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高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝的制作方法

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技術(shù)特征:

1.高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,其特征在于,包括干燥機(jī)、除塵機(jī)、配分機(jī)、單螺桿擠出機(jī)、多層共擠模頭、多輥押出機(jī)、緩冷架、瑕疵檢測(cè)儀、牽引覆膜機(jī)、切邊牽引機(jī)、橫切機(jī)、機(jī)械手,所述干燥機(jī)將干燥的原料輸送至除塵機(jī)除塵,除塵機(jī)將除塵后的原料輸送至單螺桿擠出機(jī)料斗,與此同時(shí)配分機(jī)將添加劑定量配給到單螺桿擠出機(jī), 單螺桿擠出機(jī)將原料混練塑化變成溶體后輸送至多層共擠模頭,多層共擠模頭擠出多層厚度均勻的薄片至多輥押出機(jī),多輥押出機(jī)在多層薄片上壓沿出訂制的表面結(jié)構(gòu)后將多層薄片壓合成一體,多輥押出機(jī)壓合后的薄片輸送至緩冷架緩慢冷卻,設(shè)置于緩冷架上的瑕疵檢測(cè)儀對(duì)薄片品質(zhì)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),經(jīng)緩冷架冷卻的薄片輸送至牽引覆膜機(jī)進(jìn)行表面覆膜,由牽引覆膜機(jī)覆膜后的薄片輸送至切邊牽引機(jī)切除兩邊邊料,再輸送至橫切機(jī)進(jìn)行橫切成塊狀薄片,機(jī)械手將塊狀薄片抓取后碼垛;

高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延工藝:

①選料:選用透光率為87%~90%,折射率為1.53到1.62的PMMA、PS、PC、MS、PET或 PP材料制成光學(xué)級(jí)顆粒狀原料;

②干燥:將①中的原料送入干燥機(jī)進(jìn)行干燥處理,使原料含水率≤0.13%;

③供料:將干燥的原料輸送至除塵機(jī)除塵;除塵機(jī)將除塵后的原料輸送至單螺桿擠出機(jī)料斗,與此同時(shí)配分機(jī)將擴(kuò)散劑定量配給到單螺桿擠出機(jī);

④熱熔:將混合擴(kuò)散劑的原料在單螺桿擠出機(jī)中,采用220℃~260℃溫度混練塑化變成溶體;

⑤擠出壓延成型:?jiǎn)温輻U擠出機(jī)將原料混練塑化變成溶體后輸送至多層共擠模頭,多層共擠模頭擠出多層厚度均勻的薄片至多輥押出機(jī),多輥押出機(jī)在多層薄片上壓沿出與壓延輥表面相適應(yīng)的表面結(jié)構(gòu)后將多層薄片壓合成一體,得到厚度為0.2mm~10mm的光學(xué)薄片板材,光學(xué)薄片板材表面有多種微結(jié)構(gòu);

⑥冷卻與檢測(cè):多輥押出機(jī)壓合后的薄片輸出至緩冷架緩慢冷卻,設(shè)置于緩冷架上的瑕疵檢測(cè)儀對(duì)薄片品質(zhì)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè);

⑦覆膜:經(jīng)緩冷架冷卻的薄片輸送至牽引覆膜機(jī)進(jìn)行表面覆膜;

⑧裁切碼垛:由牽引覆膜機(jī)覆膜后的薄片輸送至切邊牽引機(jī)切除兩邊邊料,再輸送至橫切機(jī)進(jìn)行橫切成塊狀薄片,機(jī)械手將塊狀薄片抓取后碼垛。

2.如權(quán)利要求1所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,其特征在于,光學(xué)薄片板材表面結(jié)構(gòu)有金字塔形、圓弧圓柱形、棱鏡形、平面形、多層共擠形等,所述的棱鏡形狀是∧或者是∩,棱鏡形狀?yuàn)A角70-130度,高度為5-55μm;圓弧形與圓柱形的直徑為10-220μm,高度為10-60μm。

3.如權(quán)利要求2所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,其特征在于:所述的各種微結(jié)構(gòu)的節(jié)距在20μm-500μm,其節(jié)距的排列方式是直線(xiàn)排列或者傾斜角度排列與點(diǎn)陣式排列。

4.如權(quán)利要求3所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,其特征在于:所述的微結(jié)構(gòu)角度誤差控制在±0.5度。

5.如權(quán)利要求1所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述的薄片板材是單層基材或者是多層基材共擠。

6.如權(quán)利要求5所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述的多層共擠的薄片板材的基材霧度值可以相同或者不相同。

7.如權(quán)利要求1所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述的基材內(nèi)添加的擴(kuò)散劑可以是無(wú)機(jī)硅或者有機(jī)硅的球狀超微細(xì)顆粒。

8.如權(quán)利要求1所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述多輥押出機(jī)配置3-5支壓延輥105。

9.如權(quán)利要求1所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述壓延輥為圓柱型,直徑φ400-φ500,表面通過(guò)電化學(xué)方法鍍了一層500μm-1000μm的鎳合金層,采用超精密金剛石加工機(jī)床雕刻了微結(jié)構(gòu)層,其微結(jié)構(gòu)包括棱鏡結(jié)構(gòu)、金字塔結(jié)構(gòu)、圓柱形結(jié)構(gòu)、圓弧點(diǎn)結(jié)構(gòu)、磨砂面結(jié)構(gòu)等,節(jié)距在20μm-500μm。

10.如權(quán)利要求1所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述的緩冷架上布置多條緩冷輥,緩冷輥有水冷式與風(fēng)冷式結(jié)構(gòu),緩冷輥表面采用鍍鉻與特氟龍技術(shù)。

11.如權(quán)利要求1所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述的牽引覆膜機(jī)有一對(duì)牽引輥,輥的表面是特種橡膠層,具有雙工位覆膜系統(tǒng),保護(hù)膜經(jīng)過(guò)擴(kuò)幅輥后平整的貼合在產(chǎn)品表面。

12.如權(quán)利要求1所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述的切邊牽引機(jī)有兩對(duì)牽引輥,之間設(shè)置有削圓盤(pán)鋸切邊方式或者是無(wú)削圓盤(pán)刀切邊方式,兩種切邊方式都可在寬度方向調(diào)節(jié)。

13.如權(quán)利要求1所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述的橫切機(jī)分有削鋸片切割與無(wú)削刀片切割,兩種切割方式都可以對(duì)光學(xué)膜片板材裁切合格的產(chǎn)品尺寸。

14.如權(quán)利要求1所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述機(jī)械手采用無(wú)影真空吸盤(pán)抓取產(chǎn)品。

15.如權(quán)利要求8所述高透過(guò)率的免絲印光學(xué)薄片的擠出壓延設(shè)備及工藝,特征在于,所述壓延輥內(nèi)設(shè)有冷卻通道。

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