技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種等離子體氣體處理裝置，包括殼體，所述殼體限定出一反應(yīng)腔；進(jìn)氣口和出氣口，分別設(shè)置在所述殼體的兩端，并與所述反應(yīng)腔連通；多個(gè)呈陣列設(shè)置的等離子體發(fā)生單元，且相鄰陣列的等離子體發(fā)生單元交叉設(shè)置；和控制單元，所述控制單元與所述等離子體發(fā)生單元連接。所述等離子體發(fā)生單元包括相對(duì)且間隔設(shè)置的正電極部和負(fù)電極部，正電極部包括位于反應(yīng)腔內(nèi)的第一放電體，負(fù)電極部包括位于反應(yīng)腔內(nèi)的第二放電體，第一放電體和第二放電體交錯(cuò)設(shè)置。所述控制單元用于控制第一放電體和第二放電體相對(duì)于殼體的旋轉(zhuǎn)。本發(fā)明的氣體處理裝置增強(qiáng)了反應(yīng)腔內(nèi)氣體的擾動(dòng)，不僅具有很好的氣體處理效果，而且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、制造成本低。

技術(shù)研發(fā)人員：劉忻;李祥
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州盟力環(huán)境科技有限公司
文檔號(hào)碼：201710146017
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.13
技術(shù)公布日：2017.06.27