專利名稱：一種冷氫化工藝用低阻文丘里洗滌器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種應(yīng)用于多晶硅冷氫化工藝的文丘里洗滌器。
背景技術(shù)：
目前，主流的多晶氫化工藝中分為熱氫化工藝及冷氫化工藝，冷氫化工藝因其較熱氫化工藝能耗更低而具有更廣闊的發(fā)展空間。但冷氫化工藝作為一個較新的工藝，其工藝過程的實現(xiàn)使得反應(yīng)氣中夾帶有細(xì)微硅粉，如果不對硅粉進(jìn)行處理會堵塞、磨損后續(xù)設(shè)備及管道，為此需要在降低反應(yīng)氣的溫度的同時除去反應(yīng)氣中夾帶的細(xì)微硅粉，但現(xiàn)有的除塵單元中文丘里洗滌器無法滿足要求。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是提供一種冷氫化工藝用低阻文丘里洗滌器，其解決了現(xiàn)有除塵單元中文丘里洗滌器無法除去反應(yīng)氣中夾帶的細(xì)微硅粉的技術(shù)問題。本發(fā)明的技術(shù)解決方案:一種冷氫化工藝用低阻文丘里洗滌器，其特殊之處在于:包括直立管狀殼體和噴淋裝置；所述殼體包括自上而下依次連接的氣體入口 1、接受段5、混合段8、氣體出口 9 ;所述接受段的直徑大于混合段直徑；所述噴淋裝置包括設(shè)置在接受段的洗滌液管2和三個噴頭；所述洗滌液管與外部洗滌液相通，其包括三個出口，其中一個出口設(shè)置在接受段上部中軸線處且開口朝下，另外兩個出口對稱分布于接受段下部且開口沿水平方向；所述每個出口設(shè)置一個噴頭；所述管狀殼體包括金屬殼體、設(shè)置在金屬殼體內(nèi)的耐磨陶瓷內(nèi)襯層12、設(shè)置在耐磨陶瓷內(nèi)襯層和金屬殼體間的金屬支撐圈13以及澆注在耐磨陶瓷內(nèi)襯層和金屬殼體間的燒注層14。上述噴淋裝置還包括對稱設(shè)置在接受段殼體上的兩個反射板10，所述設(shè)置在接受段下部的兩個出口分別對準(zhǔn)一個反射板。還包括調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)7和設(shè)置在接受段和混合段之間的喉部6，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)位于混合段內(nèi)，用于調(diào)節(jié)混合段的流通面積。本發(fā)明所具有的優(yōu)點(diǎn):1、本發(fā)明工藝應(yīng)用于需要在設(shè)備內(nèi)部進(jìn)行襯層處理的場合，適用于化工設(shè)備中的耐磨損陶瓷結(jié)構(gòu)與承壓金屬殼體間的連接，可滿足設(shè)計壓力達(dá)6.0MPa，設(shè)計溫度達(dá)150°C的使用環(huán)境，也適用于工作介質(zhì)帶有腐蝕的場合。2、本發(fā)明通過上部噴頭噴出的洗滌液膜后與下部頭噴出的洗滌液的碰撞，可實現(xiàn)反應(yīng)氣的充分降溫和除塵。3、本發(fā)明可根據(jù)負(fù)荷需要設(shè)計喉管尺寸來設(shè)計流通面積。4、本發(fā)明可通過混合段側(cè)面的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)來改變流通面積達(dá)到調(diào)節(jié)負(fù)荷的目的。5、本發(fā)明在入口處采用洗滌液來捕捉硅粉顆粒，減少了硅粉顆粒對殼體的沖擊磨損。
6、本發(fā)明設(shè)置有在接受段和混合段設(shè)置有喉部，通過改變反應(yīng)氣體流速，提高除塵效率。


圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中接受段的俯視圖；圖3為本發(fā)明殼體澆注前的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明殼體澆筑后的結(jié)構(gòu)示意圖；其中:1-氣體入口，2-洗滌液管，3-主噴頭，4-副噴頭、5-接受段，6_喉部，7_調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，8-混合段,9-氣體出口，10-反射板,11-金屬殼體,12-耐磨陶瓷內(nèi)襯層，13-金屬支撐圈，14-澆注層。
具體實施例方式本發(fā)明結(jié)構(gòu)如下:I設(shè)備為直立管狀結(jié)構(gòu)，氣體入口 I與氣體出口 9同一軸線；2設(shè)備由接受段5及混合段8組成，其中接受段直徑大于混合段直徑；3在接受段設(shè)置洗滌液管2，洗滌液管端部設(shè)置三個噴頭，其中上部噴頭與氣體出入口同軸并使得洗滌液由 噴頭噴出后覆蓋流通面積；下部兩個噴頭對稱均布，噴出的洗滌液通過設(shè)備內(nèi)部的反射板10達(dá)到洗漆液撞擊、分散的目的；4接受段與混合段直接連接，根據(jù)負(fù)荷需要可設(shè)置改變流通面積的喉管；5為滿足除塵要求，在混合段側(cè)面設(shè)置有調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)7滿足流通截面積改變的要求，通過改變流通截面積達(dá)到改變氣體流速的目的。管狀殼體，包括金屬殼體U、設(shè)置在金屬殼體內(nèi)的耐磨陶瓷內(nèi)襯層12、設(shè)置在耐磨陶瓷內(nèi)襯層和金屬殼體間的金屬支撐圈13以及澆注在耐磨陶瓷內(nèi)襯層和金屬殼體間的澆注層14 ;澆注層按以下重量份配制并攪拌均勻:水玻璃:0.5 2份，氟硅酸鈉:0.1
0.2份，石英粉:1.5 2.5份，砂子:2 3份,石子:3 4份；其中砂子及石子的大小根據(jù)耐磨陶瓷內(nèi)襯層與金屬殼體的間隙確定。燒注層的最佳重量份配比:水玻璃:1份，氟娃酸鈉:0.15份，石英粉:1.8份，砂子:2.4份，石子:3.3份。支撐圈為不銹鋼支撐圈。本發(fā)明原理:為了滿足冷氫化工藝去除反應(yīng)氣中夾帶細(xì)微硅粉的要求，本方案中的設(shè)備考慮了反應(yīng)氣的溫度(設(shè)計溫度550°C )、硅粉顆粒對設(shè)備的磨損、工藝流程中的壓降((0.08MPa)、材料選擇、洗滌液噴淋等方面問題。設(shè)備滿足冷氫化工藝硅粉顆粒去除的需要，使用液相的四氯化硅作為洗滌液直接對含硅粉顆粒的氣相進(jìn)行洗滌。高溫含固的反應(yīng)氣由設(shè)備入口進(jìn)行文丘里洗滌器后與主噴頭3噴出的洗滌液膜直接接觸，在反應(yīng)氣對洗滌液膜沖擊的過程中，反應(yīng)氣中的固體顆粒與洗滌液滴接觸，固體顆粒被洗滌液滴粘濕、包裹、捕捉，反應(yīng)氣穿過主噴頭噴出的洗滌液膜后與副噴頭4噴出的洗滌液進(jìn)行大部分的熱量交換，含固體顆粒的洗滌液進(jìn)一步凝聚而從反應(yīng)氣中去除混合進(jìn)入洗滌液中。含固體顆粒的洗滌液及反應(yīng)氣進(jìn)入較長的混合段后進(jìn)行進(jìn)一步的熱量交換以及氣液相流動的穩(wěn)定，最終從設(shè)備出口排出。如需對負(fù)荷調(diào)節(jié)，可通過混合段側(cè)面的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)改變流通面積達(dá)到調(diào)節(jié)目的。
權(quán)利要求
1.一種冷氫化工藝用低阻文丘里洗滌器，其特征在于:包括直立管狀殼體和噴淋裝置；所述殼體包括自上而下依次連接的氣體入口(I)、接受段(5)、混合段(8)、氣體出口(9);所述接受段的直徑大于混合段直徑；所述噴淋裝置包括設(shè)置在接受段的洗滌液管(2)和三個噴頭；所述洗滌液管與外部洗滌液相通，其包括三個出口，其中一個出口設(shè)置在接受段上部中軸線處且開口朝下，另外兩個出口對稱分布于接受段下部且開口沿水平方向；所述每個出口設(shè)置一個噴頭；所述管狀殼體包括金屬殼體、設(shè)置在金屬殼體內(nèi)的耐磨陶瓷內(nèi)襯層(12)、設(shè)置在耐磨陶瓷內(nèi)襯層和金屬殼體間的金屬支撐圈(13)以及澆注在耐磨陶瓷內(nèi)襯層和金屬殼體間的澆注層(14)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷氫化工藝用低阻文丘里洗滌器，其特征在于:所述噴淋裝置還包括對稱設(shè)置在接受段殼體上的兩個反射板(10)，所述設(shè)置在接受段下部的兩個出口分別對準(zhǔn)一個反射板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的冷氫化工藝用低阻文丘里洗滌器，其特征在于:還包括調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)(7)和設(shè)置在接受段和混合段之間的喉部(6)，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)位于混合段內(nèi)，用于調(diào)節(jié)混合段的流通面積。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種冷氫化工藝用低阻文丘里洗滌器，包括直立管狀殼體和噴淋裝置，殼體包括自上而下依次連接的氣體入口、接受段、混合段、氣體出口，接受段的直徑大于混合段直徑，噴淋裝置包括設(shè)置在接受段的洗滌液管和三個噴頭，洗滌液管與外部洗滌液相通，其包括三個出口，其中一個出口設(shè)置在接受段上部中軸線處且開口朝下，另外兩個出口對稱分布于接受段下部且開口沿水平方向，每個出口設(shè)置一個噴頭。本發(fā)明解決了現(xiàn)有除塵單元中文丘里洗滌器無法除去反應(yīng)氣中夾帶的細(xì)微硅粉的技術(shù)問題，可實現(xiàn)反應(yīng)氣的充分降溫和除塵。
文檔編號B01D47/10GK103170199SQ201110437019
公開日2013年6月26日 申請日期2011年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月20日
發(fā)明者鄧肇冬 申請人:西安航天遠(yuǎn)征流體控制股份有限公司