專利名稱：低壓處理機臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種低壓處理機臺，特別是有關(guān)于一種用于干燥光阻材料的低壓處理機臺。
背景技術(shù)：
參照圖1a，其是顯示公知的低壓處理機臺10，包括基座1、殼體2、承載盤3、支撐組件5、氣壓致動器6以及抽氣管路7。承載盤3設于基座1之上，用以承放一基板4。殼體2與基座1構(gòu)成一腔體8，承載盤3以及基板4即位于該腔體8之中。抽氣管路7以及支撐組件5均設于殼體2之上。氣壓致動器6設于基座1之上。參照圖1b，氣壓致動器6可推升支撐組件5以及殼體2，使殼體2向上離開基座1，以供機械手臂(未圖標)取放該基板4。
當?shù)蛪禾幚頇C臺10應用于干燥光阻材料(例如，樹脂)等有機溶劑時，經(jīng)過一段時間的使用后，揮發(fā)物質(zhì)或是微塵(particle)會沉積在殼體2內(nèi)部或是抽氣管路7的管壁之上，因此需要定期對殼體2以及抽氣管路7進行清潔。然而，由于清潔殼體2以及抽氣管路7的方法，是將殼體2升起后，以人工的方式清潔，其清潔工作困難耗時。并且由于清潔殼體2以及抽氣管路7時，低壓處理機臺10處于停機狀態(tài)，因此會造成產(chǎn)能的損失以及時間與金錢的浪費。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明即為了欲解決上述公知技術(shù)的問題，而提供的一種低壓處理機臺，包括一基座、一承載盤、一殼體以及至少一第一滾輪組。承載盤設于該基座之上，用以置放一基板。殼體以可脫離的方式設于該基座之上，該殼體可以于一第一位置以及一第二位置之間移動，當該殼體位于該第一位置時，該殼體與該基座構(gòu)成一腔體，該承載盤是位于該腔體之中。當欲拆卸該殼體時，該第一滾輪組可接觸并支撐該殼體，并幫助該殼體沿一第一水平方向滑動。
由于本發(fā)明的低壓處理機臺的殼體可簡便的從基座拆卸及移動以進行清潔。因此，可以在原殼體(第一殼體)拆卸之后，直接以另一殼體(第二殼體)替換安裝至基座之上，而繼續(xù)低壓處理機臺的運作，借此可縮短低壓處理機臺的停機時間，避免產(chǎn)能的損失以及時間與金錢的浪費。


圖1a是顯示公知的低壓處理機臺；圖1b是顯示公知低壓處理機臺的殼體上升的狀態(tài)；圖2a是顯示本發(fā)明的低壓處理機臺的前視圖；圖2b是顯示本發(fā)明的低壓處理機臺的殼體位于一第二位置時的前視圖；圖2c是顯示本發(fā)明的低壓處理機臺的殼體位于該第二位置時的側(cè)視圖；圖3a、圖3b是顯示第一滾輪組接觸導軌的情況；
圖3c是顯示滑動殼體的情況；圖4a是顯示本發(fā)明的面板制程設備；圖4b是顯示殼體從面板制程設備拆卸的情況；圖5是顯示用于升降殼體的氣壓致動器；圖6a是顯示本發(fā)明第二實施例的低壓處理機臺；圖6b是顯示本發(fā)明第二實施例的低壓處理機臺的拆卸情形。
符號說明1～基座； 2～殼體；3～承載盤； 4～基板；5～支撐組件； 6～氣壓致動器；7～抽氣管路； 8～腔體；10～低壓處理機臺；100、100’～低壓處理機臺；111～基座； 112～承載盤；113～基板； 114～腔體；120、120’～殼體；121～基板取放閘門；122～支撐結(jié)構(gòu)； 130～抽氣管路；140～導軌； 150～第一滾輪組；151～支撐組件； 152～滾輪；160～氣壓致動器； 170～氣壓致動器；171～支撐桿件； 200～輸送裝置；210～第二滾輪組； 300～面板制程設備；310～取放槽； 320～清洗單元；330～光組涂布單元； 340～曝光單元；
350～機械手臂。
具體實施例方式
第一實施例參照圖2a，其是顯示本發(fā)明的低壓處理機臺100的前視圖，包括基座111、殼體120、導軌140、第一滾輪組150以及氣壓致動器(致動裝置)160?；?11上設有承載盤112，用以承放基板113。殼體120設于基座111上，并與基座111構(gòu)成一腔體114。承載盤112與基板113即位于該腔體114之中。抽氣管路130設于殼體120之上，并伸入該腔體114之中，以抽氣降低腔體114中的氣體壓力。氣壓致動器160設于基座111之上，第一滾輪組150設于氣壓致動器160之上。導軌140設于殼體114的兩側(cè)，并與第一滾輪組150相對應。
搭配參照圖2b，殼體120可以于一第一位置(圖2a所顯示的位置)以及一第二位置(圖2b所顯示的位置)之間移動(在此為簡化說明，省略說明將殼體120與第一位置與第二位置間移動的致動裝置)。當殼體于120于該第一位置時，殼體于120與基座111構(gòu)成腔體114，用以低壓處理基板113。當基板113處理完成之后，殼體120可向上移動至該第二位置，以方便取放基板113。
參照圖2c，其是顯示當殼體120處于該第二位置時，低壓處理機臺100的側(cè)視圖，第一滾輪組150包括支撐組件151以及復數(shù)個滾輪152，滾輪152設于支撐組件151之上。支撐組件151接觸氣壓致動器160。
參照圖3a、圖3b，殼體120以可拆卸的方式設于基座110上方。當欲對殼體120進行清潔時，使用者可將殼體120移離基座，以徹底的對殼體120進行清潔。當欲拆卸殼體120時，氣壓致動器160向上推升第一滾輪組150，使第一滾輪組150上升至一第一平面，接觸該導軌140，以支撐并幫助滑動該殼體120。在一些實施例中，在該第一滾輪組150接觸該導軌140之后，氣壓致動器160可更進一步將該殼體120與該第一滾輪組150向上推升。參照圖3c，在第一滾輪組150上升至第一平面并接觸導軌140之后，殼體120可沿一第一水平方向y滑送至一輸送裝置200之上。輸送裝置200包括第二滾輪組210，該第二滾輪組210亦位于該第一平面之上。當滑動該殼體120時，殼體120是透過導軌140而在第一滾輪組150以及第二滾輪組210上滑動。
參照圖4a，其是顯示本發(fā)明的低壓處理機臺100設于一面板制程設備300之中的情形。面板制程設備300包括取放槽310、清洗單元(第一制程機臺)320、光阻涂布單元(第二制程機臺)330、低壓處理機臺100、曝光單元340以及機械手臂350。其中，清洗單元320、光阻涂布單元330以及低壓處理機臺100是沿一第二水平方向x排列。參照圖4b，當拆卸殼體120時，殼體120是沿該第一水平方向y滑動至輸送裝置200之上，其中，第一水平方向y垂直第二水平方向x。
由于本發(fā)明的低壓處理機臺100的殼體120可簡便的從基座111拆卸及移動以進行清潔。因此，可以在原殼體(第一殼體)拆卸之后，直接以另一殼體(第二殼體)替換安裝至基座111之上，而繼續(xù)低壓處理機臺100的運作，借此可縮短低壓處理機臺100的停機時間，避免產(chǎn)能的損失以及時間與金錢的浪費。
本發(fā)明的低壓處理機臺100可應用于干燥光阻材料(例如，樹脂)等有機溶劑。
參照圖5，殼體120可透過氣壓致動器170以及支撐結(jié)構(gòu)122而于該第一位置以及第二位置之間移動。氣壓致動器170包括支撐桿件171。支撐結(jié)構(gòu)122設于殼體120之上。支撐桿件171連接支撐結(jié)構(gòu)122，氣壓致動器170借由升降支撐桿件171而升降殼體120。支撐桿件171可以簡單接觸的方式連接支撐結(jié)構(gòu)122，以方便拆卸。
第二實施例參照圖6a，其是顯示本發(fā)明的第二實施例的低壓處理機臺100’，其特點在于殼體120’的后方設有一基板取放閘門121。而機械手臂(未圖標)是透過該基板取放閘門121取放該基板113。因此，不同于第一實施例，當取放基板113時，殼體120’不用向上升起。而當欲拆卸殼體120’以進行清潔時，參照圖6b，氣壓致動器160可直接推升第一滾輪組150以及殼體120’。因此，第二實施例中低壓處理機臺100’毋須其它額外的裝置來推升殼體120’。
雖然本發(fā)明已以具體的較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟習此項技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，仍可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當視后附的申請專利范圍所界定者為準。
權(quán)利要求
1.一種低壓處理機臺，用以處理一基板，包括一基座；一承載盤，設于該基座之上，用以置放該基板；一殼體，以可脫離的方式設于該基座之上，該殼體可以于一第一位置以及一第二位置之間移動，當該殼體位于該第一位置時，該殼體與該基座構(gòu)成一腔體，該承載盤位于該腔體之中；以及至少一第一滾輪組，其中，當欲拆卸該殼體時，該第一滾輪組可接觸并支撐該殼體，并幫助該殼體沿一第一水平方向滑動。
2.如權(quán)利要求1所述的低壓處理機臺，其中，該殼體包括至少一導軌，設于該殼體之上，并與該第一滾輪組相對應。
3.如權(quán)利要求1所述的低壓處理機臺，其還包括至少一致動裝置，設于該基座之上，并連接該第一滾輪組，其中，當該殼體位于該第二位置時，該致動裝置可將該第一滾輪組推升至一第一平面，以使該第一滾輪組接觸并支撐該殼體。
4.如權(quán)利要求3所述的低壓處理機臺，其中，該致動裝置為一氣壓致動器。
5.一種低壓處理機臺拆卸方法，包括提供一輸送裝置以及如權(quán)利要求1所述的低壓處理機臺；借由該第一滾輪組，將該殼體沿該第一水平方向滑動至該輸送裝置之上。
6.如權(quán)利要求5所述的低壓處理機臺拆卸方法，其中，該輸送裝置包括至少一第二滾輪組，當滑動該殼體時，該第一滾輪組與該第二滾輪組均位于一第一平面之上。
7.一種基板處理設備，包括；一第一制程機臺；一第二制程機臺；以及如權(quán)利要求1所述的低壓處理機臺，其中，該第一制程機臺、該第二制程機臺以及該低壓處理機臺是沿一第二水平方向排列。
8.如權(quán)利要求7所述的基板處理設備，其中，該第一水平方向垂直該第二水平方向。
9.一種低壓處理機臺，用以處理一基板，包括一基座；一承載盤，設于該基座之上，用以置放該基板；一殼體，以可拆卸的方式設于該基座之上，該殼體與該基座構(gòu)成一腔體，該承載盤是位于該腔體之中，其中，該殼體包括一基板取放閘門，設于該殼體之上；至少一致動裝置；以及至少一第一滾輪組，連接該致動裝置，其中，當欲拆卸該殼體時，該致動裝置推升該第一滾輪組以及該殼體，該殼體接觸該第一滾輪組，并透過該第一滾輪組沿一第一水平方向滑動。
10.如權(quán)利要求9所述的低壓處理機臺，其中，該殼體包括至少一導軌，設于該殼體之上，并與該第一滾輪組相對應。
11.如權(quán)利要求9所述的低壓處理機臺，其中，該致動裝置為一氣壓致動器。
12.一種低壓處理機臺，包括一基座，該基座的二側(cè)邊各具有至少一第一滾輪組；以及一殼體，具有一抽氣管路，該殼體可位于該基座上方的一第一位置及一第二位置，當位于該第一位置時，該殼體與該基座構(gòu)成一腔體；其中，當該殼體位于該第二位置時，該些第一滾輪組可接觸并支撐該殼體，幫助該殼體沿一第一水平方向滑動，離開該基座的上方。
13.如權(quán)利要求12所述的低壓處理機臺，其中，該基座還包括一承載盤。
14.如權(quán)利要求13所述的低壓處理機臺，其中，該承載盤用以承載一基板。
15.如權(quán)利要求12所述的低壓處理機臺，其中，該殼體的二側(cè)各包括至少一導軌，并與該些第一滾輪組相對應。
16.如權(quán)利要求12所述的低壓處理機臺，其還包括至少一致動裝置，設于該基座之上，并連接該些第一滾輪組，其中，當該殼體位于該第二位置時，該致動裝置可將該些第一滾輪組推升至一第一平面，以使該第一滾輪組接觸并支撐該殼體。
17.如權(quán)利要求16所述的低壓處理機臺，其中，該致動裝置為一氣壓致動器。
18.一種低壓處理機臺拆卸方法，包括提供一輸送裝置以及如權(quán)利要求12所述的低壓處理機臺；借由該第一滾輪組，將該殼體沿該第一水平方向滑動至該輸送裝置之上。
19.如權(quán)利要求18所述的低壓處理機臺拆卸方法，其中，該輸送裝置包括至少一第二滾輪組，當滑動該殼體時，該第一滾輪組與該第二滾輪組均位于一第一平面之上。
20.一種基板處理設備，包括；一第一制程機臺；一第二制程機臺；以及如權(quán)利要求12所述的低壓處理機臺，其中，該第一制程機臺、該第二制程機臺以及該低壓處理機臺是沿一第二水平方向排列。
21.如權(quán)利要求20所述的基板處理設備，其中，該第一水平方向垂直該第二水平方向。
全文摘要
一種低壓處理機臺，包括一基座、一承載盤、一殼體以及至少一第一滾輪組。承載盤設于該基座之上，用以置放一基板。殼體以可脫離的方式設于該基座之上，該殼體可以于一第一位置以及一第二位置之間移動，當該殼體位于該第一位置時，該殼體與該基座構(gòu)成一腔體，該承載盤位于該腔體之中。當欲拆卸該殼體時，該第一滾輪組可接觸并支撐該殼體，并幫助該殼體沿一第一水平方向滑動。
文檔編號F26B9/06GK1793763SQ200610000520
公開日2006年6月28日 申請日期2006年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2006年1月9日
發(fā)明者黃庭輝 申請人:廣輝電子股份有限公司