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用于監(jiān)測(cè)懸浮熔煉爐噴嘴性能的方法和裝置與流程

文檔序號(hào):11850735閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種用于監(jiān)測(cè)懸浮熔煉爐(2)例如閃速熔煉爐或者閃速吹煉爐的噴嘴(1)例如精礦噴嘴或者冰銅噴嘴的性能的方法,

其中,噴嘴(1)布置在懸浮熔煉爐(2)的反應(yīng)爐身(4)的爐頂結(jié)構(gòu)(3)處,并且噴嘴(1)具有:

固體物質(zhì)供給通道(5),其具有通入反應(yīng)爐身(4)中的固體物質(zhì)出口(6),以用于將固體物質(zhì)供給到反應(yīng)爐身(4)中,和

反應(yīng)氣體通道(12),其具有通入懸浮熔煉爐(2)的反應(yīng)爐身(4)中的反應(yīng)氣體出口(8),以用于將反應(yīng)氣體供給到反應(yīng)爐身(4)中,

其特征在于,

設(shè)置至少一個(gè)成像器件(9),

通過(guò)至少一個(gè)成像器件(9)來(lái)生成代表反應(yīng)氣體通道(12)橫截面的圖像,和

利用處理器件(10)從成像器件(9)接收反應(yīng)氣體通道(12)橫截面的圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其特征在于,利用處理器件(10)來(lái)將反應(yīng)氣體通道(12)橫截面的圖像與代表反應(yīng)氣體通道(12)橫截面的閾值圖像進(jìn)行比較。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法,其特征在于,將所述至少一個(gè)成像器件(9)至少部分地布置在噴嘴(1)外部。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法,其特征在于,

將所述至少一個(gè)成像器件(9)布置在噴嘴(1)外部,和

設(shè)置光學(xué)器件(16),例如透鏡、物鏡和/或反射鏡,以用于在噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)的內(nèi)部和噴嘴(1)外部的所述至少一個(gè)成像器件(9)之間引導(dǎo)圖像。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法,其特征在于,將所述至少一個(gè)成像器件(9)布置在噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)中。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的方法,其特征在于,

反應(yīng)氣體通道(12)在軸向上由反應(yīng)氣體通道頂壁(7)限定,和

將所述至少一個(gè)成像器件(9)布置在反應(yīng)氣體通道頂壁(7)中。

7.根據(jù)權(quán)利要求1到6中任一項(xiàng)的方法,其特征在于,

設(shè)置至少兩個(gè)成像器件(9),和

相對(duì)于噴嘴(1)的豎直中心線(xiàn)A對(duì)稱(chēng)地布置成像器件。

8.根據(jù)權(quán)利要求1到7中任一項(xiàng)的方法,其特征在于,

設(shè)置至少兩個(gè)激光測(cè)距儀(15),以用于測(cè)量反應(yīng)氣體通道(12)的寬度,和

通過(guò)所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀來(lái)測(cè)量反應(yīng)氣體通道(12)的寬度。

9.根據(jù)權(quán)利要求8的方法,其特征在于,

噴嘴(1)包括在反應(yīng)氣體通道(12)中的整流錐(14),和

布置所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀(15)以用于測(cè)量在整流錐(14)處的反應(yīng)氣體通道(12)寬度。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9的方法,其特征在于,將所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀(15)至少部分地布置在噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)中,優(yōu)選布置在噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)中。

11.根據(jù)權(quán)利要求8或9的方法,其特征在于,

將所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀(15)布置在噴嘴(1)外部,和

設(shè)置光學(xué)器件(16),例如透鏡、物鏡和/或反射鏡,以用于在噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)的內(nèi)部和噴嘴(1)外部的所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀(15)之間引導(dǎo)激光束。

12.根據(jù)權(quán)利要求8到11中任一項(xiàng)的方法,其特征在于,相對(duì)于噴嘴(1)的豎直中心線(xiàn)A對(duì)稱(chēng)地設(shè)置所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀。

13.根據(jù)權(quán)利要求8到12中任一項(xiàng)的方法,其特征在于,利用處理器件(10)從所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀接收關(guān)于反應(yīng)氣體通道(12)寬度的數(shù)據(jù)。

14.根據(jù)權(quán)利要求1到13中任一項(xiàng)的方法,其特征在于,將代表反應(yīng)氣體通道(12)橫截面的圖像保存在存儲(chǔ)器件上。

15.一種用于監(jiān)測(cè)懸浮熔煉爐(2)例如閃速熔煉爐或者閃速吹煉爐的噴嘴(1)例如精礦噴嘴或者冰銅噴嘴的性能的裝置,

其中,噴嘴(1)布置在懸浮熔煉爐(2)的反應(yīng)爐身(4)的爐頂結(jié)構(gòu)(3)處,并且噴嘴(1)具有:

固體物質(zhì)供給通道(5),其具有通入反應(yīng)爐身(4)中的固體物質(zhì)出口(6),以用于將固體物質(zhì)供給到反應(yīng)爐身(4)中,和

反應(yīng)氣體通道(12),其包括反應(yīng)氣體通道(12),具有通入懸浮熔煉爐(2)的反應(yīng)爐身(4)中的反應(yīng)氣體出口(8),以用于將反應(yīng)氣體供給到反應(yīng)爐身(4)中,

其特征在于,

至少一個(gè)成像器件(9),用于生成代表反應(yīng)氣體通道(12)橫截面的圖像,和

處理器件(10),用于從成像器件(9)接收反應(yīng)氣體通道(12)橫截面的圖像。

16.根據(jù)權(quán)利要求15的裝置,其特征在于,處理器件(10)構(gòu)造成用于將反應(yīng)氣體通道(12)橫截面的圖像與代表反應(yīng)氣體通道(12)橫截面的閾值圖像進(jìn)行比較。

17.根據(jù)權(quán)利要求15或16的裝置,其特征在于,所述至少一個(gè)成像器件(9)至少部分地布置在噴嘴(1)外部。

18.根據(jù)權(quán)利要求15或16的裝置,其特征在于,

所述至少一個(gè)成像器件(9)布置在噴嘴(1)外部,和

光學(xué)器件(16),例如透鏡、物鏡和/或反射鏡,用于在噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)的內(nèi)部和噴嘴(1)外部的所述至少一個(gè)成像器件(9)之間引導(dǎo)圖像。

19.根據(jù)權(quán)利要求15或16的裝置,其特征在于,所述至少一個(gè)成像器件(9)布置在噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)中。

20.根據(jù)權(quán)利要求19的裝置,其特征在于,

反應(yīng)氣體通道(12)在軸向上由反應(yīng)氣體通道頂壁(7)限定,和

所述至少一個(gè)成像器件(9)布置在反應(yīng)氣體通道頂壁(7)中。

21.根據(jù)權(quán)利要求15到20中任一項(xiàng)的裝置,其特征在于,

至少兩個(gè)成像器件(9),和

成像器件相對(duì)于噴嘴(1)的豎直中心線(xiàn)A對(duì)稱(chēng)地布置。

22.根據(jù)權(quán)利要求15到21中任一項(xiàng)的裝置,其特征在于,反應(yīng)氣體通道(12)中的至少兩個(gè)激光測(cè)距儀,用于測(cè)量反應(yīng)氣體通道(12)的寬度。

23.根據(jù)權(quán)利要求22的裝置,其特征在于,

噴嘴(1)包括在反應(yīng)氣體通道(12)中的整流錐(14),和

所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀布置在整流錐(14)處,以用于測(cè)量在整流錐(14)處反應(yīng)氣體通道(12)的寬度。

24.根據(jù)權(quán)利要求22或23的裝置,其特征在于,所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀(15)至少部分地布置在噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)中,優(yōu)選布置在噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)中。

25.根據(jù)權(quán)利要求22或23的裝置,其特征在于,

所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀(15)布置在噴嘴(1)外部,和

光學(xué)器件(25),例如透鏡、物鏡和/或反射鏡,用于在噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)的內(nèi)部和噴嘴(1)外部的所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀(15)之間引導(dǎo)激光束。

26.根據(jù)權(quán)利要求22到25中任一項(xiàng)的裝置,其特征在于,所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀相對(duì)于噴嘴(1)的豎直中心線(xiàn)A對(duì)稱(chēng)地設(shè)置。

27.根據(jù)權(quán)利要求22到26中任一項(xiàng)的裝置,其特征在于,處理器件(10)構(gòu)造成用于從所述至少兩個(gè)激光測(cè)距儀接收關(guān)于反應(yīng)氣體通道(12)寬度的數(shù)據(jù)。

28.根據(jù)權(quán)利要求15到27中任一項(xiàng)的裝置,其特征在于,存儲(chǔ)器件,用于保存代表反應(yīng)氣體通道(12)橫截面的圖像。

29.根據(jù)權(quán)利要求15到28中任一項(xiàng)的裝置,其特征在于,

噴嘴(1)的固體物質(zhì)供給通道(5)在徑向上由固體物質(zhì)供給通道壁(11)限定,并且具有通入反應(yīng)爐身(4)中的固體物質(zhì)出口(6)以用于將固體物質(zhì)供給到反應(yīng)爐身(4)中,和

噴嘴(1)的反應(yīng)氣體通道(12)是環(huán)形的反應(yīng)氣體通道(12),該環(huán)形的反應(yīng)氣體通道同軸地至少部分圍繞環(huán)形的固體物質(zhì)供給通道(5),并且具有通入懸浮熔煉爐(2)的反應(yīng)爐身(4)中的環(huán)形的反應(yīng)氣體出口(8)以用于將反應(yīng)氣體供給到反應(yīng)爐身(4)中。

30.根據(jù)權(quán)利要求31的裝置,其特征在于,

噴嘴(1)包括固體物質(zhì)分配器(13),以用于將微細(xì)的固體物質(zhì)引向懸浮熔煉爐(2)的反應(yīng)爐身(4)的反應(yīng)爐身(4)中的反應(yīng)氣體,和

固體物質(zhì)分配器(13)至少部分地布置在固體物質(zhì)供給通道(5)中,以使得固體物質(zhì)供給通道(5)為至少部分環(huán)形的固體物質(zhì)供給通道(5),同軸地至少部分圍繞固體物質(zhì)分配器(13),在徑向上由固體物質(zhì)供給通道壁(11)限定,并且具有通入反應(yīng)爐身(4)中的環(huán)形固體物質(zhì)出口(6)以用于將固體物質(zhì)供給到反應(yīng)爐身(4)中。

31.根據(jù)權(quán)利要求15到30中任一項(xiàng)的裝置,其特征在于,固體物質(zhì)供給通道(5)和環(huán)形的反應(yīng)氣體通道(12)相對(duì)于噴嘴(1)的豎直中心線(xiàn)A對(duì)稱(chēng)地設(shè)置。

32.根據(jù)權(quán)利要求1到14中任一項(xiàng)的方法或者根據(jù)權(quán)利要求15到31中任一項(xiàng)的裝置的用于確定噴嘴(1)的反應(yīng)氣體出口(8)的對(duì)稱(chēng)性的用途。

33.根據(jù)權(quán)利要求1到14中任一項(xiàng)的方法或者根據(jù)權(quán)利要求15到31中任一項(xiàng)的裝置的用于檢測(cè)積聚的用途。

34.根據(jù)權(quán)利要求1到14中任一項(xiàng)的方法或者根據(jù)權(quán)利要求15到31中任一項(xiàng)的裝置的用于監(jiān)測(cè)懸浮熔煉爐(2)的反應(yīng)爐身(4)中固體物質(zhì)與反應(yīng)氣體和可能的燃料例如油之間反應(yīng)的用途。

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