本發(fā)明涉及一種涂布設(shè)備，具體是一種兼顧擠壓式狹縫涂布和刮涂涂布功能的涂布設(shè)備。

背景技術(shù)：

刮涂是利用刮刀對漿料進行涂布的一種方式，刮刀一般是由金屬做成的刃狀物或棒狀物。通過刮刀與溶液附著平面的相對運動，完成涂布過程。因為刮涂設(shè)備簡單，刮刀價格較便宜，刮刀的整理清洗較為簡易，且能夠適應(yīng)各種物理性質(zhì)溶液，所以在各行業(yè)有廣泛的應(yīng)用。但由于其涂布薄膜的厚度控制達不到高精要求，故一些新興行業(yè)，如新型薄膜太陽能電池、新型顯示材料、光學(xué)功能膜、環(huán)保滲透膜等，需要使用可計量型擠壓式狹縫涂布。但是如果遇到粘度過大，固含量過高的溶液，其狹縫涂布方式也是無法實施。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的是提供了一種兼顧擠壓式狹縫涂布和刮涂涂布功能的涂布設(shè)備。

為達到上述目的，本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種兼顧擠壓式狹縫涂布和刮涂涂布功能的涂布設(shè)備，包括：

移動涂布平臺；

龍門式支架，其架設(shè)在所述移動涂布平臺的上方；

模頭支架，其安裝在所述龍門式支架的頂部；

狹縫涂布模頭，其安裝在所述模頭支架上；

刮刀，其安裝在所述模頭支架上。

本發(fā)明相較于現(xiàn)有技術(shù)，在實現(xiàn)涂布過程中，結(jié)合高精狹縫涂布設(shè)備的位置精控優(yōu)勢和刮刀涂布的便利性，達到一機兩用的目的。本設(shè)備具有如下優(yōu)勢：

1)

本技術(shù)：
設(shè)備的龍門式結(jié)構(gòu)特征，決定了可以實現(xiàn)精密控制刮刀位置，從而可以保證刮涂膜厚均勻性顯著優(yōu)于一般刮涂設(shè)備，提高原刮涂設(shè)備的精密性，實現(xiàn)精密的刮涂涂布；

2)拓寬了狹縫涂布設(shè)備的適用范圍；

3)可以先后完成高精密的狹縫涂布、精密的刮涂工藝，這樣可以增強工藝操作性，增加操作效率；

4)可以為客戶節(jié)約設(shè)備成本，減輕經(jīng)濟負(fù)擔(dān)。

進一步地，所述模頭支架兩端與所述龍門式支架間均設(shè)有高度調(diào)節(jié)機構(gòu)。

進一步地，所述移動涂布平臺下部設(shè)有大理石平臺。

采用上述優(yōu)選的方案，通過高度調(diào)節(jié)機構(gòu)分別調(diào)節(jié)模頭支架兩端高度，并采用大理石平臺進行校準(zhǔn)，提高了狹縫涂布模頭、刮刀的位置精度。

進一步地，所述模頭支架上安裝有狹縫涂布模頭固定支架，所述狹縫涂布模頭安裝在所述狹縫涂布模頭固定支架上。

進一步地，所述模頭支架上安裝有刮刀固定支架，所述刮刀安裝在所述刮刀固定支架上。

進一步地，所述狹縫涂布模頭固定支架與所述刮刀固定支架分別固定在所述模頭支架的兩側(cè)面。

采用上述優(yōu)選的方案，狹縫涂布模頭、刮刀安裝在同一模頭支架上，節(jié)約了設(shè)備占用空間及部件。

進一步地，所述刮刀固定支架上設(shè)有刮刀角度調(diào)節(jié)機構(gòu)。

采用上述優(yōu)選的方案，可以方便調(diào)整刮刀角度，以提高涂布質(zhì)量。

進一步地，所述刮刀固定支架上設(shè)有刮刀固定機構(gòu)。

進一步地，所述刮刀為線形刮刀或刮棒。

采用上述優(yōu)選的方案，可以快速對刮刀進行拆裝，提高裝置通用性。

進一步地，所述移動涂布平臺上對應(yīng)所述模頭支架的兩側(cè)各設(shè)置一個距離測量儀，用以測量所述狹縫涂布模頭與涂布平臺的絕對距離。

采用上述優(yōu)選的方案，可以精確調(diào)整涂膜厚度，提升涂膜質(zhì)量。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發(fā)明一種實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明另一種實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中數(shù)字和字母所表示的相應(yīng)部件的名稱：

1-移動涂布平臺；2-龍門式支架；3-模頭支架；4-狹縫涂布模頭；41-狹縫涂布模頭固定支架；5-刮刀；51-刮刀固定支架；52-刮刀角度調(diào)節(jié)機構(gòu)；53-刮刀固定機構(gòu)；6-高度調(diào)節(jié)機構(gòu)；7-大理石平臺。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

如圖1-2所示，本發(fā)明的一種實施方式為：一種兼顧擠壓式狹縫涂布和刮涂涂布功能的涂布設(shè)備，包括：

移動涂布平臺1；

龍門式支架2，其架設(shè)在移動涂布平臺1的上方；

模頭支架3，其安裝在龍門式支架2的頂部；

狹縫涂布模頭4，其安裝在模頭支架3上；

刮刀5，其安裝在模頭支架3上。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：在實現(xiàn)涂布過程中，結(jié)合高精狹縫涂布設(shè)備的位置精控優(yōu)勢和刮刀涂布的便利性，達到一機兩用的目的。

本設(shè)備具有如下優(yōu)勢：

1)本申請設(shè)備的龍門式結(jié)構(gòu)特征，決定了可以實現(xiàn)精密控制刮刀位置，從而可以保證刮涂膜厚均勻性顯著優(yōu)于一般刮涂設(shè)備，提高原刮涂設(shè)備的精密性，實現(xiàn)精密的刮涂涂布；

2)拓寬了狹縫涂布設(shè)備的適用范圍；

3)可以先后完成高精密的狹縫涂布、精密的刮涂工藝，這樣可以增強工藝操作性，增加操作效率；

4)可以為客戶節(jié)約設(shè)備成本，減輕經(jīng)濟負(fù)擔(dān)。

在本發(fā)明的另一些實施方式中，為了達到調(diào)節(jié)模頭位置的目的，模頭支架3兩端與龍門式支架2間均設(shè)有高度調(diào)節(jié)機構(gòu)6；移動涂布平臺1下部設(shè)有大理石平臺7。采用上述技術(shù)方案的有益效果是：通過高度調(diào)節(jié)機構(gòu)6分別調(diào)節(jié)模頭支架3兩端高度，并采用大理石平臺7進行校準(zhǔn)，提高了狹縫涂布模頭4、刮刀5的位置精度。

在本發(fā)明的另一些實施方式中，為了達到節(jié)約空間的目的，模頭支架3上安裝有狹縫涂布模頭固定支架41，狹縫涂布模頭4安裝在狹縫涂布模頭固定支架41上；模頭支架3上安裝有刮刀固定支架51，刮刀5安裝在刮刀固定支架51上；狹縫涂布模頭固定支架41與刮刀固定支架51分別固定在模頭支架3的兩側(cè)面。采用上述技術(shù)方案的有益效果是：狹縫涂布模頭4、刮刀5安裝在同一模頭支架3上，節(jié)約了設(shè)備占用空間及部件。

在本發(fā)明的另一些實施方式中，為了達到調(diào)節(jié)刮刀角度的目的，刮刀固定支架51上設(shè)有刮刀角度調(diào)節(jié)機構(gòu)52。采用上述技術(shù)方案的有益效果是：可以方便調(diào)整刮刀角度，以提高涂布質(zhì)量。

在本發(fā)明的另一些實施方式中，為了達到便于拆裝刮刀的目的，刮刀固定支架51上設(shè)有刮刀固定機構(gòu)53；刮刀5為線形刮刀或刮棒。采用上述技術(shù)方案的有益效果是：可以快速對刮刀5進行拆裝，提高裝置通用性。

上述實施例只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的在于讓本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并加以實施，并不能以此限制本發(fā)明的保護范圍，凡根據(jù)本發(fā)明精神實質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種兼顧擠壓式狹縫涂布和刮涂涂布功能的涂布設(shè)備，包括：移動涂布平臺；龍門式支架，其架設(shè)在所述移動涂布平臺的上方；模頭支架，其安裝在所述龍門式支架的頂部；狹縫涂布模頭，其安裝在所述模頭支架上；刮刀，其安裝在所述模頭支架上。在實現(xiàn)涂布過程中，結(jié)合高精狹縫涂布設(shè)備的位置精控優(yōu)勢和刮刀涂布的便利性，達到一機兩用的目的。本設(shè)備具有如下優(yōu)勢：1)可以精密控制刮刀位置，保證刮涂膜厚均勻性顯著優(yōu)于一般刮涂設(shè)備；2)拓寬了狹縫涂布設(shè)備的適用范圍；3)可以先后完成高精密的狹縫涂布、精密的刮涂工藝，這樣可以增強工藝操作性，增加操作效率；4)可以為客戶節(jié)約設(shè)備成本，減輕經(jīng)濟負(fù)擔(dān)。

技術(shù)研發(fā)人員：馮宗寶;歐陽俊波;張海鑾;程園園;章婷;劉德昂;曲亞東;錢磊;張德龍
受保護的技術(shù)使用者：蘇州威格爾納米科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.09.05
技術(shù)公布日：2017.11.17