本技術(shù)涉及研磨設(shè)備，具體為一種高通量組織研磨設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、組織研磨儀是是一款名副其實(shí)的實(shí)驗(yàn)室多功能高效樣品制備儀器，是專(zhuān)門(mén)為“少量樣品”而推出的新產(chǎn)品，它通過(guò)碳化鎢小球或不銹鋼小珠在樣品管內(nèi)來(lái)回震蕩實(shí)現(xiàn)樣本的粉碎、混合、均化以及細(xì)胞破碎等，可以對(duì)硬性、軟性、彈性等樣品進(jìn)行快速的粉碎和均相化處理，符合理化分析實(shí)驗(yàn)室的要求，配置不同體積、不同材料的研磨罐，可以進(jìn)行干磨、濕磨及冷凍研磨，也可以進(jìn)行細(xì)胞破碎和dna/rna提?。?/p>

2、其中現(xiàn)有專(zhuān)利cn202221948563.x一種高通量組織研磨儀，其通過(guò)設(shè)置放置板，多個(gè)裝有組織樣本的試管本體，可以同時(shí)放置于放置板上，電機(jī)產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力，使得放置板上下移動(dòng)形成振動(dòng)，進(jìn)而使得多個(gè)試管本體振動(dòng)，試管本體內(nèi)樣品與研磨球相互碰撞，其產(chǎn)生的研磨剪切力和撞擊力使組織破碎，從而有效分離提取原始dna、rna。

3、但是，現(xiàn)有的試管本體尺寸不一，而組織研磨儀放置板大多只能針對(duì)一種試管尺寸，不能對(duì)多種不同試劑進(jìn)行同時(shí)快速的粉碎和均相化處理，適用性較低；因此，不滿足現(xiàn)有的需求，對(duì)此我們提出了一種高通量組織研磨設(shè)備。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種高通量組織研磨設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的現(xiàn)有的試管本體尺寸不一，而組織研磨儀放置板大多只能針對(duì)一種試管尺寸，不能對(duì)多種不同試劑進(jìn)行同時(shí)快速的粉碎和均相化處理，適用性較低等問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種高通量組織研磨設(shè)備，包括裝置外殼，所述裝置外殼的前端設(shè)有操作面板，所述裝置外殼的后端設(shè)有裝置密封蓋，所述裝置外殼的上端設(shè)有震動(dòng)座，所述震動(dòng)座上端的中心位置設(shè)有往復(fù)絲桿，所述往復(fù)絲桿的上端設(shè)有限位套，所述往復(fù)絲桿的底端貫穿震動(dòng)座延伸至裝置外殼的內(nèi)側(cè)，所述震動(dòng)座四端的兩側(cè)分別活動(dòng)連接有插塊a、插塊b和插塊c，所述震動(dòng)座兩側(cè)的底端均設(shè)有滑塊。

3、優(yōu)選的，所述插塊a、插塊b和插塊c的一端位于震動(dòng)座的內(nèi)側(cè)設(shè)有插槽，所述插塊a、插塊b和插塊c插接在插槽的內(nèi)側(cè)。

4、優(yōu)選的，所述插塊c設(shè)有兩個(gè)，所述插塊a、插塊b和插塊c的上端面分別設(shè)有插孔a、插孔b和插孔c，所述插孔c的直徑為插孔b的一倍，所述插孔b的直徑為插孔a的一倍。

5、優(yōu)選的，所述滑塊一端延伸至震動(dòng)座的內(nèi)側(cè)，所述滑塊上端位于震動(dòng)座的內(nèi)側(cè)設(shè)有限位柱，所述限位柱的上方位于插塊a、插塊b和插塊c的底端均設(shè)有限位槽，所述限位柱貫穿震動(dòng)座和插槽延伸至限位槽的內(nèi)側(cè)。

6、優(yōu)選的，所述滑塊的底端位于震動(dòng)座的內(nèi)側(cè)設(shè)有滑槽，所述滑槽的內(nèi)側(cè)設(shè)有彈簧，所述滑槽與彈簧通過(guò)螺栓固定連接，所述滑塊通過(guò)彈簧與震動(dòng)座活動(dòng)連接。

7、優(yōu)選的，所述往復(fù)絲桿的底端位于裝置外殼的內(nèi)側(cè)設(shè)有伺服電機(jī)，所述伺服電機(jī)與操作面板為電性連接。

8、優(yōu)選的，所述裝置密封蓋后側(cè)的下方位于裝置外殼的后端設(shè)有鉸鏈，所述裝置外殼和裝置密封蓋通過(guò)鉸鏈連接。

9、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

10、本實(shí)用新型通過(guò)震動(dòng)座四端的兩側(cè)分別活動(dòng)連接有插塊a、插塊b和插塊c，而插塊a、插塊b和插塊c上端的插孔a、插孔b和插孔c，可便于工作人員可放置不同尺寸的試劑，提高裝置的適用性，而當(dāng)研磨結(jié)束后，若插塊a、插塊b和插塊c需要更換或損壞時(shí)，則通過(guò)滑動(dòng)滑塊，滑塊在滑動(dòng)過(guò)程中，滑塊上端的限位柱脫離插塊a、插塊b和插塊c底端的限位槽中，進(jìn)而便于工作人員對(duì)插塊a、插塊b和插塊c拆裝更換。

技術(shù)特征：

1.一種高通量組織研磨設(shè)備，包括裝置外殼(1)，其特征在于：所述裝置外殼(1)的前端設(shè)有操作面板(3)，所述裝置外殼(1)的后端設(shè)有裝置密封蓋(2)，所述裝置外殼(1)的上端設(shè)有震動(dòng)座(5)，所述震動(dòng)座(5)上端的中心位置設(shè)有往復(fù)絲桿(6)，所述往復(fù)絲桿(6)的上端設(shè)有限位套(7)，所述往復(fù)絲桿(6)的底端貫穿震動(dòng)座(5)延伸至裝置外殼(1)的內(nèi)側(cè)，所述震動(dòng)座(5)四端的兩側(cè)分別活動(dòng)連接有插塊a(8)、插塊b(9)和插塊c(10)，所述震動(dòng)座(5)兩側(cè)的底端均設(shè)有滑塊(4)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高通量組織研磨設(shè)備，其特征在于：所述插塊a(8)、插塊b(9)和插塊c(10)的一端位于震動(dòng)座(5)的內(nèi)側(cè)設(shè)有插槽(501)，所述插塊a(8)、插塊b(9)和插塊c(10)插接在插槽(501)的內(nèi)側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高通量組織研磨設(shè)備，其特征在于：所述插塊c(10)設(shè)有兩個(gè)，所述插塊a(8)、插塊b(9)和插塊c(10)的上端面分別設(shè)有插孔a(11)、插孔b(12)和插孔c(13)，所述插孔c(13)的直徑為插孔b(12)的一倍，所述插孔b(12)的直徑為插孔a(11)的一倍。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高通量組織研磨設(shè)備，其特征在于：所述滑塊(4)一端延伸至震動(dòng)座(5)的內(nèi)側(cè)，所述滑塊(4)上端位于震動(dòng)座(5)的內(nèi)側(cè)設(shè)有限位柱(401)，所述限位柱(401)的上方位于插塊a(8)、插塊b(9)和插塊c(10)的底端均設(shè)有限位槽(14)，所述限位柱(401)貫穿震動(dòng)座(5)和插槽(501)延伸至限位槽(14)的內(nèi)側(cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高通量組織研磨設(shè)備，其特征在于：所述滑塊(4)的底端位于震動(dòng)座(5)的內(nèi)側(cè)設(shè)有滑槽，所述滑槽的內(nèi)側(cè)設(shè)有彈簧，所述滑槽與彈簧通過(guò)螺栓固定連接，所述滑塊(4)通過(guò)彈簧與震動(dòng)座(5)活動(dòng)連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高通量組織研磨設(shè)備，其特征在于：所述往復(fù)絲桿(6)的底端位于裝置外殼(1)的內(nèi)側(cè)設(shè)有伺服電機(jī)，所述伺服電機(jī)與操作面板(3)為電性連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高通量組織研磨設(shè)備，其特征在于：所述裝置密封蓋(2)后側(cè)的下方位于裝置外殼(1)的后端設(shè)有鉸鏈，所述裝置外殼(1)和裝置密封蓋(2)通過(guò)鉸鏈連接。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種高通量組織研磨設(shè)備，包括裝置外殼，所述裝置外殼的前端設(shè)有操作面板，所述裝置外殼的后端設(shè)有裝置密封蓋，所述裝置外殼的上端設(shè)有震動(dòng)座。本技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于：通過(guò)震動(dòng)座四端的兩側(cè)分別活動(dòng)連接有插塊A、插塊B和插塊C，而插塊A、插塊B和插塊C上端的插孔A、插孔B和插孔C，可便于工作人員可放置不同尺寸的試劑，提高裝置的適用性，而當(dāng)研磨結(jié)束后，若插塊A、插塊B和插塊C需要更換或損壞時(shí)，則通過(guò)滑動(dòng)滑塊，滑塊在滑動(dòng)過(guò)程中，滑塊上端的限位柱脫離插塊A、插塊B和插塊C底端的限位槽中，進(jìn)而便于工作人員對(duì)插塊A、插塊B和插塊C拆裝更換。

技術(shù)研發(fā)人員：劉小磊,李飛
受保護(hù)的技術(shù)使用者：云南標(biāo)馳檢測(cè)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240417
技術(shù)公布日：2024/12/19