本實(shí)用新型涉及硅片超聲清洗機(jī)領(lǐng)域，具體涉及一種硅片超聲清洗機(jī)水循環(huán)系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

硅片是太陽能電池板的重要部件，其制備過程是將硅棒粘接在晶托上，經(jīng)線切、脫膠、插片、清洗、干燥后，隨著插片盒一同放入硅片分選儀篩選出不良片；其中清洗過程是在硅片超聲清洗機(jī)中進(jìn)行的，硅片超聲清洗機(jī)設(shè)置有十道順序排列的清洗水槽，插入插片盒的硅片在傳送機(jī)構(gòu)上依次穿過多道清洗水槽，每個(gè)清洗水槽中不斷注入清潔熱水，廢水通過溢流口排入溢流水槽集中排放，每天要消耗大量的熱水；分析清洗過程，第1道清洗水槽排出的雜質(zhì)最多，往后逐漸減少，到第5道清洗水槽排出的雜質(zhì)已經(jīng)較少，第6道清洗水槽排出的廢水已經(jīng)比較干凈，第9、10道清洗水槽排出的廢水中幾乎沒有雜質(zhì)，但是仍然與前部幾道清洗水槽的廢水一同排放，是一種嚴(yán)重的資源浪費(fèi)，而且增加了硅片的制作成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種硅片超聲清洗機(jī)水循環(huán)系統(tǒng)，可以解決現(xiàn)有硅片超聲清洗機(jī)將全部清洗水槽的廢水集中排放，導(dǎo)致浪費(fèi)資源，增加硅片制作成本的問題。

本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種硅片超聲清洗機(jī)水循環(huán)系統(tǒng)，所述硅片超聲清洗機(jī)設(shè)置有多道順序排列的清洗水槽，多道所述清洗水槽分別通過溢流口連通有溢流水槽，所述溢流水槽包括至少兩個(gè)相互隔離的腔室，位于后部的數(shù)道清洗水槽連通溢流水槽的同一腔室，該腔室通過設(shè)置有水泵的管道連通位于前部的清洗水槽。

本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案是，所述清洗水槽共有10道，第6~10道連通溢流水槽的同一腔室，該腔室通過管道連通第1~3道清洗水槽。

本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案是，所述管道還連通硅片插片機(jī)的水箱。

本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)點(diǎn)在于：

一、將后部數(shù)道的清洗水槽排出的污水收集回供對(duì)清潔度要求較低的前部清洗水槽，有效降低用水量，節(jié)約資源，降低硅片的制作成本；

二、硅片插片機(jī)通過水流輸送硅片，在氣溫較低時(shí)還需要對(duì)水加熱，直接利用后部數(shù)道的清洗水槽排出的具有一定熱量的污水，既節(jié)約用水還不需要再進(jìn)行加熱，進(jìn)一步降低硅片的制作成本。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

如圖1所示的一種硅片超聲清洗機(jī)水循環(huán)系統(tǒng)，所述硅片超聲清洗機(jī)設(shè)置有10道順序排列的清洗水槽1，10道所述清洗水槽1分別通過溢流口連通有溢流水槽2，所述溢流水槽2包括兩個(gè)相互隔離的腔室，位于后部的第6~10道清洗水槽1連通溢流水槽2的同一腔室，該腔室通過設(shè)置有水泵5的管道3連通位于前部的第1~3道清洗水槽1，以及硅片插片機(jī)的水箱4。