(diào)節(jié)板可轉(zhuǎn)動地卡設在內(nèi)支架和外支架之間，所述噴嘴板外邊緣設有齒條，所述環(huán)形管路支架設有與齒條嚙合的齒輪，所述噴嘴板內(nèi)側(cè)設有盲孔，所述調(diào)節(jié)桿頭端設置在盲孔內(nèi)。
[0006]在本實用新型的一個具體實施例中，所述霧化噴嘴設置在噴嘴板環(huán)形等分位置，所述霧化噴嘴方向與噴嘴板垂直。
[0007]在本實用新型的一個具體實施例中，所述調(diào)節(jié)桿頭端設有擺動桿，所述擋板設置在擺動桿頭?而。
[0008]在本實用新型的一個具體實施例中，所述外支架的外側(cè)面設有與環(huán)形管路相隔離的空氣通路，所述空氣通路與霧化噴嘴的進氣口相連。
[0009]本實用新型所提供的技術(shù)方案的有益效果是，環(huán)形噴霧裝置垂直于煙氣流動方向布置在回轉(zhuǎn)窯內(nèi)，霧化噴嘴分布在整個煙氣流動截面，并且采用調(diào)節(jié)桿調(diào)節(jié)霧化噴嘴連接口大小，使得處于不同位置的霧化噴嘴還原劑噴射濃度可調(diào)。有效提高了整個煙氣流動截面的還原劑分布均勻度，促進還原反應，提高脫硝效率。并且通過設置的齒輪齒條裝置使噴嘴板得以轉(zhuǎn)動，以實時改變霧化噴嘴位置，進一步提高噴霧均勻性。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖2為圖1的AA截面示意圖。
[0012]圖3為圖1的BB截面示意圖。
【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合實施例對本實用新型作進一步說明，但不作為對本實用新型的限定。
[0014]請結(jié)合圖1、圖2及圖3，本實施例涉及的球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置，包括環(huán)形管路支架1、噴嘴板2和調(diào)節(jié)板3。環(huán)形管路支架I包括同心固定連接的內(nèi)支架11和外支架12，設置在回轉(zhuǎn)窯內(nèi)，并且平行于窯內(nèi)煙氣流動方向安裝。內(nèi)支架11和外支架12均為環(huán)形槽鋼，內(nèi)支架11和外支架12的凹口相對設置。噴嘴板2和調(diào)節(jié)板3可轉(zhuǎn)動地卡設在內(nèi)支架11和外支架12之間，噴嘴板2和調(diào)節(jié)板3與環(huán)形管路支架I構(gòu)成內(nèi)部中空的環(huán)形管路4，外支架12的外側(cè)面設有與環(huán)形管路4相隔離的空氣通路12a，如此形成外環(huán)為氣路，內(nèi)環(huán)為還原劑通道的結(jié)構(gòu)。噴嘴板2外側(cè)環(huán)形等分位置設有若干霧化噴嘴5，一般為八等分位置設置八個霧化噴嘴5，霧化噴嘴5方向與噴嘴板2垂直。霧化噴嘴5的還原劑入口設置在噴嘴板2上直接與環(huán)形管路4連通，霧化噴嘴5的進氣口則通過軟管與外支架12的外環(huán)氣路連通。調(diào)節(jié)板3上與霧化噴嘴相應地設八個調(diào)節(jié)桿6，調(diào)節(jié)桿6穿過調(diào)節(jié)板3，噴嘴板2內(nèi)側(cè)設有盲孔10，調(diào)節(jié)桿6頭端設置在盲孔10內(nèi)。調(diào)節(jié)桿6頭端設有擺動桿61，擺動桿61頭端設有用于遮擋霧化噴嘴5與噴嘴板2連接口的擋板7，轉(zhuǎn)動調(diào)節(jié)桿6的時候擺動桿61擺動帶動擋板7對霧化噴嘴5的還原劑入口形成遮擋。噴嘴板2外邊緣設有齒條8，環(huán)形管路支架I上設置與齒條8嚙合的齒輪9，通過齒輪9的轉(zhuǎn)動使得噴嘴板2和調(diào)節(jié)板3同時在環(huán)形管路支架I上轉(zhuǎn)動。
【主權(quán)項】
1.一種球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置，其特征在于:包括環(huán)形管路支架(1)、噴嘴板(2)和調(diào)節(jié)板(3)，所述環(huán)形管路支架(I)包括同心固定連接的內(nèi)支架(11)和外支架(12)，所述內(nèi)支架(11)和外支架(12)均為環(huán)形槽鋼，所述內(nèi)支架(11)和外支架(12)的凹口相對設置；所述噴嘴板(2)和調(diào)節(jié)板(3)成環(huán)形設置在內(nèi)支架(11)和外支架(12)之間，所述噴嘴板(2)和調(diào)節(jié)板(3)與環(huán)形管路支架(I)構(gòu)成內(nèi)部中空的環(huán)形管路(4)，所述噴嘴板(2)外側(cè)設有若干霧化噴嘴(5)，所述調(diào)節(jié)板(3)設有若干調(diào)節(jié)桿￠)，所述調(diào)節(jié)桿(6)穿過調(diào)節(jié)板(3)，調(diào)節(jié)桿(6)頭端設有用于遮擋霧化噴嘴(5)與噴嘴板(2)連接口的擋板(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置，其特征在于:所述噴嘴板(2)和調(diào)節(jié)板(3)可轉(zhuǎn)動地卡設在內(nèi)支架(11)和外支架(12)之間，所述噴嘴板(3)外邊緣設有齒條(8)，所述環(huán)形管路支架(I)設有與齒條(8)嚙合的齒輪(9)，所述噴嘴板⑶內(nèi)側(cè)設有盲孔(10)，所述調(diào)節(jié)桿(6)頭端設置在盲孔(10)內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置，其特征在于:所述霧化噴嘴(5)設置在噴嘴板(2)環(huán)形等分位置，所述霧化噴嘴(5)方向與噴嘴板(2)垂直。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置，其特征在于:所述調(diào)節(jié)桿(6)頭端設有擺動桿(61)，所述擋板(7)設置在擺動桿(61)頭端。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置，其特征在于:所述外支架(12)的外側(cè)面設有與環(huán)形管路(4)相隔離的空氣通路(12a)，所述空氣通路(12a)與霧化噴嘴(5)的進氣口相連。
【專利摘要】本實用新型公開了一種球團煙氣脫硝系統(tǒng)的還原劑環(huán)形噴霧裝置，包括環(huán)形管路支架、噴嘴板和調(diào)節(jié)板，所述環(huán)形管路支架包括同心固定連接的內(nèi)支架和外支架，所屬內(nèi)支架和外支架均為環(huán)形槽鋼，所述內(nèi)支架和外支架的凹口相對設置；所述噴嘴板和調(diào)節(jié)板成環(huán)形設置在內(nèi)支架和外支架之間，所述噴嘴板和調(diào)節(jié)板與環(huán)形管路支架構(gòu)成內(nèi)部中空的環(huán)形管路，所述噴嘴板外側(cè)設有若干霧化噴嘴，所述調(diào)節(jié)板設有若干調(diào)節(jié)桿，所述調(diào)節(jié)桿穿過調(diào)節(jié)板，調(diào)節(jié)桿頭端設有用于遮擋霧化噴嘴與噴嘴板連接口的擋板。該裝置有效改善還原劑噴霧均勻性，提高脫硝效率。
【IPC分類】B01D53-79, B01D53-56
【公開號】CN204601982
【申請?zhí)枴緾N201520211288
【發(fā)明人】趙頦宇, 趙躍
【申請人】常熟市華能環(huán)保工程有限公司
【公開日】2015年9月2日
【申請日】2015年4月9日