本發(fā)明涉及電解銅箔清洗的,尤其是涉及一種電解銅箔清洗設備。
背景技術(shù):
1、電解銅箔是指以銅材為主要原料,采用電解法生產(chǎn)的金屬銅箔。具體來說,它是以陰極銅或銅線為主要原料,在專用的電解設備中,通過電化學沉積法,使硫酸銅溶液中的銅離子在陰極還原成銅而制成原箔。然后,再對其進行表面粗化、固化、耐熱層、耐腐蝕層、防氧化層等表面處理,其中鋰電銅箔主要進行表面有機防氧化處理。最后,經(jīng)過分切、檢測等步驟制成成品。
2、目前電解銅箔被清洗后,通過熱風機進行吹干,由于電解銅箔的表面附著有大量水分,影響電解銅箔被吹干的效率,有待改進
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的目的在于提供一種電解銅箔清洗設備,為了提高電解銅箔被吹干的效率。
2、本發(fā)明提供的一種電解銅箔清洗設備采用如下的技術(shù)方案:包括清洗箱,所述清洗箱設置有容納腔,所述容納腔的內(nèi)壁連接有噴淋機構(gòu)、擦干機構(gòu)和吹干機構(gòu),所述擦干機構(gòu)位于所述噴淋機構(gòu)和所述吹干機構(gòu)之間,所述擦干機構(gòu)包括滑移連接在所述容納腔內(nèi)的兩個安裝塊,兩個所述安裝塊相向的一側(cè)均轉(zhuǎn)動連接有轉(zhuǎn)動輥,所述轉(zhuǎn)動輥的外周面連接有用于與電解銅箔貼合的擦干布,所述清洗箱連接有用于驅(qū)動兩個所述安裝塊朝相互靠近或相互遠離的方向滑移的驅(qū)動組件。
3、通過采用上述技術(shù)方案,電解銅箔依次經(jīng)過噴淋機構(gòu)、擦干機構(gòu)和吹干機構(gòu),噴淋機構(gòu)先對電解銅箔進行清洗。驅(qū)動組件驅(qū)動兩個安裝塊朝相互靠近的方向滑移,使得兩個擦干布分別與電解銅箔的兩側(cè)抵接,電解銅箔在移動的過程中,電解銅箔與擦干布的外周面活動抵接,擦干布帶動部分水分脫離電解銅箔,還有些水分被擦干布吸收,從而減少水分附著在電解銅箔上,提高了電解銅箔被吹干機構(gòu)吹干的效率。
4、可選的,所述轉(zhuǎn)動輥設置有兩個轉(zhuǎn)動柱,所述安裝塊設置有用于與相應的所述轉(zhuǎn)動柱轉(zhuǎn)動配合的轉(zhuǎn)動腔,所述轉(zhuǎn)動腔的開口呈縮口設置。
5、通過采用上述技術(shù)方案,安裝塊由彈性材料制成,在安裝轉(zhuǎn)動輥時,轉(zhuǎn)動柱卡入安裝腔,轉(zhuǎn)動柱帶動安裝塊產(chǎn)生彈性形變,使得轉(zhuǎn)動腔的開口尺寸變大,直至轉(zhuǎn)動柱完全卡入轉(zhuǎn)動腔,安裝塊彈性復位,使得轉(zhuǎn)動腔的開口尺寸變小,從而完成轉(zhuǎn)動輥的安裝,防止轉(zhuǎn)動柱在轉(zhuǎn)動的過程中脫離安裝塊。
6、可選的,所述安裝塊設置有兩個導向面,兩個所述導向面位于所述轉(zhuǎn)動腔的開口處,兩個所述導向面之間的距離朝靠近所述轉(zhuǎn)動腔的方向逐級減小。
7、通過采用上述技術(shù)方案,安裝轉(zhuǎn)動輥時,轉(zhuǎn)動柱與導向面活動抵接,導向面為轉(zhuǎn)動柱的移動起到導向的作用,導向面引導轉(zhuǎn)動柱朝靠近安裝腔的方向移動,提高了轉(zhuǎn)動輥的安裝效率。
8、可選的,所述清洗箱滑移連接有兩個滑移座,所述驅(qū)動組件用于驅(qū)動兩個所述滑移座朝相互靠近或相互遠離的方向滑移,兩個所述安裝塊滑移連接在相應的所述滑移座上,所述安裝塊與所述滑移座通過彈性件連接。
9、通過采用上述技術(shù)方案,通過彈性件便于調(diào)節(jié)電解銅箔被兩個擦干布夾緊的程度。
10、可選的,所述滑移座設置有用于與相應的所述安裝塊滑移配合的滑槽,所述安裝塊設置有導向塊,所述滑移座設置有用于與所述導向塊滑移配合的導向槽,所述導向槽與所述滑槽連通。
11、通過采用上述技術(shù)方案,當安裝塊滑移時,導向塊沿著導向槽滑移,導向塊與導向槽的滑移配合,對安裝塊的滑移起到導向和限位的作用,從而提高安裝塊滑移的穩(wěn)定性,提高擦干布與電解銅箔的抵接效果。
12、可選的,所述驅(qū)動組件包括轉(zhuǎn)動連接在所述清洗箱上的雙向絲桿和用于驅(qū)動所述雙向絲桿轉(zhuǎn)動的驅(qū)動件,所述驅(qū)動件連接在所述清洗箱上,每個所述滑移座連接有限位塊,所述清洗箱設置有用于與所述限位塊滑移配合的限位槽,每個所述限位塊均與所述雙向絲桿螺紋連接。
13、通過采用上述技術(shù)方案,驅(qū)動件驅(qū)動雙向絲桿繞著自身的軸心線,從而實現(xiàn)兩個限位塊朝相互靠近或相互遠離的方向滑移,即兩個滑移座朝相互靠近或相互遠離的方向滑移,限位塊與限位槽的滑移配合,對滑移座的滑移起到導向和限位的作用,從而防止滑移座在滑移的過程中出現(xiàn)轉(zhuǎn)動的情況發(fā)生。
14、可選的,所述噴淋機構(gòu)包括連接在所述清洗箱上的進水管和兩個與所述進水管連接的連接水管,兩個所述連接水管相向的一側(cè)連接有若干個出水管,所述進水管連接有泵。
15、通過采用上述技術(shù)方案,開啟泵,水通過進水管進入兩個連接水管,連接水管內(nèi)的水通過各個出水管排出,使得電解銅箔的兩側(cè)被水清洗。
16、可選的,所述吹干機構(gòu)包括連接在所述清洗箱上的進風管和兩個與所述進風管連接的連接風管,所述進風管連接有熱風機,兩個所述連接風管相向的一側(cè)連接有若干個出風管。
17、通過采用上述技術(shù)方案,打開熱風機,熱風通過進風管進入兩個連接風管,連接風管內(nèi)的熱風從各個出風管排出,熱風吹干電解銅箔的兩側(cè)。
18、可選的,所述清洗箱連接有兩組導向輥,所述噴淋機構(gòu)、所述擦干機構(gòu)和所述吹干機構(gòu)位于兩組所述導向輥之間。
19、通過采用上述技術(shù)方案,兩組導向輥對電解銅箔的移動起到導向和限位的作用,提高電解銅箔依次穿過噴淋機構(gòu)、擦干機構(gòu)和吹干機構(gòu)的效果。
20、可選的,每組所述導向輥包括兩個所述導向輥,兩個所述導向輥轉(zhuǎn)動連接在所述清洗箱上,兩個所述導向輥呈豎直設置。
21、通過采用上述技術(shù)方案,導向輥呈豎直設置,即電解銅箔呈豎向移動,水清洗電解銅箔后,附著在電解銅箔上的水分受重力的影響脫離電解銅箔,從而減少水分附著在電解銅箔上,提高了電解銅箔被吹干機構(gòu)吹干的效率。
22、綜上所述,本發(fā)明包括以下至少一種有益技術(shù)效果:
23、1、電解銅箔在移動的過程中,電解銅箔與擦干布的外周面活動抵接,擦干布帶動部分水分脫離電解銅箔,還有些水分被擦干布吸收,從而減少水分附著在電解銅箔上,提高了電解銅箔被吹干機構(gòu)吹干的效率。
24、2、導向輥呈豎直設置,即電解銅箔呈豎向移動,水清洗電解銅箔后,附著在電解銅箔上的水分受重力的影響脫離電解銅箔,從而減少水分附著在電解銅箔上,提高了電解銅箔被吹干機構(gòu)吹干的效率。
1.一種電解銅箔清洗設備,其特征在于:包括清洗箱(1),所述清洗箱(1)設置有容納腔(11),所述容納腔(11)的內(nèi)壁連接有噴淋機構(gòu)(2)、擦干機構(gòu)(3)和吹干機構(gòu)(4),所述擦干機構(gòu)(3)位于所述噴淋機構(gòu)(2)和所述吹干機構(gòu)(4)之間,所述擦干機構(gòu)(3)包括滑移連接在所述容納腔(11)內(nèi)的兩個安裝塊(33),兩個所述安裝塊(33)相向的一側(cè)均轉(zhuǎn)動連接有轉(zhuǎn)動輥(35),所述轉(zhuǎn)動輥(35)的外周面連接有用于與電解銅箔貼合的擦干布(351),所述清洗箱(1)連接有用于驅(qū)動兩個所述安裝塊(33)朝相互靠近或相互遠離的方向滑移的驅(qū)動組件(32)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解銅箔清洗設備,其特征在于:所述轉(zhuǎn)動輥(35)設置有兩個轉(zhuǎn)動柱(352),所述安裝塊(33)設置有用于與相應的所述轉(zhuǎn)動柱(352)轉(zhuǎn)動配合的轉(zhuǎn)動腔(332),所述轉(zhuǎn)動腔(332)的開口呈縮口設置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電解銅箔清洗設備,其特征在于:所述安裝塊(33)設置有兩個導向面(333),兩個所述導向面(333)位于所述轉(zhuǎn)動腔(332)的開口處,兩個所述導向面(333)之間的距離朝靠近所述轉(zhuǎn)動腔(332)的方向逐級減小。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解銅箔清洗設備,其特征在于:所述清洗箱(1)滑移連接有兩個滑移座(31),所述驅(qū)動組件(32)用于驅(qū)動兩個所述滑移座(31)朝相互靠近或相互遠離的方向滑移,兩個所述安裝塊(33)滑移連接在相應的所述滑移座(31)上,所述安裝塊(33)與所述滑移座(31)通過彈性件(34)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電解銅箔清洗設備,其特征在于:所述滑移座(31)設置有用于與相應的所述安裝塊(33)滑移配合的滑槽(312),所述安裝塊(33)設置有導向塊(331),所述滑移座(31)設置有用于與所述導向塊(331)滑移配合的導向槽(313),所述導向槽(313)與所述滑槽(312)連通。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電解銅箔清洗設備,其特征在于:所述驅(qū)動組件(32)包括轉(zhuǎn)動連接在所述清洗箱(1)上的雙向絲桿(321)和用于驅(qū)動所述雙向絲桿(321)轉(zhuǎn)動的驅(qū)動件(322),所述驅(qū)動件(322)連接在所述清洗箱(1)上,每個所述滑移座(31)連接有限位塊(311),所述清洗箱(1)設置有用于與所述限位塊(311)滑移配合的限位槽(15),每個所述限位塊(311)均與所述雙向絲桿(321)螺紋連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解銅箔清洗設備,其特征在于:所述噴淋機構(gòu)(2)包括連接在所述清洗箱(1)上的進水管(21)和兩個與所述進水管(21)連接的連接水管(22),兩個所述連接水管(22)相向的一側(cè)連接有若干個出水管(24),所述進水管(21)連接有泵(23)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解銅箔清洗設備,其特征在于:所述吹干機構(gòu)(4)包括連接在所述清洗箱(1)上的進風管(41)和兩個與所述進風管(41)連接的連接風管(42),所述進風管(41)連接有熱風機(43),兩個所述連接風管(42)相向的一側(cè)連接有若干個出風管(44)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解銅箔清洗設備,其特征在于:所述清洗箱(1)連接有兩組導向輥(13),所述噴淋機構(gòu)(2)、所述擦干機構(gòu)(3)和所述吹干機構(gòu)(4)位于兩組所述導向輥(13)之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電解銅箔清洗設備,其特征在于:每組所述導向輥(13)包括兩個所述導向輥(13),兩個所述導向輥(13)轉(zhuǎn)動連接在所述清洗箱(1)上,兩個所述導向輥(13)呈豎直設置。