專利名稱：帶攪拌裝置的熔解爐以及熔解爐用攪拌裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及帶攪拌裝置的熔解爐以及熔解爐用攪拌裝置.
背景技術(shù)：
以往，將鋁等非鐵金屬等熔解并形成為錠狀制品，或在熔解后直接用 壓鑄機(jī)進(jìn)行成形而制品化.此時(shí)，為了進(jìn)行提高錠或者壓鑄制品的品質(zhì)的
均質(zhì)化，需要充分?jǐn)嚢枞劢鉅t中的非鐵金屬，即A1、 Cu、 Zn或者這些中 的至少兩種的合金或者M(jìn)g合金等的非鐵金屬的熔液，并令其組織均勻. 為此，以往借助下述方法進(jìn)行攪拌，即在熔解爐中插入攪拌棒并借助人力 進(jìn)行攪拌、或在密封爐內(nèi)并借助減壓泵交互地作用負(fù)壓和正壓來攪拌熔 液、或在爐底下方設(shè)置電磁式攪拌裝置、永久磁體式攪拌裝置而借助電磁 力進(jìn)行攪拌?；谌肆Φ臄嚢璞粡V泛使用，但由于在高溫下作業(yè)，作業(yè)環(huán) 境惡劣，所以要求改善.此外，電磁式攪拌由于較大的電力消耗和復(fù)雜的 維修以及高價(jià)而未普及.此外，在使用永久磁體的裝置中，雖然消耗電力 很小，但為了產(chǎn)生移動(dòng)磁場(chǎng)而需要令磁場(chǎng)發(fā)生機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)，構(gòu)造復(fù)雜化從而 故陣發(fā)生機(jī)率也不低.
必須在這樣的作業(yè)環(huán)境惡劣的條件下運(yùn)轉(zhuǎn)裝置.當(dāng)然，不僅是裝置， 對(duì)于從業(yè)者^NM艮惡劣.因此，希望裝置盡量為簡單的構(gòu)造，且無需維 修.進(jìn)而希望是能抑制消耗電力為較少，并易于設(shè)置、便宜且易于普及的 攪拌裝置.

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供抑制消耗電力為較少，并易于設(shè)置、便宜
且易于普及的攪拌裝置.
本實(shí)用新型特征在于，具有具有用于收納非鐵金屬的熔液的收 納空間的熔解爐；磁場(chǎng)發(fā)生裝置，令磁通從外部貫通用于收納上述熔 液的上述熔解爐，并在上述收納空間中沿某一方向行進(jìn)；至少一對(duì)的 電極端子，以與上述磁通的行進(jìn)方向成某一角度相交的方式隔既定距 離而對(duì)置，并且可與電源連接.
進(jìn)而本實(shí)用新型的特征在于，具有磁場(chǎng)發(fā)生裝置，令磁通從外
部貫通具有收納非鐵金屬的熔液用的收納空間的熔解爐，并在上述收
納空間中沿某一方向行進(jìn)；至少一對(duì)的電極端子，以與上述磁通的行 進(jìn)方向成某一角度相交的方式隔既定距離而對(duì)置，并且可與電源連 接。
進(jìn)而，本實(shí)用新型的特征在于，具有具有用于收納非鐵金屬的 熔液的收納空間的熔解爐；磁場(chǎng)發(fā)生裝置，令磁通從外部貫通用于收 納上述熔液的上述熔解爐，并在上述收納空間中沿某一方向行進(jìn)；至 少一對(duì)的電極端子，可分別與電源連接并且相互隔既定距離而設(shè)置， 上述一對(duì)的電極端子中的一方的電極端子設(shè)置在與上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置 對(duì)應(yīng)的位置，另一方的電極端子設(shè)置在任意位置。
進(jìn)而，本實(shí)用新型的特征在于，具有磁場(chǎng)發(fā)生裝置，令磁通從 外部貫通具有收納非鐵金屬的熔液用的收納空間的熔解爐，并在上述 收納空間中沿某一方向行進(jìn)；至少一對(duì)的電極端子，可分別與電源連 接并且相互隔既定距離而設(shè)置，上述一對(duì)的電極端子的一方設(shè)置在與 上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置對(duì)應(yīng)的位置，另一方設(shè)置在任意位置。


圖l是本實(shí)用新型的實(shí)施例的俯視圖。
圖2是圖1的A-B線剖面圖。
圖3是圖1的C-D線剖面圖。
圖4是本實(shí)用新型的另外實(shí)施例的俯視圖。
圖5是圖4的A-B線剖面圖。
圖6是本實(shí)用新型的另一實(shí)施例的俯視圖。
圖7是圖6的A-B線剖面圖。
圖8是本實(shí)用新型的另一實(shí)施例的剖面圖。
圖9是剖面圖表示為與圖8大致相同的實(shí)施例的裝置的俯視圖。
圖IO是圖8的實(shí)施例的裝置的俯視圖。
圖ll是本實(shí)用新型的另一實(shí)施例的剖面圖。
圖12是圖11的裝置的俯視圖。
具體實(shí)施方式
圖1~圖3是表示作為本實(shí)用新型的一實(shí)施方式的熔解爐系統(tǒng)，即帶攪拌裝置的熔解爐，圖1是俯視圖，圖2是圖1的A-B線剖面圖，圖 3是C-D線剖面圖。
該帶攪拌裝置的熔解爐概念地講，具有熔解爐、磁場(chǎng)發(fā)生裝置、供 電裝置。若用實(shí)施例進(jìn)行說明，則特別從圖2中可知，帶攪拌裝置的熔 解爐具有熔解爐1、和以密接狀態(tài)設(shè)置在熔解爐1的底面上的作為上述 磁場(chǎng)發(fā)生裝置的攪拌裝置2。進(jìn)而，具有作為上述供電裝置的電極(電 極端子)4、 4。當(dāng)然，這些電極4、 4與電源6連接。該電源6可以作為 供電裝置的一部分而構(gòu)成。此外，也可以作為外部電源將該電源6構(gòu)成 為不包含在供電裝置中。
上述熔解爐1具有熔液收納空間10，與通用方法同樣，通過未圖示 的燃燒爐等令投入到其中的非4失金屬，即A1、 Cu、 Zn或者這些中的至少 兩種的合金或者M(jìn)g合金等的傳導(dǎo)體(導(dǎo)電體)的非鐵金屬熔解。熔解爐 1具有大致矩形容器狀的爐主體3。該爐主體3特別由圖2可知，具有以 密閉貫通狀態(tài)埋設(shè)在對(duì)置的一對(duì)側(cè)壁(爐側(cè)壁)3a、 3b上的一對(duì)電極4、 4。這些電極4、 4除了可以在爐主體3的制造時(shí)埋設(shè)，也可以在已有的 爐主體3上埋設(shè)。這些電極4、 4的形狀可以為橫截面為圓形或者矩形等 其他任意的形狀。這些電極4、 4的內(nèi)側(cè)端與爐主體的內(nèi)表面為同一表面， 與爐主體3內(nèi)所收納的Al、 Cu、 Zn或者其中的至少兩種的合金或者M(jìn)g 合金等的傳導(dǎo)體(導(dǎo)電體)的非鐵金屬的熔液M電氣接觸。電極4、 4與 上述內(nèi)側(cè)面為同一平面是為了避免電極4、 4在爐主體3內(nèi)相對(duì)于后述的 熔液的運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生機(jī)械阻力。當(dāng)然，在機(jī)械阻力較小的情況下，也可以 設(shè)置為電極4、 4突出到內(nèi)部的狀態(tài)。
這些電極4、 4在爐外通過電纜5、 5與上述電源6連接，由此，在 例如圖2中，電流I在電極4、 4之間經(jīng)由作為導(dǎo)電體的非鐵金屬的熔液 M而從右向左流動(dòng)。上述電源6如上所述，可以是內(nèi)設(shè)于本裝置的電源， 也可以是外部電源。此外，該電源6可以是可變換極性的電源。即，例 如在圖2中，令電流I如圖所示從左向右流動(dòng)，并且可通過變換，使其 從右向左流動(dòng)。此外，該電源6也可以能夠調(diào)整輸出，即調(diào)整輸出電壓、 輸出電5危。
由圖1可知，上述電極可為兩對(duì)或者以上。主要是電流可在圖1中 從左向右，或者相反地流動(dòng)即可。由例如圖1可知，在設(shè)置3對(duì)電極的 情況下，各對(duì)間的距離d不特別成為問題。
特別是，從圖2可知，在這樣構(gòu)成的熔解爐1的底面上密接配置有 攪拌裝置2。該攪拌裝置2具有在軛鐵8上設(shè)置的磁場(chǎng)裝置(磁場(chǎng)發(fā)生 裝置)9。該磁場(chǎng)裝置2設(shè)定為固定狀態(tài)，并且沒有必要構(gòu)成為可旋轉(zhuǎn)的 結(jié)構(gòu)。因此，可抑制故障的發(fā)生可能性，從維修的觀念來看也可稱為易 于使用的裝置。該磁場(chǎng)裝置2可以是永久磁體式也可以是電磁體式。電 極形狀可為圓形或者板狀。來自上述磁場(chǎng)裝置9的磁通MF只要大致垂直 地貫通爐主體9的底面即可，與方向無關(guān)。在圖2中例示了磁場(chǎng)裝置9 在上述爐主體3的底面?zhèn)葹镹極，且來自磁場(chǎng)裝置9的磁通貫通上述底 面而通過內(nèi)部的熔液M的情況。與之相反，也可以構(gòu)成為磁場(chǎng)裝置9在 上述爐主體3的底面?zhèn)葹镾極，貫通了熔液M和爐主體3的底面的磁通 MF回到上述S極。
進(jìn)而，在上述磁場(chǎng)裝置9為電磁體的情況下，可以切換極性以及強(qiáng) 度并可進(jìn)行調(diào)整。即，可以將磁場(chǎng)裝置9構(gòu)成為可替換N極和S極，并 可增減輸出的裝置，即帶有輸出調(diào)整功能的裝置。
該磁場(chǎng)裝置9的周圍被不銹鋼殼體11包圍。如上所述，如圖2所示， 從圖中由下到上大致垂直地貫通熔液M地發(fā)生來自該磁場(chǎng)裝置9的磁通 MF。
在這樣構(gòu)成的系統(tǒng)中，特別是由圖2可知，電流I在磁場(chǎng)空間中在 一對(duì)電極4、 4之間流動(dòng)。由此，熔液M借助沿弗林明左手法則產(chǎn)生的電 磁力，即如圖3所示，熔液M借助與電流I之間的作用的排斥力而旋轉(zhuǎn)。 即，在例如圖2中，來自磁場(chǎng)裝置9的磁通MF向上方貫通熔液M。另一 方面，電流I在一對(duì)電極4、 4之間經(jīng)由熔液M而流動(dòng)。該電流I如圖3 所示，從紙面表面?zhèn)认蚣埫胬飩?cè)流動(dòng)。這樣，磁通MF在導(dǎo)電性熔液M中 通過，電流I在此處流動(dòng)。由此，按照弗林明的左手法則而產(chǎn)生電磁力， 熔液M被該電磁力向磁場(chǎng)之外推壓，熔液M如圖3所示的熔液的流動(dòng)F 那樣被攪拌為旋轉(zhuǎn)狀態(tài)。即，熔液M借助與上述電流I之間作用的排斥 力而從爐底向液面、從液面向爐底循環(huán)，并進(jìn)行上下攪拌。
在此，若在一對(duì)的電極4、 4之間流動(dòng)的電流的方向變化，或者來自 磁場(chǎng)裝置9的磁通的方向變化，則可反轉(zhuǎn)熔液M的攪拌方向。而且該攪 拌不是間歇的攪拌，而是連續(xù)的攪拌。
此外，電極4、 4在圖2中的高度h顯然要求為下述高度，即在電極 4、 4之間流動(dòng)的電流I在基于磁場(chǎng)裝置9的磁場(chǎng)空間內(nèi)流動(dòng)。
圖4以及圖5表示本實(shí)用新型的不同的實(shí)施例，圖4為俯視圖，圖 5是圖4的A-B線剖面圖。該實(shí)施例特別從圖5可知，表示了在熔解爐 1的某一側(cè)壁3a的外側(cè)密接設(shè)置攪拌裝置2的例子。
即，在爐主體3的某一側(cè)壁3a上，上下具有既定間隔地密閉狀態(tài)地 埋入一對(duì)電極4、 4。電極4、 4的內(nèi)側(cè)端突出到爐主體3的內(nèi)部，為從 爐主體3的內(nèi)表面稍微離開的狀態(tài)。
該情況下，電流I如圖5所示，在沿側(cè)壁3a且從該處稍微離開的位 置，在熔液M中流動(dòng)。在熔液M中，與之前的實(shí)施例相同，來自磁場(chǎng)裝 置9的磁通MF如特別是圖4所示那樣地通過。由圖4可知，基于電流I 和磁通MF，產(chǎn)生沿弗林明左手法則的電磁力。借助該電磁力，如圖4所 示，熔液M繞電流I旋轉(zhuǎn)。即，熔液M繞大致垂直的軸旋轉(zhuǎn)，進(jìn)行熔液 的水平攪拌。
在以上說明的圖4、圖5中，說明了將電極4、 4設(shè)置爐主體3的爐 壁上的例子，但只要電流I在來自磁場(chǎng)裝置9的磁場(chǎng)空間內(nèi)流動(dòng)的范圍 內(nèi)，也可將這些電極4、 4的位置設(shè)置在上述收納空間10內(nèi)的任意的內(nèi) 側(cè)位置，令電極4、 4上下對(duì)置地設(shè)置。進(jìn)而，上下對(duì)置的電極4、 4的 對(duì)數(shù)可為任意對(duì)。
圖6、圖7表示另一不同實(shí)施例，圖6是俯視圖，圖7是圖6的A-B線剖面圖。圖6與圖4對(duì)應(yīng)，表示令爐主體23為大致圓筒容器狀的例 子。即，在本實(shí)施例中，也可視為是圖4、圖5的實(shí)施例的變形。即， 在之前的圖4、圖5的實(shí)施例中，令熔解爐1的爐主體3為圓筒容器狀 的情況。即，在本實(shí)施例中，熔解爐21的爐主體23為圓筒容器狀。與 之對(duì)應(yīng)，令攪拌裝置22的軛鐵28以及磁場(chǎng)裝置29彎曲為拱形。圖6、 圖7的實(shí)施例中的其他構(gòu)成與圖4、圖5的實(shí)施例相同，對(duì)相同部分標(biāo) 注相同附圖標(biāo)記而省略i兌明。
在這樣的圖6以及圖7所示的實(shí)施例中，與圖4、圖5的實(shí)施例相 同，從特別是圖6可知，熔液M如圖所示繞大致垂直的軸旋轉(zhuǎn)，進(jìn)行熔 液的攪拌。
另外，如圖6所示，即便爐主體23為圓筒容器狀，也可將電極4、 4設(shè)置為水平方向?qū)χ谩?br> 圖8~圖12表示基于與上述裝置不同的技術(shù)思想而構(gòu)成的其他實(shí)施 方式。即，以上所述實(shí)施方式的裝置是適合于以比較緩慢的速度令熔液
旋轉(zhuǎn)的裝置。與之相對(duì)，以下說明的實(shí)施方式的裝置是適合于以其數(shù)十 倍的速度令熔液旋轉(zhuǎn)的裝置?？蛇m宜選擇令熔液以什么樣的速度旋轉(zhuǎn)。 即，可對(duì)應(yīng)追求熔液的組織的均一化的令溫度均一的攪拌、與防止過度 氧化同時(shí)的攪拌、與作為熔液材料的金屬的種類相應(yīng)的攪拌速度等，而 適宜地選擇攪拌速度。
進(jìn)而，以下的實(shí)施方式是著眼于以下幾點(diǎn)而構(gòu)成的。
(1) 為了令所得的電磁力最大，令流動(dòng)的電流盡可能全部集中在磁 場(chǎng)區(qū)域內(nèi)。
(2) 盡量抑制基于在由于外部施加磁場(chǎng)和電磁力而運(yùn)動(dòng)的熔液內(nèi)產(chǎn) 生的渦電流的制動(dòng)力(令熔液的動(dòng)作停止的力)。
另外，在以下的實(shí)施方式中，與之前說明過的實(shí)施方式相同的部件
標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記而省略詳細(xì)i兌明。
圖8是說明以下所述實(shí)施方式的原理的概略的剖面圖。
該圖8所示的實(shí)施方式與圖2所示的實(shí)施方式的不同點(diǎn)在于， 一對(duì)
電極4、 4中的一方埋入爐主體3的底壁(爐底)3c中。顯然也不是必
須埋入。
在這樣構(gòu)成的實(shí)施方式中，通過在一對(duì)電極4、 4之間施加電壓，電 流在這些電極4、 4之間流動(dòng)。在熔液M中電流沿什么樣的路徑前進(jìn)而在 一對(duì)電極4、 4之間流動(dòng)不明確。但是，不管電流通過哪條路徑而在一對(duì) 電極4、 4之間流動(dòng)，由于一對(duì)電極4、 4中的一方設(shè)置在底壁3c上，所 以流動(dòng)電流的全部都高效地流過磁場(chǎng)強(qiáng)度強(qiáng)的區(qū)域。由此，可作為最大 程度的電磁力而得到基于磁場(chǎng)和電流的相互作用的電磁力，可得到更大 的攪拌力。由此實(shí)現(xiàn)上述U)。
此外，從磁場(chǎng)發(fā)生裝置(攪拌裝置)2發(fā)出的磁力線(磁通MF)從 圖8中可知，經(jīng)由底壁3c貫通熔液M。在此，磁場(chǎng)發(fā)生裝置2為單極構(gòu) 成。因此，在假定與底壁3c平行的平面的情況下，在該平面中磁場(chǎng)強(qiáng)度 大致均一。在這樣的環(huán)境中，設(shè)想熔液M借助上述電磁力而動(dòng)作的情況。 該情況下，熔液M成為以埋入底壁3c的電極4為中心的旋轉(zhuǎn)的流動(dòng)F。 此時(shí)，如上所述，由于磁場(chǎng)為均一的磁場(chǎng)強(qiáng)度，所以不發(fā)生伴隨熔液M 的運(yùn)動(dòng)的渦電流(制動(dòng)力)。即，渦電流是在磁通cl)相對(duì)時(shí)間t變化時(shí)產(chǎn) 生，但在該情況下，由于為均一的磁通分布，所以不產(chǎn)生渦電流。因此， 可進(jìn)行效率極好的熔液的攪拌。由此，實(shí)現(xiàn)上述(2)。
圖10是圖8的俯視圖，表示爐主體3為矩形容器狀的實(shí)施方式。 圖9表示剖面圖表示為與圖8大致相同的實(shí)施方式，是爐主體23為
圓筒容器狀的實(shí)施方式。
此外，作為圖8~圖10的變形例，例如除了設(shè)置在側(cè)壁23a、 3b和 底壁3c的電極4之外，可在任意位置設(shè)置任意對(duì)電極。
作為圖8、圖10的變形例，如圖11、圖12所示，也可在圖中左側(cè) 的側(cè)壁3a上設(shè)置電極4。
此外，例如在上述圖11、圖12的實(shí)施方式中，表示了分別在側(cè)壁3a、 3b上設(shè)置電極4、 4，在側(cè)壁3a、 3b上設(shè)置兩個(gè)電極的例子，但顯然也 可在側(cè)壁3a、 3b上令這些電極的總數(shù)為3個(gè)以上。
此外，在該圖11、圖12的實(shí)施方式中，表示了在底壁3b上設(shè)置一 個(gè)電極4的例子，但也可與設(shè)置在側(cè)壁底壁3a、 3b上的電極4對(duì)應(yīng)，設(shè) 置多個(gè)電極4。
在上述實(shí)施方式中，電極4的截面形狀可對(duì)應(yīng)用途、目的等而為各 種形狀。例如在球形、矩形之外可為圓或者橢圓等環(huán)狀。
以上說明的實(shí)施例只是表示本實(shí)用新型的幾個(gè)例子，本實(shí)用新型顯 然可通過上述以外的方式實(shí)現(xiàn)。即，只要是在爐主體內(nèi)收納熔液，并令 磁通從爐主體外通過上述熔液中，并令電流在上述熔液內(nèi)在與該磁通相 交的方向上流動(dòng)的構(gòu)造即可，只要是滿足這些的構(gòu)造都包含在本實(shí)用新 型的精神之中。
根據(jù)上述本實(shí)用新型的實(shí)施例，可以得到以下的效果。
即， 一般而言熔解爐或者保持爐多形成為箱型形狀。圓形爐多用在 用于投入原料并迅速熔解的熔解輔助爐。箱型爐多為緩慢攪拌熔液，在 添加金屬元素等成分調(diào)整的情況下要求上下攪拌熔液。但是以往的攪拌 裝置在構(gòu)造上不能進(jìn)行上下攪拌。根據(jù)本實(shí)用新型的一實(shí)施方式的攪拌 裝置由于熔液向與電極垂直的方向運(yùn)動(dòng)，所以通過任意設(shè)定電極配置， 可自由選擇攪拌方向、狀態(tài)。因此，可容易地進(jìn)行熔液的上下攪拌、水 平攪拌、正轉(zhuǎn)攪拌、逆轉(zhuǎn)攪拌等。
而且，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例的實(shí)驗(yàn)，攪拌熔液所必須的附加磁 場(chǎng)強(qiáng)度需要在0.1T以上。當(dāng)然，在0. 1T以下也可以進(jìn)行攪拌，但為了 得到較高的攪拌效率，希望在O. 1T以上。此外，本實(shí)用新型的實(shí)施例的 攪拌裝置，從其原理出發(fā)，只通過磁場(chǎng)強(qiáng)度不能得到攪拌力。消耗電力
(附加電壓、供給電流)的大小也對(duì)攪拌力有較大影響。根據(jù)本實(shí)用新
型的實(shí)驗(yàn)，用DC12V， 10A可攪拌500kg左右的熔液。這是比以往的電磁 式裝置的電力消耗量少很多的電力。若為l~10t左右的熔液，可對(duì)應(yīng)上 述的電力消耗量而以增加后的電力進(jìn)行攪拌。此外，如上所述，為了加 大攪拌速度需要提高附加電壓，因此令裝置為附加電壓可變也十分重要。
此外，如上所述，為了增加攪拌力而在磁場(chǎng)發(fā)生裝置中增加電極對(duì) 數(shù)也十分重要。在一對(duì)的情況下，將爐內(nèi)的熔液攪拌既定量所需要的時(shí) 間為1.5分，在兩對(duì)時(shí)為0. 8分，在三對(duì)時(shí)0. 3分就足夠了。因此，可 知通過設(shè)定多對(duì)電極而實(shí)現(xiàn)高速攪拌。
由此，根據(jù)爐所要實(shí)現(xiàn)的目的，確定附加電壓、極數(shù)、極配置、磁 場(chǎng)強(qiáng)度十分重要。
以下，在表1中表示為了確認(rèn)本實(shí)用新型者進(jìn)行的實(shí)施方式的效果 而進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。從表1中可知，在這里所示條件下，作為熔液除了 對(duì)鋁熔液之外，還對(duì)電解液(碳酸鈞&20)3重量比150%水熔液)進(jìn)行攪 拌實(shí)驗(yàn)。其結(jié)果可確認(rèn)本實(shí)用新型的實(shí)施方式的裝置的效果。
<formula>formula see original document page 12</formula>
權(quán)利要求1.一種帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，具有具有用于收納非鐵金屬的熔液的收納空間的熔解爐；磁場(chǎng)發(fā)生裝置，令磁通從外部貫通用于收納上述熔液的上述熔解爐，并在上述收納空間中沿某一方向行進(jìn)；至少一對(duì)的電極端子，以與上述磁通的行進(jìn)方向成某一角度相交的方式隔既定距離而對(duì)置，并且可與電源連接。
2. 如權(quán)利要求1所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上述磁 場(chǎng)發(fā)生裝置設(shè)置在上述熔解爐的爐底的外部附近.
3. 如權(quán)利要求1所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上述電 極端子對(duì)在上述收納空間中在大致水平方向上對(duì)置.
4. 如權(quán)利要求1所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上述磁 場(chǎng)發(fā)生裝置設(shè)置在上述熔解爐的側(cè)面的外部附近.
5. 如權(quán)利要求1所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上述電 極端子對(duì)在上述收納空間中在大致垂直方向上對(duì)置.
6. 如權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特 征在于，上述電極端子對(duì)設(shè)置有多對(duì).
7. 如權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特 征在于，上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置具有永久磁體以及電磁體中的任意一種磁 體。
8. 如權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特 征在于，上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置構(gòu)成為可進(jìn)行極性變換以及磁場(chǎng)強(qiáng)度變換 中的至少一種.
9. 如權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特 征在于，上述熔解爐構(gòu)成為矩形容器狀或者圃筒容器狀的任意一種.
10. 如權(quán)利要求9所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上 述熔解爐構(gòu)成為圃筒容器狀，上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置構(gòu)成為，設(shè)置在上述 熔解爐的側(cè)面的外部附近，形成為沿上述熔解爐的外面延伸而彎曲的 形狀.
11. 如權(quán)利要求1所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上 述電極端子橫截面為圃形或者矩形.
12. 如權(quán)利要求1所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，還 具有上述電源.
13. 如權(quán)利要求12所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上 述電源構(gòu)成為可進(jìn)行極性的變換和輸出調(diào)整中的至少一種.
14. 一種熔解爐用攪拌裝置，其特征在于，具有 磁場(chǎng)發(fā)生裝置，令磁通從外部貫通具有收納非鐵金屬的熔液用的收納空間的熔解爐，并在上述收納空間中沿某一方向行進(jìn)；至少一對(duì)的電極端子，以與上述磁通的行進(jìn)方向成某一角度相 交的方式隔既定距離而對(duì)置，并且可與電源連接.
15. —種帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，具有 具有用于收納非鐵金屬的熔液的收納空間的熔解爐； 磁場(chǎng)發(fā)生裝置，令磁通從外部貫通用于收納上述熔液的上述熔解爐，并在上述收納空間中沿某一方向行進(jìn)；至少一對(duì)的電極端子，可分別與電源連接并且隔既定距離而設(shè) 置，上述一對(duì)的電極端子中的一方的電極端子設(shè)置在與上述磁場(chǎng)發(fā)生 裝置對(duì)應(yīng)的位置，另一方的電極端子設(shè)置在任意位置.
16. 如權(quán)利要求15所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上 述磁場(chǎng)發(fā)生裝置設(shè)置在上述熔解爐的爐底的外部附近.
17. 如權(quán)利要求15或16所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在 于，上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置具有永久磁體以及電磁體中的任意一種磁體.
18. 如權(quán)利要求15所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上 述磁場(chǎng)發(fā)生裝置是N極以及S極的一方磁極與上述熔解爐的上述收納 空間對(duì)置的單極型裝置。
19. 如權(quán)利要求16所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上 述一對(duì)的電極端子的一方設(shè)置在與上述爐底上的上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置對(duì) 應(yīng)的位置上，另一方設(shè)置在上述熔解爐的側(cè)壁的任意位置上.
20. 如權(quán)利要求15所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，作 為上述至少一對(duì)的電極端子來說，作為與電源的一方的電壓側(cè)連接的 電源端子，將一個(gè)或者多個(gè)電極端子設(shè)置在與上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置對(duì)應(yīng) 的位置上，作為與電源的另一方的電壓側(cè)連接的電源端子，將多個(gè)電 極端子設(shè)置在上述熔解爐的側(cè)壁的任意位置上.
21. 如權(quán)利要求15所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上 述一方的電極端子橫截面為圃形或者矩形，上述另一方的電極端子橫截面為圃形、矩形或者環(huán)狀.
22. 如權(quán)利要求15所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上 述熔解爐構(gòu)成為矩形容器狀或者圃筒容器狀的任意一種.
23. 如權(quán)利要求15所述的帶攪拌裝置的熔解爐，其特征在于，上 述電源構(gòu)成為可以進(jìn)行極性變換和輸出調(diào)整中的至少一種.
24. —種熔解爐攪拌裝置，其特征在于，具有 磁場(chǎng)發(fā)生裝置，令磁通從外部貫通具有收納非鐵金屬的熔液用的收納空間的熔解爐，并在上述收納空間中沿某一方向行進(jìn)；至少一對(duì)的電極端子，可分別與電源連接并且隔既定距離而 設(shè)置，上述一對(duì)的電極端子中的一方的電極端子設(shè)置在與上述磁場(chǎng)發(fā) 生裝置對(duì)應(yīng)的位置，另一方的電極端子設(shè)置在任意位置.
專利摘要本實(shí)用新型涉及帶攪拌裝置的熔解爐以及熔解爐用攪拌裝置，其目的在于提供抑制消耗電力為較少，并易于設(shè)置、便宜且易于普及的攪拌裝置。所述帶攪拌裝置的熔解爐包括具有用于收納非金屬的熔液的收納空間的熔解爐；磁場(chǎng)發(fā)生裝置，令磁通從外部貫通用于收納上述熔液的上述熔解爐，并在上述收納空間中沿某一方向行進(jìn)。進(jìn)而具有至少一對(duì)的電極端子，以與上述磁通的行進(jìn)方向成某一角度相交的方式隔既定距離而對(duì)置，并且可與電源連接。
文檔編號(hào)F27D27/00GK201196529SQ20072017750
公開日2009年2月18日 申請(qǐng)日期2007年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月30日
發(fā)明者高橋謙三 申請(qǐng)人:高橋謙三