1.一種晶體加工用水循環(huán)裝置,其特征在于:包括一硅片脫膠池,在硅片脫膠池的左側(cè)下部設(shè)有一通過管道與硅片擦洗池左側(cè)下部相連通的脫膠排水口,在硅片脫膠池與硅片擦洗池之間的管道上依次設(shè)有一第一過濾器、第一泵體,在硅片擦洗池的右側(cè)底部設(shè)有通過管道與硅片清洗池上部相連通的擦片排水口,所述硅片清洗池的空腔自左向右依次由隔板分割為互不連通的前清洗池、中部清洗池與后清洗池,前清洗池通過管道與污水池上部相連通設(shè)置,中部清洗池通過管道與硅片脫膠池相連通設(shè)置,在中部清洗池與硅片脫膠池相連通設(shè)置的管道上依次設(shè)有一第二過濾器、第二泵體,后清洗池通過回流管與第二過濾器、第二泵體之間的管道相連通,在第二過濾器的過濾網(wǎng)的右側(cè)設(shè)有一通過管道與污水池相連通設(shè)置的排渣管,硅片脫膠池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池分別通過供水管與一供水池相連通設(shè)置,在供水池的一側(cè)設(shè)有一與水源連通的供水泵,在各供水管上分別設(shè)有一閥門,在硅片擦洗池與硅片擦洗池相連通的管道上依次設(shè)有一第三過濾器、第三泵體;第一泵體、第二泵體、第三泵體、供水泵分別通過導(dǎo)線與外部電源相連通設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶體加工用水循環(huán)裝置,其特征在于:所述硅片脫膠池的空腔底部向中心傾斜設(shè)置,在硅片脫膠池的空腔底部的通孔內(nèi)活動密封配合連接一旋轉(zhuǎn)軸,在硅片脫膠池的空腔內(nèi)的旋轉(zhuǎn)軸頂部固連一底部刷毛與空腔底部相抵接的毛刷,在硅片脫膠池外部的旋轉(zhuǎn)軸外側(cè)壁上固連一曲柄,在與毛刷相對一側(cè)的硅片脫膠池的空腔底部設(shè)有一與空腔連通的排污管,在排污管的底部開口處密封插裝一密封塞。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種晶體加工用水循環(huán)裝置,其特征在于:在與排渣管相對的第二過濾器的前側(cè)壁上通過管道連接一排渣泵體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種晶體加工用水循環(huán)裝置,其特征在于:在硅片脫膠池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池的空腔側(cè)壁上分別自上而下設(shè)有一上限水位標、下限水位標。