本實(shí)用新型涉及一種廢氣處理裝置。

背景技術(shù)：

酸性廢氣是一種常見(jiàn)的工業(yè)廢氣，酸性廢氣直接排放到大氣中，會(huì)嚴(yán)重污染環(huán)境，同時(shí)，這種酸性廢氣中經(jīng)常伴隨著一些有毒有害的有機(jī)廢氣，因此，在排放前需要對(duì)酸性廢氣中的酸性物質(zhì)和有機(jī)物進(jìn)行凈化。

目前傳統(tǒng)的廢氣污染治理技術(shù)有吸附法、冷凝法、生物法和燃燒法等。吸附法主要用活性炭吸附，凈化效果理想，但活性炭吸附飽和后需要再生，再生后的有機(jī)廢氣仍需處理。冷凝法應(yīng)用范圍受限。生物法投資和運(yùn)行費(fèi)用較低，但運(yùn)行操作復(fù)雜、占地面積較大，存在二次污染的可能性。催化燃燒法凈化效率高，但缺點(diǎn)是設(shè)備體積較大，一次性投資及設(shè)備運(yùn)行能耗較大，且存在安全隱患。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種廢氣處理裝置，不僅能夠?qū)λ嵝詮U氣中的酸性物質(zhì)進(jìn)行去除，同時(shí)也能夠降解酸性廢氣中的有機(jī)物，達(dá)到凈化氣體的目的。

本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是：

一種廢氣處理裝置，包括吸收塔本體，吸收塔本體的頂部為排氣口，吸收塔本體內(nèi)由上到下依次設(shè)置有除霧板、后置過(guò)濾層、低溫等離子模塊、噴淋管、填料層和儲(chǔ)液室，所述的填料層包括由下往上依次分布的填料支承板、填料和填料壓板，所述噴淋管的底部設(shè)置有一液體分布器，所述吸收塔本體的底部設(shè)置有一進(jìn)氣管，所述進(jìn)氣管由下往上依次穿過(guò)儲(chǔ)液室和填料支承板進(jìn)入填料，所述進(jìn)氣管的頂部出氣口設(shè)置有一氣體分布器，所述吸收塔本體的外部設(shè)置有一與儲(chǔ)液室相連通的溢流室，所述溢流室的頂部開(kāi)設(shè)有一溢流口，所述的溢流室內(nèi)設(shè)置有一水泵，所述的水泵通過(guò)管道與噴淋管相連通。

作為優(yōu)選，所述的儲(chǔ)液室內(nèi)儲(chǔ)存有氫氧化鈉吸收液，所述氫氧化鈉吸收液的液面不高于儲(chǔ)液室深度的2/3，所述儲(chǔ)液室在高于儲(chǔ)液室深度2/3區(qū)域的部位設(shè)置有一加藥口，所述的加藥口通過(guò)加藥管與一自動(dòng)加藥機(jī)相連，所述的溢流室內(nèi)設(shè)置有一PH探棒，所述的PH探棒與自動(dòng)加藥機(jī)相連，所述的自動(dòng)加藥機(jī)與一儲(chǔ)藥桶相連，所述的儲(chǔ)藥桶內(nèi)裝有氫氧化鈉固體。

作為優(yōu)選，所述的低溫等離子模塊為光化學(xué)耦合低溫等離子模塊，所述的光化學(xué)耦合低溫等離子模塊包括絕緣外殼、電暈極板、電暈線、脈沖等離子發(fā)生器和紫外線燈，所述絕緣外殼兩端對(duì)通，一端是氣體輸入端，另一端是氣體輸出端，所述電暈線和紫外線燈等間隔交替排成一直線，構(gòu)成電暈線紫外線燈組，所述電暈極板和電暈線紫外線燈組間隔交替平行排列，固定在絕緣外殼的相對(duì)側(cè)壁之間，所述脈沖等離子發(fā)生器的接地端和高壓端分別接電暈極板和電暈線，脈沖等離子發(fā)生器由可調(diào)電源供電，紫外線燈由穩(wěn)壓電源供電，所述的后置過(guò)濾層由下往上依次為前孔板、填料區(qū)和后孔板。

本實(shí)用新型采用噴淋液洗滌吸附，最大限度增加氣液相接觸，增進(jìn)氣液相傳質(zhì)速率，達(dá)到高效去除廢氣中酸性物質(zhì)的目的，并去除部分有機(jī)廢氣分子及異味，除塵脫硫效率高，采用堿性洗滌水時(shí)，脫硫效率可達(dá)85％，設(shè)備占地少，安裝方便，耗水、耗電指標(biāo)較低，耐腐蝕、不磨損，使用壽命長(zhǎng)，設(shè)備運(yùn)行可靠，維護(hù)簡(jiǎn)單、方便，同時(shí)，PH探棒能夠?qū)崟r(shí)探測(cè)到溢流室內(nèi)吸收液的PH值，并將探測(cè)結(jié)果反饋給自動(dòng)加藥機(jī)，自動(dòng)加藥機(jī)根據(jù)接收到的PH信息，控制儲(chǔ)藥桶內(nèi)的固體氫氧化鈉適時(shí)地加入到儲(chǔ)液室內(nèi)，低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體，放電過(guò)程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱(chēng)為低溫等離子體，低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的，等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高的物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的，低溫等離子體一般用來(lái)處理VOC有機(jī)廢氣，是利用高壓放電時(shí)候產(chǎn)生的高能電子和離子，分解廢氣分子，同時(shí)高能電子把氧分子分解成兩個(gè)氧原子，并與氧分子再次結(jié)合成臭氧，臭氧是強(qiáng)氧化劑，可以氧化有機(jī)污染物，水分子受轟擊分解成羥基自由基，也是強(qiáng)氧化劑，同樣可以氧化有機(jī)物，將紫外線和低溫等離子的電磁場(chǎng)有機(jī)地結(jié)合成一個(gè)整體，紫外線照射能促進(jìn)低溫等離子的反應(yīng)效果與速率，提高處理效率。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中：1.吸收塔本體，2.排氣口，3.除霧板，4.后置過(guò)濾層，5.低溫等離子模塊，6.噴淋管，7.填料層，71.填料支承板，72.填料，73.填料壓板，8.儲(chǔ)液室，9.進(jìn)氣管，10.溢流室，11.溢流口，12.水泵，13.管道，14.氫氧化鈉吸收液，15.加藥口，16.加藥管，17.自動(dòng)加藥機(jī)，18.PH探棒，19.儲(chǔ)藥桶，20.閥門(mén)。

具體實(shí)施方式

下面通過(guò)具體的實(shí)施例并結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

實(shí)施例1

如圖1所示，一種廢氣處理裝置，包括吸收塔本體1，吸收塔本體1的頂部為排氣口2，吸收塔本體1內(nèi)由上到下依次設(shè)置有除霧板3、后置過(guò)濾層4、低溫等離子模塊5、噴淋管6、填料層7和儲(chǔ)液室8，所述的填料層7包括由下往上依次分布的填料支承板71、填料72和填料壓板73，所述噴淋管6的底部設(shè)置有一液體分布器，所述吸收塔本體1的底部設(shè)置有一進(jìn)氣管9，所述進(jìn)氣管9由下往上依次穿過(guò)儲(chǔ)液室8和填料支承板71進(jìn)入填料72，所述進(jìn)氣管9的頂部出氣口設(shè)置有一氣體分布器，所述吸收塔本體1的外部設(shè)置有一與儲(chǔ)液室8相連通的溢流室10，所述溢流室10的頂部開(kāi)設(shè)有一溢流口11，所述的溢流室10內(nèi)設(shè)置有一水泵12，所述的水泵12通過(guò)管道13與噴淋管6相連通，所述的噴淋管6與管道13之間設(shè)置有一閥門(mén)20。

所述的儲(chǔ)液室8內(nèi)儲(chǔ)存有氫氧化鈉吸收液14，所述氫氧化鈉吸收液14的液面不高于儲(chǔ)液室8深度的2/3，所述儲(chǔ)液室8在高于儲(chǔ)液室8深度2/3區(qū)域的部位設(shè)置有一加藥口15，所述的加藥口15通過(guò)加藥管16與一自動(dòng)加藥機(jī)17相連，所述的溢流室10內(nèi)設(shè)置有一PH探棒18，所述的PH探棒18與自動(dòng)加藥機(jī)17相連，所述的自動(dòng)加藥機(jī)17與一儲(chǔ)藥桶19相連，所述的儲(chǔ)藥桶19內(nèi)裝有氫氧化鈉固體。

所述的低溫等離子模塊5為光化學(xué)耦合低溫等離子模塊，所述的光化學(xué)耦合低溫等離子模塊包括絕緣外殼、電暈極板、電暈線、脈沖等離子發(fā)生器和紫外線燈，所述絕緣外殼兩端對(duì)通，一端是氣體輸入端，另一端是氣體輸出端，所述電暈線和紫外線燈等間隔交替排成一直線，構(gòu)成電暈線紫外線燈組，所述電暈極板和電暈線紫外線燈組間隔交替平行排列，固定在絕緣外殼的相對(duì)側(cè)壁之間，所述脈沖等離子發(fā)生器的接地端和高壓端分別接電暈極板和電暈線，脈沖等離子發(fā)生器由可調(diào)電源供電，紫外線燈由穩(wěn)壓電源供電，所述的后置過(guò)濾層4由下往上依次為前孔板、填料區(qū)和后孔板，用于過(guò)濾廢氣中的塵粒等雜質(zhì)。

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體，放電過(guò)程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱(chēng)為低溫等離子體，低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的，等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高的物質(zhì)，如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的，低溫等離子體一般用來(lái)處理VOC有機(jī)廢氣，是利用高壓放電時(shí)候產(chǎn)生的高能電子和離子，分解廢氣分子，同時(shí)高能電子把氧分子分解成兩個(gè)氧原子，并與氧分子再次結(jié)合成臭氧，臭氧是強(qiáng)氧化劑，可以氧化有機(jī)污染物，水分子受轟擊分解成羥基自由基，也是強(qiáng)氧化劑，同樣可以氧化有機(jī)物，將紫外線和低溫等離子的電磁場(chǎng)有機(jī)地結(jié)合成一個(gè)整體，紫外線照射能促進(jìn)低溫等離子的反應(yīng)效果與速率，提高處理效率。

填料以亂堆方式放置在填料支承板上，填料的上方安裝填料壓板，以防被上升氣流吹動(dòng)，氫氧化鈉吸收液從噴淋管經(jīng)液體分布器噴淋到填料上，并沿填料表面流下，氣體從塔底送入，與氫氧化鈉吸收液呈逆流連續(xù)通過(guò)填料層的空隙，在填料表面上，氣液兩相密切接觸進(jìn)行傳質(zhì)。