技術(shù)編號：12812744
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型屬于等離子體工程技術(shù)領(lǐng)域，涉及到一種等離子體涂層裝置。背景技術(shù)等離子體聚合涂層處理是一種重要的表面處理方法，它是將需要處理的基材放在真空室內(nèi)，在真空狀態(tài)下通入工藝氣體和氣態(tài)有機類單體，通過放電把有機類氣態(tài)單體等離子體化，使其產(chǎn)生各類活性種，由這些活性種之間或活性種與單體之間進行加成反應(yīng)，在基材表面形成聚合物薄膜。在疏水薄膜等一些應(yīng)用中，納米尺度的等離子體聚合涂層具有優(yōu)異的特性。但是由于納米聚合物涂層的膜層很薄，它對涂層的均勻性有很高的要求?，F(xiàn)有的等離子體納米涂層裝置采用方形的真空室，在...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。