一種易清洗的分散釜的制作方法
【專利摘要】本實用新型的易清洗的分散釜，在釜體內壁噴涂有陶瓷涂層；陶瓷涂層內壁噴涂有有機硅涂層；有機硅涂層內壁涂有氟碳涂層；分散釜釜體內壁的這些涂層具有優(yōu)異的憎水性和憎油性，對水性和油性涂料都具有不粘性，適應各種粘度物料的分散處理。
【專利說明】一種易清洗的分散釜

【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及高速攪拌分散裝置，具體的說是一種易清洗的分散釜。

【背景技術】
[0002] 分散釜是制備涂料時使用的一種高速攪拌設備。通過分散盤的高速運轉，對物料 進行剪切、撞擊、粉碎、分散，實現(xiàn)不同粘度物料間的混合、溶解、分散、細化的功能。分散釜 由釜體、釜蓋和分散裝置組成。由于物料具有腐蝕性和粘度，在分散過程中易在釜體內壁形 成滯留層，因此釜體常采用不銹鋼制造，并進行鏡面拋光處理。但在使用過程中發(fā)現(xiàn)，對于 高粘度物料形成的滯留層難以清洗。專利（申請?zhí)?01120556979. 2)提出的刮槳板方案，雖 然可清除高粘度物料分散時在釜體內壁形成的滯留層，但易造成對不銹鋼拋光面的破壞， 且仍存在清洗死角。


【發(fā)明內容】

[0003] 本實用新型為了克服以上缺陷，提供了一種結構簡單、清洗方便的易清洗分散釜。
[0004] 本實用新型是通過以下措施來實現(xiàn)的：
[0005] -種易清洗的分散釜，包括釜體，所述釜體內壁噴涂有陶瓷涂層；所述的陶瓷涂層 內壁噴涂有有機硅涂層；所述的有機硅涂層內壁涂有氟碳涂層。
[0006] 本實用新型的易清洗的分散釜，所述的陶瓷涂層厚度為5(Γ150 μ m。
[0007] 本實用新型的易清洗的分散釜，所述的有機硅涂層為厚度為15~30 μ m。
[0008] 本實用新型的易清洗的分散釜，所述的氟碳涂層厚度為15~30 μ m。
[0009] 本實用新型的有益效果是：本實用新型提供的易清洗的分散釜，分散釜釜體內壁 涂層具有優(yōu)異的憎水性和憎油性，對水性和油性涂料都具有不粘性，適應各種粘度物料的 分散處理。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010] 圖1表示易清洗的分散釜的結構示意圖。
[0011] 圖中：1釜體，2陶瓷涂層，3有機硅涂層，4氟碳涂層。

【具體實施方式】
[0012] 下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作具體的說明。
[0013] 一種易清洗分散釜，如圖1所示，包括釜體1，所述的釜體1內壁噴涂有陶瓷涂層 2,陶瓷涂層2的材料為納米陶瓷粉，陶瓷涂層2其厚度為5(Γ150 μ m ;所述的陶瓷涂層2內 壁噴涂有有機硅涂層3,有機硅涂層3使用的是改性有機硅涂層，其材料由納米Si02、ZnO、 聚四氟乙烯、有機硅混合制備；改性有機硅涂層的厚度為15~30 μ m;所述的有機硅涂層（3) 內壁涂有氟碳涂層4,氟碳涂層4采用的是改性氟碳涂層，其材料由納米Ti02、氟碳涂料混 合制備，改性氟碳涂層的厚度為15~30μηι。
[0014] 在釜體內壁噴涂陶瓷涂層2時要經過噴砂、噴涂工藝，噴涂氟碳涂層4和有機硅涂 層3時要通過噴砂、噴涂和固化處理工藝。
【權利要求】
1. 一種易清洗的分散釜，包括釜體（1)，其特征在于：所述釜體（1)內壁噴涂有陶瓷涂 層（2);所述的陶瓷涂層（2)內壁噴涂有有機硅涂層（3);所述的有機硅涂層（3)內壁涂有 氟碳涂層（4)。
2. 根據權利要求1所述的易清洗的分散釜，其特征在于：所述的陶瓷涂層（2)厚度為 50^150 μ m〇
3. 根據權利要求1所述的易清洗的分散釜，其特征在于：所述的有機硅涂層（3)為厚 度為15?30 μ m。
4. 根據權利要求1所述的易清洗的分散釜，其特征在于：所述的氟碳涂層（4)厚度為 15?30 μ m。
【文檔編號】B01F7/26GK203874711SQ201420001021
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年1月2日 優(yōu)先權日:2014年1月2日
【發(fā)明者】曹建梅, 李辛庚, 岳增武, 王學剛, 閆風潔, 王曉明, 樊志彬, 王宏, 郭凱 申請人:國家電網公司, 山東電力研究院