1.一種改進的CO焚燒爐SNCR脫硝裝置及其脫硝方法，包括串聯(lián)連接的液氨儲罐(1)、蒸發(fā)器(2)、緩沖罐(3)、混合器(4)和噴射機構(gòu)，噴射機構(gòu)與CO焚燒爐(5)相連，混合器(4)上連接有旁路進氣管(29)和進風(fēng)管(30)，其特征在于：所述噴射機構(gòu)包括位于CO焚燒爐(5)頂部的第一噴射槍(6)和位于CO焚燒爐(5)底部的第二噴射槍(7)，在CO焚燒爐(5)中部設(shè)置有若干個第三噴射槍(8)，第三噴射槍(8)在CO焚燒爐(5)的兩側(cè)交錯設(shè)置，相鄰兩個噴射槍之間設(shè)置有隔板(9)，CO焚燒爐(5)頂部的排煙口(10)連接有過濾水槽(11)，過濾水槽(11)通過旁路回流管(12)連接至CO焚燒爐(5)，旁路回流管(12)與旁路回流管(12)的連接點位于最高位置的第二噴射槍(7)與第一噴射槍(6)之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進的CO焚燒爐SNCR脫硝裝置，其特征在于：所述第一噴射槍(6)內(nèi)設(shè)置有第一噴射管路(13)，第一噴射管路(13)內(nèi)設(shè)置有若干層折流層，折流層包括若干個平行設(shè)置的折流板(14)，折流板(14)為彎折形狀，折流板(14)兩側(cè)的彎折部位等長，折流板(14)彎折的角度為25°～35°，折流板(14)彎折的方向朝向第一噴射管路(13)的出口處，第一噴射管路(13)的出口處設(shè)置有第一金屬絲網(wǎng)層(15)，第一噴射管路(13)的外側(cè)包裹有第一加熱層(16)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的改進的CO焚燒爐SNCR脫硝裝置，其特征在于：所述同層的相鄰兩個折流板(14)的間隙與折流板(14)的寬度之比為1∶2，不同層的折流板(14)之間交錯設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進的CO焚燒爐SNCR脫硝裝置，其特征在于：所述第二噴射槍(7)內(nèi)設(shè)置有第二噴射管路(17)，第二噴射管路(17)內(nèi)設(shè)置有孔板(18)，孔板(18)上的通孔的直徑為0.1mm～0.3mm，第二噴射管路(17)的外側(cè)設(shè)置有旁路管(19)，旁路管(19)的兩端分別位于孔板(18)的兩側(cè)，旁路管(19)的出射方向與第二噴射管路(17)的出射方向相反，其夾角為130°～150°，旁路管(19)出射口的下方 設(shè)置有擋板(20)，第二噴射管路(17)的出口處設(shè)置有霧化機構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的改進的CO焚燒爐SNCR脫硝裝置，其特征在于：所述霧化機構(gòu)包括縮口(21)，縮口(21)出口處設(shè)置有空腔(22)，空腔(22)內(nèi)填充有彈簧片(23)，縮口(21)的外側(cè)包裹有第二加熱層(28)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進的CO焚燒爐SNCR脫硝裝置，其特征在于：所述第三噴射槍(8)包括第三噴射管路(24)，第三噴射管路(24)外側(cè)套接有第四噴射管路(25)，第四噴射管路(25)內(nèi)設(shè)置有超聲波霧化器(26)和第三加熱層(27)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的改進的CO焚燒爐SNCR脫硝裝置，其特征在于：所述第三噴射管路(24)的內(nèi)徑與第三噴射管路(24)和第四噴射管路(25)之間的間距之比為7∶1。
8.一種使用上述權(quán)利要求1所述的改進的CO焚燒爐SNCR脫硝裝置的脫硝方法，其特征在于包括以下步驟：
A、液氨從液氨儲罐(1)流出，通過蒸發(fā)器(2)氣化，進過緩沖罐(3)穩(wěn)壓后在混合器(4)中與氫氣混合，然后通入空氣進行稀釋；混合氣體中氨氣、氫氣的含量分別為3.5wt％和7wt％，余量為空氣；
B、將混合氣體通過第一噴射槍(6)、第二噴射槍(7)和第三噴射槍(8)向CO焚燒爐(5)內(nèi)噴射；第一噴射槍(6)的噴射壓力為4bar～5bar，噴射為950℃～1050℃，第二噴射槍(7)的噴射壓力為2.5bar～4bar，噴射溫度為650℃～700℃，第三噴射槍(8)的噴射壓力為3.5bar～4.5bar，噴射溫度為700℃～800℃；CO焚燒爐(5)的燃燒溫度與第三噴射槍(8)的噴射溫度相等；
C、CO焚燒爐(5)內(nèi)的煙氣經(jīng)過燃燒，進入過濾水槽(11)，過濾水槽(11)中50％～70％的煙氣通過旁路回流管(12)回流入CO焚燒爐(5)內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的改進的CO焚燒爐SNCR脫硝裝置的脫硝方法，其特征在于：步驟B中，在第一噴射槍(6)內(nèi)注入二氧化硫氣體， 使得二氧化硫氣體占混合氣體整體的1wt％～1.5wt％；步驟C中，過濾水槽(11)內(nèi)的水含有10wt％～15wt％的氫氧化鈉。