本發(fā)明涉及熔爐煙氣處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種環(huán)保煙氣除塵設(shè)備。

背景技術(shù)：

熔爐主要是用來(lái)熔化一些金屬，然后用金屬熔漿鑄造成一些模具，尤其是現(xiàn)在隨著科技的發(fā)展，各行各業(yè)使用的設(shè)備、工具種類越來(lái)越多，越來(lái)越復(fù)雜，不能簡(jiǎn)單的利用自動(dòng)控制設(shè)備進(jìn)行加工，通常采用鑄造的方法鑄造出一些特地的模具和工件。鑄造是將金屬熔化后倒入特定的模具中形成所需要的工件，熔化金屬通常需要熔爐，金屬在熔化的過(guò)程中產(chǎn)生大量煙塵和氣體，為了不污染環(huán)境利用除塵器將煙塵去凈化掉。

現(xiàn)在熔爐除塵器都是采用重力除塵的方法，但是重力除塵只能除掉煙塵較大的顆粒，對(duì)較小的顆粒難以清除，同時(shí)煙氣內(nèi)含有的大量的水氣，時(shí)間久了在水氣的作用下煙塵附著在管道內(nèi)壁上，容易時(shí)管道堵塞。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，除塵效果顯著的環(huán)保煙氣除塵設(shè)備。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

一種環(huán)保煙氣除塵設(shè)備,它包括殼體,所述殼體內(nèi)部上部分設(shè)置有向右傾斜的擋板,所述擋板下部設(shè)置有電弧加熱器,所述殼體下端設(shè)置有排料口,所述殼體下部后側(cè)面設(shè)置有排氣口，所述殼體上部左側(cè)設(shè)置進(jìn)氣口。

優(yōu)選地，所述擋板與殼體左右兩側(cè)面間留有縫隙。

優(yōu)選地，所述電弧加熱器包括若干個(gè)并列分布的加熱管。

優(yōu)選地，所述排氣口與殼體連接處設(shè)置有濾網(wǎng)，所述排氣口內(nèi)設(shè)置有排風(fēng) 扇。

由于采用上述技術(shù)方案,本發(fā)明采用了傾斜的擋板，傾斜的擋板可以將顆粒煙塵附著在擋板上，然后在重力作用下顆粒煙塵滑落下去從排料口出去,在擋板下部設(shè)置有電弧加熱器,電弧加熱器可以干燥煙氣,防止水氣過(guò)多將煙塵附著在除塵器、管道內(nèi)造成堵塞，另外在排氣口處設(shè)置有濾網(wǎng)和排風(fēng)扇，濾網(wǎng)可以過(guò)濾一些顆粒煙塵，排放扇更好的將剩余的氣體從排氣口排出，不從排料口排出。

具體實(shí)施方式

以下對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但是本發(fā)明可以由權(quán)利要求限定和覆蓋的多種不同方式實(shí)施。

一種環(huán)保煙氣除塵設(shè)備,它包括殼體,殼體內(nèi)部上部分設(shè)置有向右傾斜的擋板,傾斜的擋板可以將煙塵顆粒物附著在擋板上，然后在重力作用下煙塵顆粒物滑落下去從排料口出去。擋板下部設(shè)置有電弧加熱器,電弧加熱器可以干燥煙氣,防止水氣過(guò)多將煙塵附著在除塵器、管道內(nèi)造成堵塞。殼體下端設(shè)置有排料口,排料口用于排放一些重力除塵后的煙塵顆粒物。

殼體下部后側(cè)面設(shè)置有排氣口，排氣口可接入空氣凈化器，由于熔爐燃燒室有一些硫化物、氮化物和碳化物氣體，這些氣體可以采用空氣凈化器進(jìn)行過(guò)濾處理；殼體上部左側(cè)設(shè)置進(jìn)氣口，熔爐燃燒室的煙氣從進(jìn)氣口進(jìn)入除塵裝置內(nèi)部進(jìn)行除塵。

進(jìn)一步的，擋板與殼體左右兩側(cè)面間留有縫隙，煙塵顆粒物可以從左側(cè)縫隙滑落下來(lái)，沒(méi)有附著在擋板上的煙氣從右側(cè)縫隙進(jìn)入殼體下部。

進(jìn)一步的，電弧加熱器包括若干個(gè)并列分布的加熱管，多組加熱管配合使用可以起到加熱的效果，下部的加熱管多于下部的加熱管，由于氣體是由上之 下流動(dòng)的，上部溫度低于下部溫度，則下部的加熱管要多于上層。

進(jìn)一步的，排氣口與殼體連接處設(shè)置有濾網(wǎng)，濾網(wǎng)可以過(guò)濾一些煙塵顆粒物，在重力作用下附著在濾網(wǎng)上的煙塵顆粒物掉落下來(lái)，通過(guò)排料口排出。排氣口內(nèi)設(shè)置有排風(fēng)扇，排放扇更好的將剩余的氣體從排氣口排出，不從排料口排出。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。