本實(shí)用新型屬于一種廢氣處理裝置,具體為一種用于晶元生產(chǎn)中的廢氣處理裝置。
背景技術(shù):
晶元(Wafer),是生產(chǎn)集成電路所用的載體,多指單晶硅圓片。其形狀為圓形,故也稱為晶圓。在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。單晶硅圓片由普通硅砂拉制提煉,經(jīng)過溶解、提純、蒸餾一系列措施制成單晶硅棒,單晶硅棒經(jīng)過拋光、切片之后,就成為了晶元。
隨著科學(xué)技術(shù)的突飛猛進(jìn),半導(dǎo)體制造技術(shù)日新月異,在晶元的生產(chǎn)過程中,大量的各種各樣的特殊氣體以及大宗氣體不斷被應(yīng)用到新的工藝中去,如N2O、SiH4等氣體,使晶圓表面生產(chǎn)二氧化硅緩沖層,但是同時在生成過程中卻也會產(chǎn)生大量的廢氣,廢氣需要進(jìn)行一些列的處理后,才能排放。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的是針對以上問題,提供一種用于晶元生產(chǎn)中的廢氣處理裝置,初步處理廢氣,通過加熱使氣體高溫分解、燃燒、然后進(jìn)行噴淋冷卻,同時溶解易溶性廢氣。
為實(shí)現(xiàn)以上目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種用于晶元生產(chǎn)中的廢氣處理裝置,包括加熱腔(1)、冷卻腔(2)、廢水腔(3)、集氣腔(4),所述加熱腔(1)為中空腔體,內(nèi)部側(cè)壁上設(shè)置有電熱管(11),頂部設(shè)置有與內(nèi)部腔體連通的廢氣集合管(12),側(cè)邊上部設(shè)置有空氣管(13);所述空氣管(13)延伸至加熱腔(1)內(nèi)部與腔體內(nèi)部的噴氣管(15)相連;所述噴氣管(15)上端延伸至加熱腔(1)內(nèi)壁頂部,且所述噴氣管(15)表面設(shè)置有氣孔(151);加熱腔(1)下端設(shè)置有與冷卻腔(2)上端相連的耐高溫氣管(102),耐高溫氣管(102)與冷卻腔(2)內(nèi)部連通;所述冷卻腔(2)的內(nèi)壁頂部設(shè)置有噴淋頭(22),下方設(shè)置有廢水腔(3),側(cè)面設(shè)置有與集氣腔(4)相連的冷氣管(304);所述廢水腔(3)通過水管(203)與噴淋頭(22)相連。
進(jìn)一步的,所述噴氣管(15)下端以螺旋狀向下延伸,所述氣孔(151)均勻分布于螺旋表面。
進(jìn)一步的,所述冷卻腔(2)的內(nèi)壁上部設(shè)置有倒八字型的中空隔板(21),所述隔板(21)下端表面上均勻設(shè)置有噴淋頭(22)。
進(jìn)一步的,所述隔板(21)下方設(shè)置有與冷卻腔(2)內(nèi)側(cè)壁相接的導(dǎo)板(23),所述導(dǎo)板(23)與隔板(21)平行;所述導(dǎo)板(23)的中間間隔處設(shè)置有可活動的活塞(24);所述活塞(24)通過下端的彈簧(25)與基板(26)連接。
進(jìn)一步的,所述活塞(24)的截面為三角形。
進(jìn)一步的,所述集氣腔(4)的上部設(shè)置有氣水分離器(41),所述冷氣管(304)通過氣水分離器(41)與集氣腔(4)相連。
本實(shí)用新型的有益效果:
1、初步處理廢氣,通過加熱使氣體高溫分解、燃燒、然后進(jìn)行噴淋冷卻,同時溶解易溶性廢氣;
2、螺旋狀的噴氣管使得內(nèi)部加熱腔內(nèi)部的廢氣能充分的與從空氣管進(jìn)入的壓縮空氣接觸,還能是內(nèi)部氣體流動,使得燃燒充分;
3、字型的中空隔板和導(dǎo)板形成了氣體通道,使冷卻腔內(nèi)的氣體能進(jìn)行二次噴淋,也更有利于可溶性廢氣的溶解;
4、本裝置的廢水腔的水采用部分循環(huán),節(jié)省資源同時不影響處理效果。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為圖1中B處的局部放大示意圖。
圖中所述文字標(biāo)注表示為:1、加熱腔;2、冷卻腔;3、廢水腔;4、集氣腔;5、自來水管;11、電熱管;12、廢氣集合管;13、空氣管;14、泵機(jī);15、噴氣管;151、氣孔;102、耐高溫氣管;21、隔板;22、噴淋頭;23、導(dǎo)板;24、活塞;25、彈簧;26、基板;203、水管; 41、氣水分離器;42、排氣管;304、冷氣管。
具體實(shí)施方式
為了使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案,下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述,本部分的描述僅是示范性和解釋性,不應(yīng)對本實(shí)用新型的保護(hù)范圍有任何的限制作用。
如圖1-圖2所示,本實(shí)用新型的具體結(jié)構(gòu)為:一種用于晶元生產(chǎn)中的廢氣處理裝置,包括加熱腔1、冷卻腔2、廢水腔3、集氣腔4,所述加熱腔1為中空腔體,內(nèi)部側(cè)壁上設(shè)置有電熱管11,頂部設(shè)置有與內(nèi)部腔體連通的廢氣集合管12,側(cè)邊上部設(shè)置有空氣管13;所述空氣管13延伸至加熱腔1內(nèi)部與腔體內(nèi)部的噴氣管15相連;所述噴氣管15上端延伸至加熱腔1內(nèi)壁頂部,且所述噴氣管15表面設(shè)置有氣孔151;加熱腔1下端設(shè)置有與冷卻腔2上端相連的耐高溫氣管102,耐高溫氣管102與冷卻腔2內(nèi)部連通;所述冷卻腔2的內(nèi)壁頂部設(shè)置有噴淋頭22,下方設(shè)置有廢水腔3,側(cè)面設(shè)置有與集氣腔4相連的冷氣管304;所述廢水腔3通過水管203與噴淋頭22相連。
進(jìn)一步的,所述噴氣管15下端以螺旋狀向下延伸,所述氣孔151均勻分布于螺旋表面。
進(jìn)一步的,所述冷卻腔2的內(nèi)壁上部設(shè)置有倒八字型的中空隔板21,所述隔板21下端表面上均勻設(shè)置有噴淋頭22;所述隔板21與水管203相連,使水通過隔板21內(nèi)部從噴淋頭22噴出。
進(jìn)一步的,所述隔板21下方設(shè)置有與冷卻腔2內(nèi)側(cè)壁相接的導(dǎo)板23,所述導(dǎo)板23與隔板21平行;所述導(dǎo)板23的中間間隔處設(shè)置有可活動的活塞24;所述活塞24通過下端的彈簧25與基板26連接。
進(jìn)一步的,所述活塞24的截面為三角形。
進(jìn)一步的,所述集氣腔4的上部設(shè)置有氣水分離器41,所述冷氣管304通過氣水分離器41與集氣腔4相連。
具體使用時,生產(chǎn)中產(chǎn)生的廢氣有泵機(jī)14集中抽送到廢氣集合管12內(nèi),然后進(jìn)入加熱腔1,進(jìn)入加熱腔1以后,通過電熱管11,在控制器以及溫控裝置下,使腔內(nèi)溫度達(dá)到700~800℃,讓一些氣體高溫分解;然后通過空氣管13吹入壓縮空氣,壓縮空氣從述噴氣管15表面設(shè)置的氣孔151排出,使廢氣燃燒分解;處理后的高溫氣體從耐高溫氣管102進(jìn)入到冷卻腔2,在冷卻腔2中,通過噴淋頭22噴淋降溫以及溶解,然后從導(dǎo)板23與隔板21形成的氣道通過,再一次噴淋,二次噴淋,也更有利于可溶性廢氣的溶解以及冷卻;沉積在導(dǎo)板23上的水,將擠壓活塞24向下運(yùn)動,如圖2箭頭方向流下,所述活塞24為三角形,不僅具有較好的密封效果,也可以為流出的水進(jìn)行導(dǎo)流,向外擴(kuò)散的分散流出,與氣體有更好的接觸效果;冷卻腔2的底部廢水積聚,并且流入下方的廢水腔3,而廢水腔3的部分水由泵機(jī)14經(jīng)水管203抽往冷卻腔1內(nèi)的噴淋頭22的管路中,部分廢水從廢水腔3底部排水口排出;噴淋頭22還與自來水管5相連,以補(bǔ)充新鮮的水,優(yōu)選的,在自來水管5上安裝一氣動水閥,通電時打開,斷電時關(guān)閉,為了防止突然停電以后,自來水管5一直補(bǔ)充水而溢出機(jī)臺,影響使用。經(jīng)過冷卻腔2冷卻后的廢氣經(jīng)冷氣管304通過氣水分離器41后,氣體從排氣管42排出,進(jìn)入下一處理工序;分離后的水從集氣腔4底部的水管排入到廢水腔3內(nèi)。
需要說明的是,在本文中,術(shù)語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含,從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素,而且還包括沒有明確列出的其他要素,或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。
本文中應(yīng)用了具體個例對本實(shí)用新型的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述,以上實(shí)例的說明只是用于幫助理解本實(shí)用新型的方法及其核心思想。以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,由于文字表達(dá)的有限性,而客觀上存在無限的具體結(jié)構(gòu),對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)、潤飾或變化,也可以將上述技術(shù)特征以適當(dāng)?shù)姆绞竭M(jìn)行組合;這些改進(jìn)潤飾、變化或組合,或未經(jīng)改進(jìn)將實(shí)用新型的構(gòu)思和技術(shù)方案直接應(yīng)用于其它場合的,均應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。