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一種石墨件除塵裝置的制作方法

文檔序號(hào):5037849閱讀:126來源:國知局
專利名稱:一種石墨件除塵裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體材料制備輔助設(shè)備,尤其涉及一種石墨件除塵裝置。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體材料的制備過程中,需要使用大量的石墨件,石墨件可以作為重錘或者籽晶夾頭、掛鉤進(jìn)行使用,眾所周知,由于石墨件的生產(chǎn)制造過程以及靜電吸附作用,無可避免,會(huì)在石墨件表面形成大量的石墨粉塵以及其他雜質(zhì),這些粉塵微粒以及其他雜質(zhì)的存在不僅對(duì)人體造成很大的傷害,而且,其落入硅熔體中也會(huì)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量造成很大的影響。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種可以有效去除石墨件表面雜質(zhì)的石墨件除塵裝置。為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提出一種石墨件除塵裝置,包括除塵室,所述除塵室設(shè)有通風(fēng)通道,所述除塵室的工作臺(tái)面設(shè)有出塵通道,所述出塵通道開口處設(shè)有過濾網(wǎng),所述過濾網(wǎng)下方設(shè)有支撐架。所述通風(fēng)通道設(shè)有鼓風(fēng)機(jī)。通過如上技術(shù)方案的提出,本實(shí)用新型具有如下有益效果本實(shí)用新型通過通風(fēng)通道去除石墨件表面灰塵以及其他雜質(zhì),從而實(shí)現(xiàn)環(huán)境友好,以及提高產(chǎn)品質(zhì)量。

下面根據(jù)附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例1提出的一種石墨件除塵裝置示意圖;圖中1、除塵室;2、出塵通道;3、通風(fēng)通道;4、過濾網(wǎng);5、支撐架。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1本實(shí)施例提出一種石墨件除塵裝置,包括除塵室1,除塵室1設(shè)有通風(fēng)通道3,通風(fēng)通道3設(shè)有鼓風(fēng)機(jī),除塵室1的工作臺(tái)面設(shè)有出塵通道2,出塵通道2開口處設(shè)有過濾網(wǎng)4, 過濾網(wǎng)4下方設(shè)有支撐架5。將石墨件放置于除塵室1內(nèi),開啟鼓風(fēng)機(jī),通過通風(fēng)通道3吸取石墨件表面灰塵以及雜質(zhì),同時(shí),為防止除塵室1工作臺(tái)上積滿灰塵導(dǎo)致石墨件被二次污染,其工作臺(tái)表面設(shè)有過濾網(wǎng)4以通過出塵通道2盡快除去遺留下的部分灰塵,同時(shí),為防止石墨件置于工作臺(tái)上使得過濾網(wǎng)4不堪重壓,影響工作臺(tái)的使用壽命,故在過濾網(wǎng)4下方安置支撐架5承重,本實(shí)用新型通過通風(fēng)通道3去除石墨件表面灰塵以及其他雜質(zhì),從而實(shí)現(xiàn)環(huán)境友好以及提高產(chǎn)品質(zhì)量。本實(shí)用新型并不局限于此實(shí)施方式,以本實(shí)用新型思想為基礎(chǔ)的相關(guān)實(shí)現(xiàn)總成均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種石墨件除塵裝置,其特征在于,包括除塵室(1),所述除塵室(1)設(shè)有通風(fēng)通道 (3),所述除塵室(1)的工作臺(tái)面設(shè)有出塵通道O),所述出塵通道(2)開口處設(shè)有過濾網(wǎng) G),所述過濾網(wǎng)(4)下方設(shè)有支撐架(5)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種石墨件除塵裝置,其特征在于,所述通風(fēng)通道(3)設(shè)有鼓風(fēng)機(jī)。
專利摘要本實(shí)用新型提出一種石墨件除塵裝置,包括除塵室,所述除塵室設(shè)有通風(fēng)通道,所述除塵室的工作臺(tái)面設(shè)有出塵通道,所述出塵通道開口處設(shè)有過濾網(wǎng),所述過濾網(wǎng)下方設(shè)有支撐架。本實(shí)用新型通過對(duì)石墨件進(jìn)行除塵處理,不僅可以避免石墨件表面的灰塵落入硅熔體中對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響,同時(shí),可以實(shí)現(xiàn)凈化環(huán)境,有效保證操作者安全。
文檔編號(hào)B01D46/10GK202185429SQ20112026024
公開日2012年4月11日 申請(qǐng)日期2011年7月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月21日
發(fā)明者劉宏, 張建中, 林平 申請(qǐng)人:天長市百盛半導(dǎo)體科技有限公司
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