本發(fā)明涉及一種保護膜制造技術(shù)，具體說，是特別涉及一種多功能的磨砂保護膜。
背景技術(shù)：
：隨著手機的發(fā)展，手機保護膜也隨之發(fā)展起來。市場上最先出現(xiàn)的是高透保護膜，隨后出現(xiàn)了磨砂保護膜，磨砂保護膜顯然彌補了高透保護膜的彩虹紋、觸感弱、反光等缺點。隨著市面的需要，也出現(xiàn)了鏡面、防窺、鋼化、鉆石等保護膜，但還不能滿足市場的需要。也相信很多人都會煩惱遭窺、汗?jié)n、指紋等現(xiàn)象，本發(fā)明能有效的解決，增強私密性，減少刺目炫光、手感穩(wěn)、有效抵御指紋侵襲，防刮度高。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種具有抗靜電的磨砂保護膜，不僅優(yōu)化國內(nèi)市場產(chǎn)品功能單一，而且方便用戶快捷體驗。為達到上述目的，本發(fā)明采用以下方案：一種具有抗靜電的磨砂保護膜，磨砂保護膜自上而下包括：磨砂層、基材、抗靜電層；磨砂層采用高分子量聚丙烯蠟，涂布于基材面上，厚度為2～7μm，透光率92％，霧度0.5～3％；基材為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯薄膜(PP)、聚氯乙烯薄膜(PVC)、PE膜中的一種，厚度為50～100μm；抗靜電層為聚環(huán)氧乙烷、仲烷基磺酸化合物的衍生物、改性有機磷酸酯、聚醚酯酰胺、聚乙二醇中的一種或幾種混合，厚度為3～10μm。在一些實施例中，所述基材為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜。在一些實施例中，所述抗靜電層的組成及重量份為：聚醚酯酰胺1～10份，制備中加入溶劑25～40份；所述溶劑為乙酸乙酯、甲苯或丁酮的一種及混配物，制備后揮發(fā)掉；述抗靜電層涂布于基材下面。在一些實施例中，所述磨砂層通過微凹輥涂布、網(wǎng)紋輥或噴刷方式，涂布于基材上面。在一些實施例中，所述抗靜電層涂布工藝微凹輥涂布、網(wǎng)紋輥、逗號式刮刀或Slot～Die，優(yōu)選逗號式刮刀涂布。一種具有抗靜電的磨砂保護膜的制備方法，方法如下：磨砂層涂布：在基材的上面涂布磨砂層，涂布工藝為微凹輥涂布、網(wǎng)紋輥或噴刷方式，優(yōu)選網(wǎng)紋輥涂布，形成磨砂層濕膜，經(jīng)過熱固，UV能量為500mJ/cm2，得到磨砂層；抗靜電層涂布：在1000級無塵車間，將基材下面電暈處理，進行抗靜電層涂布，涂布工藝為微凹輥涂布、網(wǎng)紋輥、逗號式刮刀或Slot～Die，制備中加入溶劑，形成抗靜電層濕膜，經(jīng)過烤箱，溶劑揮發(fā)，并烤干后形成抗靜電層干膜。在一些實施例中，所述磨砂層涂布工藝為網(wǎng)紋輥涂布；所述抗靜電層涂布工藝為逗號式刮刀涂布。本發(fā)明不僅防遭窺、汗?jié)n、指紋，而且具有較高的抗靜電效果防止靜電摩擦，保持清潔度，方便用戶保護視力、保護私密信息、不宜滑落摔屏體驗。涂布設(shè)備簡單，操作方便，成本低廉，便于推廣應(yīng)用，可實現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。附圖說明圖1為本發(fā)明實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標記說明：磨砂層10，基材20，抗靜電層30。具體實施方式為能進一步了解本發(fā)明的特征、技術(shù)手段以及所達到的具體目的、功能，解析本發(fā)明的優(yōu)點與精神，藉由以下通過實施例對本發(fā)明做進一步的闡述。本發(fā)明的抗靜電的磨砂保護膜，從上至下分別包括一層磨砂層10，一層基材20，一層抗靜電層30。磨砂層10用于防眩光、抵御指紋侵襲，解決觸感問題等，其原料為高分子量聚丙烯蠟，通過微凹輥涂布、網(wǎng)紋輥或噴刷方式，涂布于基材20層上面；磨砂層10厚度為2～7μm，透光率92％，霧度0.5～3％?；?0可以為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯薄膜(PP)、聚氯乙烯薄膜(PVC)、PE膜中的一種，優(yōu)選聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)；基材20厚度為50～100μm之間。抗靜電層30置于基材20下面，用于減少工作人員或用戶與膜之間的靜電摩擦，又不宜吸附四周塵埃、雜物，很好的保持潔凈度?？轨o電層30為聚環(huán)氧乙烷、仲烷基磺酸化合物的衍生物、改性有機磷酸酯、聚醚酯酰胺、聚乙二醇中的一種或幾種混合；優(yōu)選聚醚酯酰胺，涂布工藝可以為微凹輥涂布、網(wǎng)紋輥、逗號式刮刀或Slot～Die，優(yōu)選逗號式刮刀涂布，涂布于基材20層下面?？轨o電層30厚度為3～10μm，涂布厚度越厚抗靜電效果越佳。抗靜電層原料組成配比統(tǒng)計表(重量份)原料A組B組C組D組E組聚環(huán)氧乙烷23仲烷基磺酸化合物的衍生物85改性有機磷酸酯135聚醚酯酰胺12聚乙二醇21溶劑3528383033注：溶劑制備后揮發(fā)掉。本發(fā)明的涂布工藝如下：磨砂層10涂布：在基材20的上面涂布磨砂層10，涂布工藝可以微凹輥涂布、網(wǎng)紋輥或噴刷方式，優(yōu)選網(wǎng)紋輥涂布；形成磨砂層10濕膜，經(jīng)過熱固，UV能量為500mJ/cm2，得到磨砂層10；抗靜電層30涂布：在1000級無塵車間，將基材20電暈處理面為涂布面，進行抗靜電層30涂布，涂布工藝可以為微凹輥涂布、網(wǎng)紋輥、逗號式刮刀或Slot～Die，優(yōu)選逗號式刮刀涂布；制備中加入溶劑，形成的抗靜電層30濕膜經(jīng)過烤箱，溶劑揮發(fā)，并烤干后形成抗靜電層30干膜。以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的部分實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本發(fā)明范圍的限制。應(yīng)當指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準。當前第1頁1 2 3