本實(shí)用新型屬于等離子體工程技術(shù)領(lǐng)域，涉及到一種等離子體涂層裝置。

背景技術(shù)：

等離子體聚合涂層處理是一種重要的表面處理方法，它是將需要處理的基材放在真空室內(nèi)，在真空狀態(tài)下通入工藝氣體和氣態(tài)有機(jī)類單體，通過放電把有機(jī)類氣態(tài)單體等離子體化，使其產(chǎn)生各類活性種，由這些活性種之間或活性種與單體之間進(jìn)行加成反應(yīng)，在基材表面形成聚合物薄膜。在疏水薄膜等一些應(yīng)用中，納米尺度的等離子體聚合涂層具有優(yōu)異的特性。但是由于納米聚合物涂層的膜層很薄，它對(duì)涂層的均勻性有很高的要求。現(xiàn)有的等離子體納米涂層裝置采用方形的真空室，在涂層處理過程中，治具及其上放置的基材在真空室內(nèi)的位置是固定的，由于同一批處理的不同基材在真空室內(nèi)的不同位置與電極、單體/載體氣體出口、真空排氣口等之間距離的差別，不可避免地會(huì)產(chǎn)生涂層均勻性的差別。為了減小這種批處理的不均勻性，現(xiàn)有的等離子體納米涂層裝置只能采用較小容積的真空室和較小的單次處理批量，這很大地降低了處理效率、增大了成本。而即使這樣，也仍然不能達(dá)到滿意的批處理均勻性。隨著目前納米聚合物涂層應(yīng)用的快速拓展，加工需求和批量急劇增加，解決目前等離子體納米涂層加工現(xiàn)有技術(shù)存在的批量小、效率低、成本高、批處理均勻性差的問題十分現(xiàn)實(shí)和緊迫。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種等離子體納米涂層裝置，以解決現(xiàn)有等離子體納米涂層裝置采用方形真空室的容積小、單次處理批量小，處理效率低、成本高、批處理均勻性不良的問題。

本實(shí)用新型技術(shù)方案是：一種等離子體聚合涂層裝置，包括真空室，其特征在于：所述真空室側(cè)部的室體內(nèi)壁任一橫截面為相同直徑的圓或相同邊長(zhǎng)的正多邊形，所述正多邊形邊數(shù)至少為6邊；

所述真空室內(nèi)靠近真空室的內(nèi)壁處安裝有多孔電極，所述多孔電極為與真空室內(nèi)壁保持間距的多孔弧面結(jié)構(gòu)，所述多孔電極與高頻電源連接，高頻電源的功率為15-1000W，多孔電極由高頻電源供電，放電時(shí)產(chǎn)生等離子體用于基材表面清潔和預(yù)處理；

所述真空室外壁上密封安裝有至少兩個(gè)放電腔；多孔電極與各放電腔可以根據(jù)工藝需要共同放電或分別獨(dú)立放電。

多孔電極產(chǎn)生等離子體用于清洗，即表面清潔：多孔電極較大功率連續(xù)放電產(chǎn)生較強(qiáng)等離子體，用于涂層前清洗基材表面的水氣、油污等有機(jī)物雜質(zhì)，還可以活化有機(jī)的基材，在其表面形成懸掛鍵，利于涂層的沉積，增強(qiáng)基材與涂層的結(jié)合力，多孔電極在涂層過程中不工作；

放電腔產(chǎn)生等離子體用于聚合：涂層過程中各放電腔內(nèi)較小功率放電產(chǎn)生較弱等離子體，由金屬柵網(wǎng)控制斷續(xù)釋放進(jìn)入真空室引發(fā)單體聚合并沉積在基材表面形成涂層。

所述放電腔與真空室內(nèi)壁連接處設(shè)置有至少兩層金屬柵網(wǎng)，所述金屬柵網(wǎng)與真空室內(nèi)壁絕緣，金屬柵網(wǎng)與脈沖電源連接，脈沖電源的作用是在金屬柵網(wǎng)上施加正脈沖偏壓，斷續(xù)釋放放電腔內(nèi)的等離子體進(jìn)入真空室，其中脈沖關(guān)斷期間等離子體被多層金屬柵網(wǎng)阻擋在放電腔內(nèi)，脈沖施加期間等離子體穿過多層金屬柵網(wǎng)進(jìn)入真空室以引發(fā)真空室內(nèi)的單體蒸汽發(fā)生聚合反應(yīng)。

所述放電腔內(nèi)設(shè)有放電源，放電源連接供電源，所述放電腔連接有載體氣體管路，載體氣體管路另一端連接到載體氣體源，單體蒸汽管路連接到真空室內(nèi)，且其出口位于放電腔前方，單體蒸汽管路另一端連接到單體蒸汽源；

所述真空室內(nèi)的中心軸上豎直安裝有尾氣收集管，尾氣收集管一端伸出真空室后與真空泵連接，所述尾氣收集管的管壁上開孔；

所述真空室內(nèi)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)置物架，所述旋轉(zhuǎn)置物架的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，旋轉(zhuǎn)置物架上放置待處理基材。

所述真空室的頂蓋和底蓋為與真空室的側(cè)部室體內(nèi)壁橫截面匹配的平板或球缺、正多邊形、橢球形等的拱形結(jié)構(gòu)。

所述多孔電極形狀為圓柱筒形狀或至少分成兩段圓柱弧面形狀，且所述多孔電極與真空室同軸，與真空室的內(nèi)壁間距為1-6cm，所述多孔電極上布滿通孔，孔徑為2-30mm，孔間隔為2-30mm。

所述放電腔為圓筒形，材質(zhì)是鋁、碳鋼或不銹鋼，直徑為5-20cm，深度為3-15cm，相鄰放電腔軸線之間的間距為7-40cm。

所述金屬柵網(wǎng)層數(shù)為2-6層，材質(zhì)是不銹鋼或鎳，網(wǎng)孔大小為100-1000目，透過率為25％-40％。

所述脈沖電源輸出正脈沖，其參數(shù)為：峰值20-140V、脈寬2μs-1ms、重復(fù)頻率20Hz-10kHz。

所述放電源是燈絲或電極或感應(yīng)線圈或微波天線，且其放電功率為2-500W。

所述單體蒸汽管路出口與放電腔之間的距離為1-10cm。

所述尾氣收集管內(nèi)徑為25-100mm，其管壁上均勻開孔，孔徑為2-30mm，孔間隔為2-100mm。

所述旋轉(zhuǎn)置物架的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，所述旋轉(zhuǎn)置物架可隨旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述旋轉(zhuǎn)置物架上對(duì)稱固定設(shè)置2-8層置物臺(tái)，所述置物臺(tái)上放置待處理的基材。

所述旋轉(zhuǎn)置物架的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，所述旋轉(zhuǎn)置物架可繞旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述旋轉(zhuǎn)置物架上對(duì)稱設(shè)置2-8根行星旋轉(zhuǎn)軸，所述行星旋轉(zhuǎn)軸垂直于所述旋轉(zhuǎn)置物架并可自轉(zhuǎn)；

所述行星旋轉(zhuǎn)軸上設(shè)置2-8層旋轉(zhuǎn)置物臺(tái)，所述旋轉(zhuǎn)置物臺(tái)放置待處理的基材。

本實(shí)用新型的有益效果是：

1、采用中心軸對(duì)稱真空室結(jié)構(gòu)保持空間聚合反應(yīng)活性物種濃度的穩(wěn)定性。

采用真空室側(cè)壁進(jìn)氣、徑向輸運(yùn)、中心軸向排氣的方式：

載體氣體管路在各放電腔內(nèi)設(shè)置出口，載體氣體經(jīng)由其管路送入各放電腔內(nèi)，再通過多層金屬柵網(wǎng)擴(kuò)散進(jìn)入真空室；單體蒸汽管路在真空室內(nèi)每個(gè)放電腔外前方設(shè)置出口，單體蒸汽經(jīng)由其管路送入真空室內(nèi)；在真空室軸線上與真空室共軸設(shè)置一個(gè)尾氣收集管，尾氣收集管縱向貫穿真空室，管端連通真空泵，管壁上均勻開孔，尾氣由尾氣收集管上的開孔進(jìn)入尾氣收集管，再由真空泵排出真空室。

上述采用真空室側(cè)壁進(jìn)氣、徑向輸運(yùn)、中心軸向排氣的方式中氣體輸運(yùn)過程是匯集的，這有利于提高空間聚合反應(yīng)活性物種濃度的穩(wěn)定性，活性物種分布更加均勻，其過程是：?jiǎn)误w蒸汽在各放電腔附近受等離子體作用產(chǎn)生聚合反應(yīng)活性物種；聚合反應(yīng)活性物種在載體氣體帶動(dòng)下沿徑向向真空室軸線方向輸運(yùn)；在輸運(yùn)過程中聚合反應(yīng)活性物種的數(shù)量不斷消耗減少，但是另一方面聚合反應(yīng)活性物種在輸運(yùn)過程中不斷地匯集，補(bǔ)償了數(shù)量的減少，使其濃度保持穩(wěn)定，真空室內(nèi)活性物種的體積密度保持不變，批處理均勻性良好，現(xiàn)有涂層設(shè)備和技術(shù)同批處理基材涂層厚度差別大于30％，而本實(shí)用新型的同批處理基材涂層厚度差別小于10％。

2、采用旋轉(zhuǎn)置物架可以顯著提高各個(gè)基材涂層的均勻性

真空室內(nèi)安裝有旋轉(zhuǎn)置物架；旋轉(zhuǎn)置物架上的置物臺(tái)真空室內(nèi)旋轉(zhuǎn)或做行星旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，特別是行星旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)是置物臺(tái)繞自身行星旋轉(zhuǎn)軸自轉(zhuǎn)，同時(shí)隨旋轉(zhuǎn)置物架的旋轉(zhuǎn)軸繞真空室同軸線公轉(zhuǎn)；置物臺(tái)上放置待處理的基材。行星旋轉(zhuǎn)使基材在涂層處理過程中所處的空間位置不斷變化，不同基材在一個(gè)完整的處理過程中所處的空間位置變化相同，從而消除現(xiàn)有技術(shù)中因不同基材所處的空間位置不同而造成的涂層效果的差別，使得各個(gè)基材處理程度相同，涂層效果基本一樣，各個(gè)基材之間的均勻性更好。

3、真空室體積可以大大增加，處理效率顯著提高

由于真空室結(jié)構(gòu)和置物架的改進(jìn)使得在大幅提高批處理涂層膜厚均勻性，真空室容積可以擴(kuò)大到目前真空室的5-6倍，批處理數(shù)量和處理效率相應(yīng)大幅提高。

4、多層?xùn)啪W(wǎng)對(duì)等離子體和單體都有阻滯作用

多層金屬柵網(wǎng)對(duì)載體氣體由放電腔向真空室的擴(kuò)散具有阻滯作用，使放電腔內(nèi)氣壓高于真空室內(nèi)氣壓；多層金屬柵網(wǎng)對(duì)單體蒸汽由真空室向放電腔的反擴(kuò)散具有阻滯作用，又由于放電腔內(nèi)氣壓高于真空室內(nèi)氣壓，使單體蒸汽不易反擴(kuò)散由真空室進(jìn)入放電腔，避免單體蒸汽被放電腔內(nèi)的連續(xù)放電等離子體過度分解破壞，本實(shí)用新型的裝置可以有效的保護(hù)單體蒸汽不被分解破壞，從而獲得非常好質(zhì)量的聚合物的涂層。

附圖說明

圖1為實(shí)施例1旋轉(zhuǎn)置物架上設(shè)置行星旋轉(zhuǎn)軸的等離子體聚合涂層裝置正面剖視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為圖1的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，1、真空室，2、多孔電極，3、高頻電源，4、放電腔，5、多層金屬柵網(wǎng)，6、脈沖電源，7、放電源，8、供電源，9、載體氣體管路，10、單體蒸汽管路，11、尾氣收集管，12、旋轉(zhuǎn)置物架，13行星旋轉(zhuǎn)軸，14、旋轉(zhuǎn)置物臺(tái)，15、基材。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合技術(shù)方案和附圖詳細(xì)敘述本實(shí)用新型的具體實(shí)施例。

實(shí)施例1

如圖1和圖2所述的一種等離子體聚合涂層裝置，包括真空室，真空室1側(cè)部的室體內(nèi)壁任一橫截面為相同直徑的圓，即真空室的室體的內(nèi)壁為圓柱體。

真空室1的頂蓋和底蓋為與真空室的側(cè)部室體內(nèi)壁橫截面匹配的球缺。

真空室1內(nèi)靠近真空室1的內(nèi)壁處安裝有多孔電極2，多孔電極2為與真空室內(nèi)壁保持間距的多孔弧面結(jié)構(gòu)，多孔電極與高頻電源3連接，真空室外壁上密封安裝有八個(gè)放電腔4；

多孔電極2形狀為圓柱筒形狀，且所述多孔電極與真空室同軸，與真空室的內(nèi)壁間距為1cm，多孔電極2上布滿通孔，孔徑為30mm，孔間隔為30mm；與多孔電極連接的高頻電源的功率是15W。

放電腔4為圓筒形，材質(zhì)是鋁，直徑為5cm，深度為15cm，相鄰放電腔4軸線之間的間距為40cm。單體蒸汽管路10出口與放電腔4之間的距離為1cm。

放電腔與真空室內(nèi)壁連接處設(shè)置有兩層金屬柵網(wǎng)5，金屬柵網(wǎng)與真空室內(nèi)壁絕緣，金屬柵網(wǎng)與脈沖電源6連接，放電腔4內(nèi)設(shè)有放電源7，放電源連接供電源8，放電腔連接有載體氣體管路9，載體氣體管路另一端連接到載體氣體源，單體蒸汽管路10連接到真空室內(nèi)，且其出口位于放電腔4前方，單體蒸汽管路另一端連接到單體蒸汽源。

金屬柵網(wǎng)材質(zhì)是不銹鋼，網(wǎng)孔大小為100目，透過率為40％。

脈沖電源6輸出正脈沖，其參數(shù)為：峰值20V、脈寬1ms、重復(fù)頻率10kHz。

放電源7是燈絲且其放電功率為2W。

真空室內(nèi)的中心軸上豎直安裝有尾氣收集管11，尾氣收集管一端伸出真空室后與真空泵連接，所述尾氣收集管的管壁上開孔；尾氣收集管11內(nèi)徑為25mm，其管壁上均勻開孔，孔徑為2mm，孔間隔為2mm。

真空室內(nèi)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)置物架12，旋轉(zhuǎn)置物架12的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，旋轉(zhuǎn)置物架可隨旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，旋轉(zhuǎn)置物架上對(duì)稱設(shè)置4根行星旋轉(zhuǎn)軸13，行星旋轉(zhuǎn)軸垂直于旋轉(zhuǎn)置物架12并可自轉(zhuǎn)；

行星旋轉(zhuǎn)軸上設(shè)置4層旋轉(zhuǎn)置物臺(tái)14，所述旋轉(zhuǎn)置物臺(tái)放置待處理的基材15。

實(shí)施例2

一種等離子體聚合涂層裝置，包括真空室1，真空室側(cè)部的室體內(nèi)壁任一橫截面為相同邊長(zhǎng)的正六多邊形；

真空室1的頂蓋和底蓋為與真空室的側(cè)部室體內(nèi)壁橫截面匹配的正六邊形的拱形結(jié)構(gòu)。

真空室1內(nèi)靠近真空室1的內(nèi)壁處安裝有多孔電極2，多孔電極2為與真空室內(nèi)壁保持間距的多孔弧面結(jié)構(gòu)，多孔電極與高頻電源3連接，真空室外壁上密封安裝有兩個(gè)放電腔4；

多孔電極2形狀為分成兩段圓柱弧面形狀，且所述多孔電極與真空室同軸，與真空室的內(nèi)壁間距為3cm，多孔電極2上布滿通孔，孔徑為18mm，孔間隔為15mm；與多孔電極連接的高頻電源的功率是500W。

放電腔4為圓筒形，材質(zhì)是碳鋼，直徑為20cm，深度為8cm，相鄰放電腔4軸線之間的間距為20cm。單體蒸汽管路10出口與放電腔4之間的距離為6cm。

放電腔與真空室內(nèi)壁連接處設(shè)置有四層金屬柵網(wǎng)5，金屬柵網(wǎng)與真空室內(nèi)壁絕緣，金屬柵網(wǎng)與脈沖電源6連接，放電腔4內(nèi)設(shè)有放電源7，放電源連接供電源8，放電腔連接有載體氣體管路9，載體氣體管路另一端連接到載體氣體源，單體蒸汽管路10連接到真空室內(nèi)，且其出口位于放電腔4前方，單體蒸汽管路另一端連接到單體蒸汽源。

金屬柵網(wǎng)材質(zhì)是鎳，網(wǎng)孔大小為600目，透過率為32％。

脈沖電源6輸出正脈沖，其參數(shù)為：峰值86V、脈寬0.1ms、重復(fù)頻率700Hz。

放電源7是電極且其放電功率為280W。

真空室內(nèi)的中心軸上豎直安裝有尾氣收集管11，尾氣收集管一端伸出真空室后與真空泵連接，所述尾氣收集管的管壁上開孔；尾氣收集管11內(nèi)徑為60mm，其管壁上均勻開孔，孔徑為16mm，孔間隔為55mm。

真空室內(nèi)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)置物架12，旋轉(zhuǎn)置物架12的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，旋轉(zhuǎn)置物架可隨旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，旋轉(zhuǎn)置物架上對(duì)稱設(shè)置2根行星旋轉(zhuǎn)軸13，行星旋轉(zhuǎn)軸垂直于旋轉(zhuǎn)置物架12并可自轉(zhuǎn)；

行星旋轉(zhuǎn)軸上設(shè)置8層旋轉(zhuǎn)置物臺(tái)14，所述旋轉(zhuǎn)置物臺(tái)放置待處理的基材15。

實(shí)施例3

一種等離子體聚合涂層裝置，包括真空室1，真空室側(cè)部的室體內(nèi)壁任一橫截面為相同邊長(zhǎng)的正九多邊形；

真空室1的頂蓋和底蓋為與真空室的側(cè)部室體內(nèi)壁橫截面匹配的正九邊形平板。

真空室1內(nèi)靠近真空室1的內(nèi)壁處安裝有多孔電極2，多孔電極2為與真空室內(nèi)壁保持間距的多孔弧面結(jié)構(gòu)，多孔電極與高頻電源3連接，真空室外壁上密封安裝有兩個(gè)放電腔4；

多孔電極2形狀為分成四段圓柱弧面形狀，且所述多孔電極與真空室同軸，與真空室的內(nèi)壁間距為6cm，多孔電極2上布滿通孔，孔徑為30mm，孔間隔為30mm；與多孔電極連接的高頻電源的功率是1000W。

放電腔4為圓筒形，材質(zhì)是不銹鋼，直徑為12cm，深度為3cm，相鄰放電腔4軸線之間的間距為7cm。單體蒸汽管路10出口與放電腔4之間的距離為10cm。

放電腔與真空室內(nèi)壁連接處設(shè)置有六層金屬柵網(wǎng)5，金屬柵網(wǎng)與真空室內(nèi)壁絕緣，金屬柵網(wǎng)與脈沖電源6連接，放電腔4內(nèi)設(shè)有放電源7，放電源連接供電源8，放電腔連接有載體氣體管路9，載體氣體管路另一端連接到載體氣體源，單體蒸汽管路10連接到真空室內(nèi)，且其出口位于放電腔4前方，單體蒸汽管路另一端連接到單體蒸汽源。

金屬柵網(wǎng)材質(zhì)是鎳，網(wǎng)孔大小為1000目，透過率為25％。

脈沖電源6輸出正脈沖，其參數(shù)為：峰值140V、脈寬2μs、重復(fù)頻率20Hz。

放電源7是微波天線且其放電功率為500W。

真空室內(nèi)的中心軸上豎直安裝有尾氣收集管11，尾氣收集管一端伸出真空室后與真空泵連接，所述尾氣收集管的管壁上開孔；尾氣收集管11內(nèi)徑為100mm，其管壁上均勻開孔，孔徑為30mm，孔間隔為100mm。

真空室內(nèi)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)置物架12，旋轉(zhuǎn)置物架12的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，旋轉(zhuǎn)置物架可隨旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，旋轉(zhuǎn)置物架上對(duì)稱設(shè)置8根行星旋轉(zhuǎn)軸13，行星旋轉(zhuǎn)軸垂直于旋轉(zhuǎn)置物架12并可自轉(zhuǎn)；

行星旋轉(zhuǎn)軸上設(shè)置2層旋轉(zhuǎn)置物臺(tái)14，所述旋轉(zhuǎn)置物臺(tái)放置待處理的基材15。

實(shí)施例4

一種等離子體聚合涂層裝置，包括真空室1，真空室側(cè)部的室體內(nèi)壁任一橫截面為相同邊長(zhǎng)的正十二多邊形；

真空室1的頂蓋和底蓋為與真空室的側(cè)部室體內(nèi)壁橫截面匹配的正十二邊形拱形結(jié)構(gòu)。

真空室1內(nèi)靠近真空室1的內(nèi)壁處安裝有多孔電極2，多孔電極2為與真空室內(nèi)壁保持間距的多孔弧面結(jié)構(gòu)，多孔電極與高頻電源3連接，真空室外壁上密封安裝有兩個(gè)放電腔4；

多孔電極2形狀為分成五段圓柱弧面形狀，且所述多孔電極與真空室同軸，與真空室的內(nèi)壁間距為5cm，多孔電極2上布滿通孔，孔徑為12mm，孔間隔為18mm；與多孔電極連接的高頻電源的功率是260W。

放電腔4為圓筒形，材質(zhì)是不銹鋼，直徑為16cm，深度為6cm，相鄰放電腔4軸線之間的間距為26cm。單體蒸汽管路10出口與放電腔4之間的距離為4cm。

放電腔與真空室內(nèi)壁連接處設(shè)置有七層金屬柵網(wǎng)5，金屬柵網(wǎng)與真空室內(nèi)壁絕緣，金屬柵網(wǎng)與脈沖電源6連接，放電腔4內(nèi)設(shè)有放電源7，放電源連接供電源8，放電腔連接有載體氣體管路9，載體氣體管路另一端連接到載體氣體源，單體蒸汽管路10連接到真空室內(nèi)，且其出口位于放電腔4前方，單體蒸汽管路另一端連接到單體蒸汽源。

金屬柵網(wǎng)材質(zhì)是鎳，網(wǎng)孔大小為360目，透過率為28％。

脈沖電源6輸出正脈沖，其參數(shù)為：峰值115V、脈寬160μs、重復(fù)頻率380Hz。

放電源7是燈絲且其放電功率為130W。

真空室內(nèi)的中心軸上豎直安裝有尾氣收集管11，尾氣收集管一端伸出真空室后與真空泵連接，所述尾氣收集管的管壁上開孔；尾氣收集管11內(nèi)徑為85mm，其管壁上均勻開孔，孔徑為18mm，孔間隔為38mm。

旋轉(zhuǎn)置物架的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，所述旋轉(zhuǎn)置物架可繞旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述旋轉(zhuǎn)置物架上對(duì)稱固定設(shè)置2層置物臺(tái)，所述置物臺(tái)上放置待處理的基材。

實(shí)施例5

一種等離子體聚合涂層裝置，包括真空室1，真空室側(cè)部的室體內(nèi)壁任一橫截面為相同直徑的圓，即真空室的室體的內(nèi)壁為圓柱體。

真空室1的頂蓋和底蓋為與真空室的側(cè)部室體內(nèi)壁橫截面匹配的圓形平板。

真空室1內(nèi)靠近真空室1的內(nèi)壁處安裝有多孔電極2，多孔電極2為與真空室內(nèi)壁保持間距的多孔弧面結(jié)構(gòu)，多孔電極與高頻電源3連接，真空室外壁上密封安裝有兩個(gè)放電腔4；

多孔電極2形狀為分成八段圓柱弧面形狀，且所述多孔電極與真空室同軸，與真空室的內(nèi)壁間距為2cm，多孔電極2上布滿通孔，孔徑為5mm，孔間隔為12mm；與多孔電極連接的高頻電源的功率是120W。

放電腔4為圓筒形，材質(zhì)是碳鋼，直徑為11cm，深度為8cm，相鄰放電腔4軸線之間的間距為20cm。單體蒸汽管路10出口與放電腔4之間的距離為7cm。

放電腔與真空室內(nèi)壁連接處設(shè)置有三層金屬柵網(wǎng)5，金屬柵網(wǎng)與真空室內(nèi)壁絕緣，金屬柵網(wǎng)與脈沖電源6連接，放電腔4內(nèi)設(shè)有放電源7，放電源連接供電源8，放電腔連接有載體氣體管路9，載體氣體管路另一端連接到載體氣體源，單體蒸汽管路10連接到真空室內(nèi)，且其出口位于放電腔4前方，單體蒸汽管路另一端連接到單體蒸汽源。

金屬柵網(wǎng)材質(zhì)是鎳，網(wǎng)孔大小為640目，透過率為30％。

脈沖電源6輸出正脈沖，其參數(shù)為：峰值58V、脈寬620μs、重復(fù)頻率55Hz。

放電源7是感應(yīng)線圈且其放電功率為480W。

真空室內(nèi)的中心軸上豎直安裝有尾氣收集管11，尾氣收集管一端伸出真空室后與真空泵連接，所述尾氣收集管的管壁上開孔；尾氣收集管11內(nèi)徑為45mm，其管壁上均勻開孔，孔徑為24mm，孔間隔為58mm。

旋轉(zhuǎn)置物架的旋轉(zhuǎn)軸與真空室的中心軸同軸，所述旋轉(zhuǎn)置物架可繞旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述旋轉(zhuǎn)置物架上對(duì)稱固定設(shè)置8層置物臺(tái)，所述置物臺(tái)上放置待處理的基材。