1.一種用于晶元生產(chǎn)中的廢氣處理裝置，其特征在于，包括加熱腔（1）、冷卻腔（2）、廢水腔（3）、集氣腔（4），所述加熱腔（1）為中空腔體，內(nèi)部側(cè)壁上設(shè)置有電熱管（11），頂部設(shè)置有與內(nèi)部腔體連通的廢氣集合管（12），側(cè)邊上部設(shè)置有空氣管（13）；所述空氣管（13）延伸至加熱腔（1）內(nèi)部與腔體內(nèi)部的噴氣管（15）相連；所述噴氣管（15）上端延伸至加熱腔（1）內(nèi)壁頂部，且所述噴氣管（15）表面設(shè)置有氣孔（151）；加熱腔（1）下端設(shè)置有與冷卻腔（2）上端相連的耐高溫氣管（102），耐高溫氣管（102）與冷卻腔（2）內(nèi)部連通；所述冷卻腔（2）的內(nèi)壁頂部設(shè)置有噴淋頭（22），下方設(shè)置有廢水腔（3），側(cè)面設(shè)置有與集氣腔（4）相連的冷氣管（304）；所述廢水腔（3）通過水管（203）與噴淋頭（22）相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于晶元生產(chǎn)中的廢氣處理裝置，其特征在于，所述噴氣管（15）下端以螺旋狀向下延伸，所述氣孔（151）均勻分布于螺旋表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于晶元生產(chǎn)中的廢氣處理裝置，其特征在于，所述冷卻腔（2）的內(nèi)壁上部設(shè)置有倒八字型的中空隔板（21），所述隔板（21）下端表面上均勻設(shè)置有噴淋頭（22）。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于晶元生產(chǎn)中的廢氣處理裝置，其特征在于，所述隔板（21）下方設(shè)置有與冷卻腔（2）內(nèi)側(cè)壁相接的導(dǎo)板（23），所述導(dǎo)板（23）與隔板（21）平行；所述導(dǎo)板（23）的中間間隔處設(shè)置有可活動(dòng)的活塞（24）；所述活塞（24）通過下端的彈簧（25）與基板（26）連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于晶元生產(chǎn)中的廢氣處理裝置，其特征在于，所述活塞（24）的截面為三角形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于晶元生產(chǎn)中的廢氣處理裝置，其特征在于，所述集氣腔（4）的上部設(shè)置有氣水分離器（41），所述冷氣管（304）通過氣水分離器（41）與集氣腔（4）相連。