技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供用選擇性噴涂刻蝕來清潔沉積室零件的方法和設(shè)備。在一個(gè)方面，提供了對(duì)電子器件制造處理室零件進(jìn)行清潔的方法，包括：a)用酸噴涂零件；b)用DI水噴涂該零件；和c)用氫氧化鉀處理該零件。還提供了其他方面。

技術(shù)研發(fā)人員：包立源;薩曼莎·S·H·潭;蔣安北
受保護(hù)的技術(shù)使用者：量子全球技術(shù)有限公司
文檔號(hào)碼：201310315038
技術(shù)研發(fā)日：2008.06.30
技術(shù)公布日：2017.11.03