本技術(shù)涉及半導(dǎo)體，特別是涉及一種改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

1、隨著技術(shù)節(jié)點不斷深入，對顯影單元的環(huán)境mist(水汽)及各工藝過程噴頭的潔凈程度等要求越來越高。

2、現(xiàn)有技術(shù)dev(顯影)單元在晶圓各工藝過程作業(yè)時，逸散環(huán)境含有大量顯影和純水的水汽，非作業(yè)時間，也會單獨在噴頭放置盒內(nèi)噴灑液體保持噴頭清潔；

3、噴灑液體產(chǎn)生的水汽，會逸散并在噴頭表面凝結(jié)，將影響先進制程產(chǎn)品的質(zhì)量。

4、為解決上述問題，需要提出一種新型的改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本實用新型的目的在于提供一種改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中噴灑液體產(chǎn)生的水汽，會逸散并在噴頭表面凝結(jié)，將影響先進制程產(chǎn)品的質(zhì)量的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實用新型提供一種改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，包括：

3、噴頭放置盒；

4、設(shè)置于所述噴頭放置盒中可動式的噴頭，所述噴頭用于噴灑清洗液；

5、延所述噴頭方向設(shè)置的第一、二導(dǎo)流板，第一、二導(dǎo)流板間形成有向下方的第一開口，所述清洗液的由位于所述第一、二導(dǎo)流板之間的空間流向所述第一開口的位置；

6、設(shè)置于所述開口下方的第三導(dǎo)流板，所述第三導(dǎo)流板向下傾斜設(shè)置與所述第一導(dǎo)流板間形成有第二開口，且所述第三導(dǎo)流板的非固定端延伸超過所述第一導(dǎo)流板非固定端的位置，所述清洗液由第一開口導(dǎo)流至第二開口；

7、設(shè)置于所述第一、三導(dǎo)流板之間的第四導(dǎo)流板，所述第四導(dǎo)流板的非固定端延伸至靠近所述第一導(dǎo)流板非固定端的位置，所述第四導(dǎo)流板與所述第一導(dǎo)流板間形成有第三開口；

8、所述噴頭放置盒的底部設(shè)置有導(dǎo)流面，所述導(dǎo)流面的最低端處設(shè)置有漏槽；

9、所述清洗液由第二開口導(dǎo)流至導(dǎo)流面上，再導(dǎo)流至所述漏槽中；

10、設(shè)置于所述噴頭放置盒上的排氣機構(gòu)。

11、優(yōu)選地，所述清洗液為純水。

12、優(yōu)選地，所述排氣機構(gòu)包括設(shè)置于所述噴頭放置盒上，且靠近所述第一開口的第一排氣泵。

13、優(yōu)選地，所述排氣機構(gòu)包括設(shè)置于所述噴頭放置盒上，且靠近所述第一、四導(dǎo)流板固定端之間的第二排氣泵。

14、優(yōu)選地，所述第一至四導(dǎo)流板的固定端均固定于所述噴頭放置盒的內(nèi)表面。

15、優(yōu)選地，所述第一至四導(dǎo)流板的導(dǎo)流部分為直板。

16、優(yōu)選地，所述漏槽和所述第三導(dǎo)流板之間還設(shè)置有第五導(dǎo)流板，所述第五導(dǎo)流板的一端固定連接于所述第三導(dǎo)流板非固定端的位置，另一端固定連接于所述漏槽上方的所述噴頭放置盒內(nèi)表面。

17、優(yōu)選地，所述結(jié)構(gòu)用于光刻機臺中的顯影單元。

18、如上所述，本實用新型的改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，具有以下有益效果：

19、本實用新型采用順應(yīng)噴頭噴涂方向設(shè)置導(dǎo)向板，避免液柱直接撞擊平面，杜絕因撞擊產(chǎn)生的飛濺；同時設(shè)計噴頭放置盒底部的液體緩流排氣結(jié)構(gòu)，使液體流暢底部排出，阻攔水汽升華并排出。

技術(shù)特征：

1.一種改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述清洗液為純水。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述排氣機構(gòu)包括設(shè)置于所述噴頭放置盒上，且靠近所述第一開口的第一排氣泵。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述排氣機構(gòu)包括設(shè)置于所述噴頭放置盒上，且靠近所述第一、四導(dǎo)流板固定端之間的第二排氣泵。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述第一至四導(dǎo)流板的固定端均固定于所述噴頭放置盒的內(nèi)表面。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述第一至四導(dǎo)流板的導(dǎo)流部分為直板。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述漏槽和所述第三導(dǎo)流板之間還設(shè)置有第五導(dǎo)流板，所述第五導(dǎo)流板的一端固定連接于所述第三導(dǎo)流板非固定端的位置，另一端固定連接于所述漏槽上方的所述噴頭放置盒內(nèi)表面。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述結(jié)構(gòu)用于光刻機臺中的顯影單元。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供一種改善噴頭污染的結(jié)構(gòu)，包括噴頭放置盒；設(shè)置于噴頭放置盒中可動式的噴頭，噴頭用于噴灑清洗液；延噴頭方向設(shè)置的第一、二導(dǎo)流板，第一、二導(dǎo)流板間形成有向下方的第一開口，清洗液的由位于第一二導(dǎo)流板之間的空間流向第一開口的位置；設(shè)置于開口下方的第三導(dǎo)流板，第三導(dǎo)流板向下傾斜設(shè)置與第一導(dǎo)流板間形成有第二開口，且第三導(dǎo)流板的非固定端延伸超過第一導(dǎo)流板非固定端的位置，清洗液由第一開口導(dǎo)流至第二開口。本技術(shù)采用順應(yīng)噴頭噴涂方向設(shè)置導(dǎo)向板，避免液柱直接撞擊平面，杜絕因撞擊產(chǎn)生的飛濺；同時設(shè)計噴頭放置盒底部的液體緩流排氣結(jié)構(gòu)，使液體流暢底部排出，阻攔水汽升華并排出。

技術(shù)研發(fā)人員：王波
受保護的技術(shù)使用者：上海華力集成電路制造有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240104
技術(shù)公布日：2024/12/19