1.一種等離子體聚合涂層裝置，包括真空室，其特征在于：所述真空室(1)側(cè)部的室體內(nèi)壁任一橫截面為相同直徑的圓或相同邊長的正多邊形，所述正多邊形邊數(shù)至少為6邊；
所述真空室(1)內(nèi)靠近真空室(1)的內(nèi)壁處安裝有多孔電極(2)，所述多孔電極(2)為與真空室內(nèi)壁保持間距的多孔弧面結(jié)構(gòu)，所述多孔電極與高頻電源(3)連接，所述真空室外壁上密封安裝有至少兩個放電腔(4)；
所述放電腔與真空室內(nèi)壁連接處設置有至少兩層金屬柵網(wǎng)(5)，所述金屬柵網(wǎng)與真空室內(nèi)壁絕緣，金屬柵網(wǎng)與脈沖電源(6)連接，所述放電腔(4)內(nèi)設有放電源(7)，放電源連接供電源(8)，所述放電腔連接有載體氣體管路(9)，載體氣體管路另一端連接到載體氣體源，單體蒸汽管路(10)連接到真空室內(nèi)，且其出口位于放電腔(4)前方，單體蒸汽管路另一端連接到單體蒸汽源；
所述真空室內(nèi)的中心軸上豎直安裝有尾氣收集管(11)，尾氣收集管一端伸出真空室后與真空泵連接，所述尾氣收集管的管壁上開孔；
所述真空室內(nèi)設置有旋轉(zhuǎn)置物架(12)，所述旋轉(zhuǎn)置物架的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，旋轉(zhuǎn)置物架上放置待處理基材。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體聚合涂層裝置，其特征在于：所述真空室(1)的頂蓋和底蓋為與真空室的側(cè)部室體內(nèi)壁橫截面匹配的平板或拱形結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體聚合涂層裝置，其特征在于：所述多孔電極(2)形狀為圓柱筒形狀或至少分成兩段圓柱弧面形狀，且所述多孔電極與真空室同軸，與真空室的內(nèi)壁間距為1-6cm，所述多孔電極(2)上布滿通孔，孔徑為2-30mm，孔間隔為2-30mm；所述與多孔電極連接的高頻電源(3)的功率是15-1000W。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體聚合涂層裝置，其特征在于：所述放電腔(4)為圓筒形，材質(zhì)是鋁、碳鋼或不銹鋼，直徑為5-20cm，深度為3-15cm，相鄰放電腔(4)軸線之間的間距為7-40cm；所述單體蒸汽管路(10)出口與放電腔(4)之間的距離為1-10cm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體聚合涂層裝置，其特征在于：所述金屬柵網(wǎng)(5)層數(shù)為2-6層，材質(zhì)是不銹鋼或鎳，網(wǎng)孔大小為100-1000目，透過率為25％-40％。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體聚合涂層裝置，其特征在于：所述脈沖電源(6)輸出正脈沖，其參數(shù)為：峰值20-140V、脈寬2μs-1ms、重復頻率20Hz-10kHz。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體聚合涂層裝置，其特征在于：所述放電源(7)是燈絲或電極或感應線圈或微波天線，且其放電功率為2-500W。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體聚合涂層裝置，其特征在于：所述尾氣收集管(11)內(nèi)徑為25-100mm，其管壁上均勻開孔，孔徑為2-30mm，孔間隔為2-100mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體聚合涂層裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)置物架的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，所述旋轉(zhuǎn)置物架可繞旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，所述旋轉(zhuǎn)置物架上對稱固定設置2-8層置物臺，所述置物臺上放置待處理的基材。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子體聚合涂層裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)置物架(12)的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，所述旋轉(zhuǎn)置物架可隨旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，所述旋轉(zhuǎn)置物架上對稱設置2-8根行星旋轉(zhuǎn)軸(13)，所述行星旋轉(zhuǎn)軸垂直于所述旋轉(zhuǎn)置物架(12)并可自轉(zhuǎn)；
所述行星旋轉(zhuǎn)軸上設置2-8層旋轉(zhuǎn)置物臺(14)，所述旋轉(zhuǎn)置物臺放置待處理的基材(15)。