本發(fā)明涉及壓花膜、片狀膜、轉(zhuǎn)印物以及壓花膜的制造方法。
背景技術(shù)：
：近年來，具有各種平面形狀的凹凸結(jié)構(gòu)的壓花膜被開發(fā)和使用。作為這樣的壓花膜的制作方法，例如可舉出：使用壓模原盤(原盤)，在片狀的被轉(zhuǎn)印膜上形成凹凸結(jié)構(gòu)的方法。具體而言，制作壓模原盤，該壓模原盤在平板狀基板的表面(轉(zhuǎn)印面)上形成了要形成于膜的凹凸結(jié)構(gòu)的反向形狀，將該壓模原盤向被轉(zhuǎn)印膜按壓，從而將壓模原盤的轉(zhuǎn)印面的形狀轉(zhuǎn)印至被轉(zhuǎn)印膜。通過將這樣的轉(zhuǎn)印反復(fù)實(shí)施，能夠制作在片狀的被轉(zhuǎn)印膜的幾乎全部區(qū)域形成有所希望的凹凸結(jié)構(gòu)的壓花膜。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特開2009-258751號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：發(fā)明所要解決的課題然而，就使用上述壓模原盤制作壓花膜的方法而言，難以準(zhǔn)確地控制壓模原盤對(duì)于被轉(zhuǎn)印膜的按壓位置。因此存在如下問題：通過壓模原盤的一次轉(zhuǎn)印形成的凹凸結(jié)構(gòu)的排列圖案與通過下一次轉(zhuǎn)印形成的凹凸結(jié)構(gòu)的排列圖案之間產(chǎn)生錯(cuò)位。此外，就壓模原盤而言，隨著反復(fù)進(jìn)行轉(zhuǎn)印，壓模原盤的凸部磨損、或者凹部被剝離的膜填埋的可能性變高。因此存在如下問題：制作的壓花膜的面積越大，凹凸結(jié)構(gòu)向被轉(zhuǎn)印膜的轉(zhuǎn)印性越下降，轉(zhuǎn)印的凹凸結(jié)構(gòu)的缺損頻率越高。另外，專利文獻(xiàn)1中公開了如下方法：利用使用了圓筒或圓柱形原盤的輥對(duì)輥方式，制作具有可見光波長以下的周期的蛾眼結(jié)構(gòu)的膜等。然而，專利文獻(xiàn)1中公開的技術(shù)的目的是形成以可見光波長以下的周期形成的凹凸結(jié)構(gòu)(例如，1μm以下)，因此并沒有有助于解決上述問題。因此，本發(fā)明鑒于上述問題而做出的，本發(fā)明的目的在于，提供被轉(zhuǎn)印膜中的凹部的缺損頻率更少、新型且改良的壓花膜，將該壓花膜切斷而成的片狀膜，利用該壓花膜的轉(zhuǎn)印物，以及該壓花膜的制造方法。用于解決課題的方法為了解決上述課題，根據(jù)本發(fā)明的某一觀點(diǎn)，提供一種壓花膜，其具備膜主體和在上述膜主體的表面形成的多個(gè)凹部，上述凹部的開口面的直徑大于可見光波長，上述凹部的排列圖案具有沿著上述膜主體的長度方向的周期性，上述膜主體的一個(gè)端部中的凹部的缺損率與上述膜主體的另一個(gè)端部中的凹部的缺損率之差為10ppm以下。上述凹部的缺損率可以基于上述排列圖案的一個(gè)周期中的相同排列圖案所對(duì)應(yīng)的區(qū)域的凹部來算出。上述膜主體可以為長膜。形成于上述膜主體的上述凹部可以分別具有大致相同形狀。上述凹部的排列圖案可以為格子形狀。上述凹部的數(shù)密度可以為50000000個(gè)/cm2以下。上述膜主體在包括上述凹部?jī)?nèi)的表面的至少一部分具備由無機(jī)化合物形成的被覆層。上述膜主體可以由固化性樹脂或可塑性樹脂形成。此外，為了解決上述課題，根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)觀點(diǎn)，提供一種片狀膜，其是將上述記載的壓花膜切斷成多張而形成的。此外，為了解決上述課題，根據(jù)本發(fā)明的再另一個(gè)觀點(diǎn)，提供一種轉(zhuǎn)印物，其是使用上述記載的壓花膜或片狀膜，在對(duì)應(yīng)于上述排列圖案的位置上轉(zhuǎn)印微小固體物質(zhì)而成的。進(jìn)一步，為了解決上述課題，根據(jù)本發(fā)明的再另一個(gè)觀點(diǎn)，提供一種壓花膜的制造方法，包括在圓筒或圓柱形狀的原盤的周面形成多個(gè)凸部的步驟，以及對(duì)于被轉(zhuǎn)印膜，一邊旋轉(zhuǎn)上述原盤一邊按壓，將對(duì)應(yīng)于上述原盤的周面形狀的凹部轉(zhuǎn)印到上述被轉(zhuǎn)印膜來制作膜主體的步驟；上述凹部的開口面的直徑大于可見光波長，上述膜主體的一個(gè)端部中的凹部的缺損率與上述膜主體的另一個(gè)端部中的凹部的缺損率之差為10ppm以下。發(fā)明效果如以上說明的那樣，根據(jù)本發(fā)明，在將具有直徑大于可見光波長的開口面的凹部形成于膜時(shí)，能夠減小膜的一個(gè)端部中的凹部的缺損率與另一個(gè)端部中的凹部的缺損率之差。因此，即使在以大面積形成壓花膜的情況下，也能夠進(jìn)一步減少凹部的缺損頻率。附圖說明圖1為示意性地示出將本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式涉及的壓花膜沿厚度方向切斷時(shí)的截面形狀的截面圖。圖2為示出同一實(shí)施方式涉及的壓花膜的凹部的排列圖案的一個(gè)例子的俯視圖。圖3為示出用于形成圖2中所示的壓花膜的凹部的、圓筒形的原盤的一個(gè)例子的示意圖。圖4為示出用于說明同一實(shí)施方式涉及的壓花膜的一個(gè)使用例的說明圖。圖5a為示意性地示出將使用了同一實(shí)施方式涉及的壓花膜的轉(zhuǎn)印物沿厚度方向切斷時(shí)的截面形狀的截面圖。圖5b為示出使用了同一實(shí)施方式涉及的壓花膜的、轉(zhuǎn)印物的平面狀態(tài)的俯視圖。圖6為示出對(duì)于同一實(shí)施方式中使用的原盤描繪任意圖案的曝光裝置的構(gòu)成的說明圖。圖7為示意性地示出制作同一實(shí)施方式涉及的壓花膜的、轉(zhuǎn)印裝置的說明圖。圖8為同一實(shí)施方式涉及的壓花膜的基于sem的觀察圖像。圖9為同一實(shí)施方式涉及的壓花膜的基于sem的觀察圖像。具體實(shí)施方式以下，一邊參照附圖，一邊對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。需要說明的是，在本說明書和附圖中，對(duì)于實(shí)質(zhì)上具有相同功能構(gòu)成的構(gòu)成要素，給予相同符號(hào)而省略重復(fù)說明。<1.壓花膜>[1.1.壓花膜的結(jié)構(gòu)]首先，參照?qǐng)D1和圖2，對(duì)于本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式涉及的壓花膜的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。圖1為示意性地示出將本實(shí)施方式涉及的壓花膜1沿厚度方向切斷時(shí)的截面形狀的截面圖。如圖1所示，本實(shí)施方式涉及的壓花膜1具有膜主體10、以及在膜主體10的表面形成的多個(gè)凸部11和凹部13。在此，壓花膜1的層疊結(jié)構(gòu)并不限于圖1所示的結(jié)構(gòu)。例如，壓花膜1可以形成為多個(gè)樹脂層層疊而成的層疊體。例如，壓花膜1可以具有如下結(jié)構(gòu)：在膜主體10的與形成有凸部11和凹部13的表面相反的表面，層疊有由樹脂等形成的支持體(未圖示)。支持體可以由任意樹脂形成，例如可以由pet(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)樹脂等形成。膜主體10由具有固化性或可塑性的樹脂形成。膜主體10只要是具有固化性或可塑性的樹脂，則可以使用公知的任意樹脂。具體而言，膜主體10可以由作為固化性樹脂的光固化性樹脂、熱固性樹脂形成，也可以由作為可塑性樹脂的熱塑性樹脂(更詳細(xì)而言為通過熱而熔融的結(jié)晶性樹脂)形成。另外，具有固化性或可塑性的樹脂也可以與其它的膜形成材料混合。在膜主體10由熱塑性樹脂形成的情況下，例如可以通過在將膜主體10加熱，使其軟化后，按壓圓筒或圓柱形原盤，從而將形成于原盤表面的凹凸結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印至膜主體10。此外，在膜主體10由光固化性樹脂形成的情況下，例如可以通過在支持體上涂布光固化性樹脂，一邊按壓圓筒或圓柱形原盤一邊照射光使光固化性樹脂固化，從而將形成于原盤表面的凹凸結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印至膜主體10。膜主體10的厚度沒有特別限定，例如可以為8μm以上200μm以下。此外，在壓花膜1被形成為支持體與膜主體10的層疊體的情況下，壓花膜1整體的厚度沒有特別限定，例如可以為10μm以上300μm以下。這樣的情況下，膜主體10的厚度可以為1μm以上50μm以下，僅支持體的厚度可以為9μm以上250μm以下。凸部11和凹部13是形成于膜主體10上的凹凸結(jié)構(gòu)。其中，凸部11和凹部13的平面和截面形狀為任意形狀，凸部11和凹部13的平面形狀的大小可以形成為大于可見光波長。具體而言，凹部13形成為開口面的直徑大于可見光波長。另外，在凹部13的開口面的形狀不是圓形的情況(多邊形等的情況)下，凹部13形成為開口面的形狀的外切圓的直徑大于可見光波長。但是，在凹部13的開口面的形狀為三角形或矩形的情況下，凹部13可以形成為開口面的一個(gè)邊的長度大于可見光波長。更具體而言，凹部13可以形成為開口面的直徑為0.8μm以上500μm以下，優(yōu)選形成為1.0μm以上300μm以下，進(jìn)一步優(yōu)選形成為大于1.6μm且小于300μm。即，凹部13的開口面的直徑優(yōu)選為0.8μm以上，更優(yōu)選為1.0μm以上，進(jìn)一步優(yōu)選為大于1.6μm。此外，凹部13的開口面的直徑優(yōu)選為500μm以下，更優(yōu)選為300μm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為小于300μm。另外，凹部13的開口面的形狀如上所述可以為任意形狀。例如，凹部13的開口面的形狀可以為圓形、橢圓形、矩形和多邊形等。此外，凹部13的開口面的形狀可以為在一部分包含曲線的形狀。需要說明的是，關(guān)于凹部13的開口面的面積，只要開口面的直徑滿足上述條件，則可以不恒定。此外，凹部13的深度例如可以為0.08μm以上30μm以下，優(yōu)選可以為15μm以下。進(jìn)而，在凹部13的開口面的形狀為大致矩形或大致圓形的情況下，凹部13的縱橫比可以為0.1以上10以下。在此，凹部13的縱橫比定義為將凹部13的深度除以凹部13的開口面的最小直徑或最小邊的長度而算出的比率。在凹部13的深度超過30μm或者凹部13的縱橫比超過10的情況下，凹部13的形成變得困難，因而不優(yōu)選。此外，在凹部13的深度小于0.08μm或者凹部13的縱橫比小于0.1的情況下，向膜主體10的壓紋加工效果降低，因而不優(yōu)選。這里，在壓花膜1僅由膜主體10形成的情況下，凹部13的深度優(yōu)選不超過膜主體10的厚度。但是，在壓花膜1形成為支持體與膜主體10的層疊體的情況下，凹部13的深度可以超過膜主體10的厚度(即，凹部13可以貫通膜主體10而形成)。此外，關(guān)于凹部13的截面形狀，優(yōu)選在膜主體10整體上，具有相同開口形狀和深度的凹部13的截面形狀大致相同。作為一個(gè)例子，關(guān)于凹部13的開口面的形狀，優(yōu)選在膜主體10整體上大致相同。在凹部13的截面形狀或開口面的形狀大致相同的情況下，更加容易掌握壓花膜1中的凹部13的形成狀態(tài)，因而優(yōu)選。另外，可以在膜主體10的形成有凸部11和凹部13的表面的至少一部分設(shè)有被覆層。具體而言，可以在膜主體10的凸部11的上表面、凹部13的側(cè)壁和底面均設(shè)有被覆層，也可以在膜主體10的凹部13的側(cè)壁和底面的一部分設(shè)有被覆層。但是，被膜層的厚度不依賴于凹部13的形狀，可以在整個(gè)表面上大致恒定。被覆層例如可以為由無機(jī)化合物形成的層，也可以為由表面改性劑等有機(jī)化合物形成的層。另外，在被覆層為由有機(jī)化合物形成的層的情況下，被覆層的材質(zhì)優(yōu)選與形成有凹部13的膜主體10的材質(zhì)不同。這樣的情況下，被覆層的厚度優(yōu)選為可識(shí)別為堆積在凹部13的一部分的程度的厚度，具體而言，堆積的被覆層的體積優(yōu)選為凹部13的空間總體積的30體積％以下。通過形成這樣的被覆層，能夠使壓花膜1的表面狀態(tài)更加穩(wěn)定。此外，被覆層也可以以使凹部13的壁面傾斜的方式形成。這樣的情況下，在后述的使用例中，能夠使填充于凹部13的填料的轉(zhuǎn)印更加容易。接下來，參照?qǐng)D2和圖3，對(duì)于本實(shí)施方式涉及的壓花膜1的凹部13的排列圖案進(jìn)行說明。圖2為示出本實(shí)施方式涉及的壓花膜1的凹部13的排列圖案的一個(gè)例子的俯視圖。此外，圖3為示出用于形成圖2中所示的壓花膜1的凹部13的、圓筒形的原盤的一個(gè)例子的示意圖。如圖2所示，膜主體10例如為長膜。具體而言，膜主體10的長度的下限可以為5m、10m、30m、50m、100m、200m、300m和500m中的任一種。膜主體10的寬度沒有特別限定，例如為0.05cm以上300cm以下。此外，在膜主體10上形成的凹部13的排列圖案具有沿著膜主體10的長度方向的周期性。這是因?yàn)椋诒緦?shí)施方式涉及的壓花膜1中，對(duì)于膜主體10，以輥對(duì)輥方式按壓圓筒或圓柱形原盤，從而形成凸部11和凹部13。因此，在壓花膜1上，以至少具有相當(dāng)于圓筒或圓柱形原盤的一周的周期性的排列圖案來形成凸部11和凹部13。具體而言，在圖3中示出用于形成圖2中所示的壓花膜1的凹部13的、圓筒形的原盤4的一個(gè)例子。如圖3所示，在圓筒形的原盤4的外周面，形成與圖2所示的凸部11和凹部13對(duì)應(yīng)的凹凸結(jié)構(gòu)41。在此，在圓筒形的原盤4的外周面形成的凹凸結(jié)構(gòu)41中的a方向?yàn)閴夯?的寬度方向，凹凸結(jié)構(gòu)41中的b方向?yàn)閴夯?的長度方向。如圖3所示，凹凸結(jié)構(gòu)41可以為六邊形格子等具有周期性的排列圖案，也可以為不具有周期性的任意排列圖案。但是，由于圓筒形的原盤4一邊旋轉(zhuǎn)一邊按壓膜主體10而將凹凸結(jié)構(gòu)41轉(zhuǎn)印至膜主體10，因此在壓花膜1上形成的凸部11和凹部13的排列圖案一定會(huì)具有相當(dāng)于圓筒形的原盤4的一周的周期性。此外，在膜主體10上形成的凹部13的排列圖案可以具有沿著與膜主體10的長度方向正交的方向(即膜主體10的寬度方向)的周期性。即，可以沿著膜主體10的寬度方向，重復(fù)形成有相同形狀的凹部13。此外，凹部13的排列圖案可以在膜主體10的長度方向和寬度方向這兩個(gè)方向上具有相同的重復(fù)周期。這是因?yàn)?，在將所形成的壓花?切斷而形成單片化的片狀膜的情況下，在長度方向和寬度方向這兩個(gè)方向上可以得到大致相同的片狀膜。在此，一般而言，在通過由圖案原盤轉(zhuǎn)印而制作的壓花膜1中，從圖案原盤按壓膜主體10時(shí)，有時(shí)會(huì)產(chǎn)生轉(zhuǎn)印不良所導(dǎo)致的缺損部15。缺損部15表示例如在被轉(zhuǎn)印的排列圖案中應(yīng)形成凹部13的位置上沒有形成凹部13的情況。這樣的缺損部15是由于連續(xù)使用圖案原盤所引起的凸結(jié)構(gòu)的磨損或在凹結(jié)構(gòu)中的樹脂堵塞等而產(chǎn)生的。因此存在如下傾向：隨著對(duì)更大面積的膜主體10進(jìn)行凹凸結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)印，缺損部15累積性增加。本實(shí)施方式涉及的壓花膜1中，膜主體10的一個(gè)端部中的凹部13的缺損率與膜主體10的另一個(gè)端部中的凹部13的缺損率之差為10ppm以下。需要說明的是，缺損率表示預(yù)定區(qū)域中的缺損部15相對(duì)于全部凹部13的比例。由此，本實(shí)施方式涉及的壓花膜1在大面積的膜主體10中凹凸結(jié)構(gòu)的均勻性提高，并且缺損部15的產(chǎn)生頻率變低。另外，膜主體10的一個(gè)端部中的凹部13的缺損率與膜主體10的另一個(gè)端部中的凹部13的缺損率之差的下限值沒有特別限定，但越小越優(yōu)選，當(dāng)然最優(yōu)選為0。更具體而言，凹部13向著箭頭l方向而形成于膜主體10的情況下，作為膜主體10的一個(gè)端部的區(qū)域f中的凹部13的缺損率與作為膜主體10的另一個(gè)端部的區(qū)域r中的凹部13的缺損率之差為10ppm以下。其中，凹部13的排列圖案具有沿著膜主體10的長度方向的周期性，因此區(qū)域f和區(qū)域r選擇在排列圖案的一個(gè)周期中形成有相同排列圖案的凹部13的區(qū)域。即，在膜主體10上形成的凹部13的缺損率是在凹部13的排列圖案相同的區(qū)域之間進(jìn)行比較。此外，在本實(shí)施方式涉及的壓花膜1中，抑制在膜主體10的長度方向(更詳細(xì)而言為形成凹部13的方向，即箭頭l方向)上連續(xù)產(chǎn)生缺損部15。具體而言，壓花膜1中，可以使膜主體10的10cm2的范圍中連續(xù)的缺損部15的個(gè)數(shù)為10個(gè)以下，優(yōu)選為5個(gè)以下。其中，連續(xù)的缺損部15表示相鄰的凹部13分別未形成圖案而成為缺損部15。另外，膜主體10的10cm2的范圍中連續(xù)的缺損部15的個(gè)數(shù)的下限值沒有特別限定，但越少越優(yōu)選，當(dāng)然最優(yōu)選為0。凹部13的排列圖案沒有特別限制，可以為任意的排列圖案。但是，凹部13的數(shù)密度優(yōu)選為50000000個(gè)/cm2以下。在凹部13的數(shù)密度超過50000000個(gè)/cm2的情況下，當(dāng)形成凹部13時(shí)，圓筒或圓柱形原盤與膜主體10的接觸面積增加，原盤與膜主體10的脫模性下降，變得難以形成凹部13，因而不優(yōu)選。另外，凹部13的數(shù)密度的下限值沒有特別限定，例如可以為100個(gè)/cm2以上。此外，凹部13之間的間隔(即排列圖案的凹部13的間距)例如可以為0.5μm以上1000μm以下。需要說明的是，凹部13之間的間隔是指相鄰的凹部13彼此的開口面的中心間距離。其中，作為凹部13的開口面的形狀和排列圖案，可舉出各種形狀，作為一個(gè)例子，可舉出正方形格子、菱形格子、六邊形格子、平行四邊形格子等格子形狀。此外，凹部13的開口面的形狀可以為圓形，也可以為矩形，還可以為包括曲線的形狀。凹部13的排列圖案只要具有周期性，就可以為任意的排列圖案，例如可以為多種排列圖案混合存在的圖案。在多種排列圖案混合存在的情況下，關(guān)于各排列圖案的凹部13的合計(jì)，凹部13的數(shù)密度優(yōu)選為50000000個(gè)/cm2以下。此外，也可以形成具有上述說明的凹部13的形狀和排列圖案的凸部11來代替上述說明的凹部13。即，也可以形成具有上述凹部13的排列圖案的反向形狀的凸部11，例如也可以將凸部11形成為正方形格子、菱形格子、六邊形格子、平行四邊形格子等格子形狀。這樣的情況下，后述的缺損率優(yōu)選使用凸部11的缺損的有無來算出。另外，在壓花膜1中，還可以存在源自圖案原盤的接縫或合縫。這是因?yàn)?，只要這樣的接縫或合縫為微小的范圍，則對(duì)壓花膜1的影響小。例如，這樣的接縫或合縫只要是可見光波長以下的大小的凹部或凸部分散存在而形成的線等，則能夠使得對(duì)壓花膜1的影響小。還因?yàn)?，在壓花?為長膜的情況下，這樣的接縫或合縫也可以用于壓花膜1中的坐標(biāo)確定。如以上說明的那樣，本實(shí)施方式涉及的壓花膜1中，膜主體10的一個(gè)端部中的凹部13的缺損率與膜主體10的另一個(gè)端部中的凹部13的缺損率之差為10ppm以下。即，本實(shí)施方式涉及的壓花膜1在將圓筒或圓柱形原盤連續(xù)用于轉(zhuǎn)印時(shí)對(duì)凸結(jié)構(gòu)或凹結(jié)構(gòu)的損傷小。因此，即使在對(duì)大面積的膜主體10形成凹部13的情況下，也能夠抑制壓花膜1中的缺損部15的累積性增加量。因此，本實(shí)施方式涉及的壓花膜1能夠在大面積的膜主體10中提高凹凸結(jié)構(gòu)的均勻性，并且使缺損部15的產(chǎn)生頻率下降。此外，也可以將上述本實(shí)施方式涉及的壓花膜1以預(yù)定長度切斷而制作片狀膜。這些片狀膜由在膜整體中凹凸結(jié)構(gòu)的均勻性高的壓花膜1制作，因此能夠提高片狀膜內(nèi)以及片狀膜間的凹凸結(jié)構(gòu)的均勻性。進(jìn)而，上述本實(shí)施方式涉及的壓花膜1、以及將切斷該壓花膜1來制作的片狀膜層疊多層而成的層疊體也包括在本發(fā)明的范疇內(nèi)。[1.2.壓花膜的使用例]接著，參照?qǐng)D4～圖5b，對(duì)于本實(shí)施方式涉及的壓花膜1的一個(gè)使用例進(jìn)行說明。圖4為用于說明本實(shí)施方式涉及的壓花膜1的一個(gè)使用例的說明圖。本實(shí)施方式涉及的壓花膜1可以用作使填料等微小固體物質(zhì)以預(yù)定的排列圖案排列于樹脂片等時(shí)的轉(zhuǎn)印膜。具體而言，如圖4所示，在壓花膜1的凹部13中填充有填料20。接著，通過將壓花膜1的填充有填料20的表面向轉(zhuǎn)印片30按壓，可以將填料20轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印片30側(cè)。通過這樣使用壓花膜1轉(zhuǎn)印填料20，可以按照在壓花膜1上形成的凹部13的排列圖案，簡(jiǎn)易地使微小的填料排列在轉(zhuǎn)印片30表面。另外，作為向壓花膜1的凹部13填充填料20的方法，例如可以使用如下方法等：在壓花膜1上撒布填料20后，用纖維體(例如，布等)擦拭壓花膜1的表面。其中，擦拭所使用的纖維體的織眼或針眼的大小優(yōu)選小于填料20的直徑。作為填充于壓花膜1的凹部13的填料20，可以使用無機(jī)物、有機(jī)物、無機(jī)物形成多層結(jié)構(gòu)的物質(zhì)、無機(jī)物與有機(jī)物混合存在的物質(zhì)(例如，由有機(jī)物形成的微小固體物質(zhì)被無機(jī)物被覆而成的物質(zhì))等。具體而言，填料20可以為顏料、染料等。此外，填料20的比重(以水為基準(zhǔn))例如可以為0.8以上23以下。此外，填料20可以賦有各種物性或功能性。另外，填料20的形狀可以為任意形狀，但優(yōu)選為具有大致各向同性的形狀、或者將結(jié)晶性物質(zhì)破碎而成的形狀。另外，填料20的大小只要能夠填充至壓花膜1的凹部13，就可以為任意大小。但是，將填料20的輪廓線的任意兩個(gè)點(diǎn)連接的線段的最大長度優(yōu)選為將凹部13的開口面的輪廓線上的任意兩個(gè)點(diǎn)連接的線段的最小長度以下。其中，在壓花膜1的凹部13中，可以不填充相同填料20。具體而言，形狀或材料不同的多種填料20可以分別填充于壓花膜1的凹部13。通過使用這樣的壓花膜1，能夠使多種填料20同時(shí)排列在轉(zhuǎn)印片30的表面。另外，如上所述，在壓花膜1的凸部11和凹部13的表面的一部分，可以形成由無機(jī)化合物等構(gòu)成的被覆層。在凸部11和凹部13的表面的一部分形成有被覆層的情況下，能夠提高壓花膜1的凹部13與填料20的脫模性，因此能夠提高填料20對(duì)于轉(zhuǎn)印片30的轉(zhuǎn)印性。將這樣制作的作為轉(zhuǎn)印物的轉(zhuǎn)印片30示于圖5a和圖5b。圖5a為示意性地示出將使用了本實(shí)施方式涉及的壓花膜1的轉(zhuǎn)印物沿厚度方向切斷時(shí)的截面形狀的截面圖，圖5b為示出使用了同一實(shí)施方式涉及的壓花膜的、轉(zhuǎn)印物的平面狀態(tài)的俯視圖。轉(zhuǎn)印片30的材料沒有特別限定，例如優(yōu)選為粘著片。在轉(zhuǎn)印片30具有粘著性的情況下，能夠提高填充于壓花膜1的填料20的轉(zhuǎn)印性。使用本實(shí)施方式涉及的壓花膜1，將填料20轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印片30的情況下，可以使填料20對(duì)于轉(zhuǎn)印片30的轉(zhuǎn)印率為99.99％以上(即，缺損率100ppm以下)。其中，轉(zhuǎn)印率表示將轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印片30的表面的填料20的個(gè)數(shù)除以在壓花膜1上形成的凹部13(也包括實(shí)際上沒有形成凹部13的缺損部15)的個(gè)數(shù)而得到的比例。以上，對(duì)于本實(shí)施方式涉及的壓花膜1的一個(gè)使用例進(jìn)行了說明。需要說明的是，本實(shí)施方式涉及的壓花膜1的使用例并不限于上述的例示。例如，關(guān)于本實(shí)施方式涉及的壓花膜1，作為壓花膜的使用例，也可以用作公知的絕熱或放熱材料、消光膜、防粘膜等。此外，也可以將本實(shí)施方式涉及的壓花膜1用于印刷電子設(shè)備。此外，使用本實(shí)施方式涉及的壓花膜1而被轉(zhuǎn)印的填料20也可以用于例如車輛等的表面修飾(消光等)。使用本實(shí)施方式涉及的壓花膜1而被轉(zhuǎn)印的填料20、以及包含被轉(zhuǎn)印的填料20的被轉(zhuǎn)印體的用途沒有特別限制，例如可以在印刷電子設(shè)備領(lǐng)域及其應(yīng)用領(lǐng)域(包括相關(guān)領(lǐng)域)等中使用。此外，被轉(zhuǎn)印的填料20以及包含被轉(zhuǎn)印的填料20的被轉(zhuǎn)印體并不限于上述領(lǐng)域，可以用作功能性膜(或功能性設(shè)備)。例如，被轉(zhuǎn)印的填料20以及包含被轉(zhuǎn)印的填料20的被轉(zhuǎn)印體可以作為生物傳感器或診斷設(shè)備等而在醫(yī)療、生物、醫(yī)療保健和生命科學(xué)領(lǐng)域中使用，也可以作為光學(xué)元件使用。此外，被轉(zhuǎn)印的填料20和包含被轉(zhuǎn)印的填料20的被轉(zhuǎn)印體也可以在電池或能量相關(guān)領(lǐng)域、車載相關(guān)領(lǐng)域(即汽車相關(guān)領(lǐng)域)中使用。此外，也可以使用本實(shí)施方式涉及的壓花膜1，將填料20轉(zhuǎn)印到其它膜，使轉(zhuǎn)印有填料20的其它膜進(jìn)一步層疊在其它膜上。通過這樣重復(fù)進(jìn)行轉(zhuǎn)印和層疊，從而填料的一部分或全部被設(shè)于其它膜的規(guī)定位置，這樣的情況也包括在本發(fā)明的范疇中。[1.3.壓花膜的制作方法]接著，參照?qǐng)D6和圖7，對(duì)于本實(shí)施方式涉及的壓花膜1的制作方法進(jìn)行說明。例如，本實(shí)施方式涉及的壓花膜1可以通過在作為支持體的基材61上涂布由光固化性樹脂形成的轉(zhuǎn)印層62(相當(dāng)于膜主體10)，向轉(zhuǎn)印層62按壓原盤4，在轉(zhuǎn)印層62上形成凹部13，從而制作。本實(shí)施方式涉及的向壓花膜1轉(zhuǎn)印的原盤4例如可以通過使用如圖6所示曝光裝置7，形成具有任意排列圖案的凹凸結(jié)構(gòu)41。具體而言，對(duì)于在外周面形成有抗蝕劑層的原盤4，利用曝光裝置7照射激光，將與任意排列圖案對(duì)應(yīng)的位置的抗蝕劑層進(jìn)行曝光。接著，將曝光的抗蝕劑層顯影后，對(duì)于形成有與任意排列圖案對(duì)應(yīng)的抗蝕劑圖案的原盤4，進(jìn)行蝕刻等，從而可以在原盤4上形成具有任意排列圖案的凹凸結(jié)構(gòu)41。以下，對(duì)于可對(duì)原盤4描繪任意圖案的曝光裝置的構(gòu)成進(jìn)行說明。圖6為示出對(duì)在本實(shí)施方式中使用的原盤4描繪任意圖案的曝光裝置7的構(gòu)成的說明圖。如圖6所示，曝光裝置7具備激光源71、第一鏡73、光電二極管(photodiode：pd)74、聚光透鏡76、電光偏轉(zhuǎn)元件(electroopticdeflector：eod)79、準(zhǔn)直透鏡78、控制機(jī)構(gòu)87、第二鏡81、移動(dòng)光學(xué)臺(tái)82、主軸電動(dòng)機(jī)85和旋轉(zhuǎn)臺(tái)86。此外，原盤4載置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)86上而能夠旋轉(zhuǎn)。激光源71例如為半導(dǎo)體激光器。具體而言，激光源71可以為發(fā)出400nm～500nm的藍(lán)色光波長的激光的藍(lán)色半導(dǎo)體激光器。此外，激光源71發(fā)出的激光70的光斑徑(直徑)例如可以為約200nm。從激光源71射出的激光70以平行光束的狀態(tài)直行，被第一鏡73反射。并且，被第一鏡73反射的激光70通過聚光透鏡76而在電光偏轉(zhuǎn)元件79聚光后，通過準(zhǔn)直透鏡78而再次被平行光束化。平行光束化的激光70被第二鏡81反射，水平且平行地引導(dǎo)到移動(dòng)光學(xué)臺(tái)82上。第一鏡73由偏振分束器構(gòu)成，具有使偏振成分的一方反射、使偏振成分的另一方透射的功能。透過第一鏡73的偏振成分通過光電二極管74而受光，進(jìn)行光電轉(zhuǎn)換。此外，通過光電二極管74而被光電轉(zhuǎn)換后的受光信號(hào)被輸入至激光源71，激光源71基于所輸入的受光信號(hào)調(diào)整激光70。電光偏轉(zhuǎn)元件79是能夠控制激光70的照射位置的元件。曝光裝置7也可以利用電光偏轉(zhuǎn)元件79改變被引導(dǎo)至移動(dòng)光學(xué)臺(tái)82上的激光70的照射位置。此外，控制機(jī)構(gòu)87具備格式化器89和驅(qū)動(dòng)器88，控制激光70的照射。格式化器89基于繪制了描繪于原盤4的任意圖案的輸入圖像，生成用于向原盤4照射激光70的控制信號(hào)。具體而言，首先，格式化器89取得繪制了描繪于原盤4的任意圖案的輸入圖像。輸入圖像是在軸向上切開原盤4的外周面并在一個(gè)平面上伸開而成的相當(dāng)于原盤4的外周面的展開圖的圖像。接著，格式化器89將輸入圖像分割成預(yù)定大小的小區(qū)域(例如，分割成格子狀)，判斷各小區(qū)域是否包含描繪圖案。接下來，格式化器89生成以如下方式進(jìn)行控制的控制信號(hào)：對(duì)判斷為包含描繪圖案的各小區(qū)域，照射激光70。進(jìn)而，驅(qū)動(dòng)器88基于格式化器89生成的控制信號(hào)控制激光源71的輸出。由此，控制對(duì)原盤4的激光70的照射。移動(dòng)光學(xué)臺(tái)82具備光束擴(kuò)展器(beamexpander：bex)83和物鏡84。引導(dǎo)至移動(dòng)光學(xué)臺(tái)82的激光70通過光束擴(kuò)展器83整形為所期望的束形狀后，通過物鏡84，照射至原盤4的外周面。根據(jù)這樣的構(gòu)成，利用旋轉(zhuǎn)臺(tái)86使原盤4以一定速度旋轉(zhuǎn)，使激光70在原盤4的軸向上以一定速度掃描并同時(shí)進(jìn)行照射，從而在原盤4上進(jìn)行描繪。需要說明的是，激光70的掃描是通過利用移動(dòng)光學(xué)臺(tái)82使激光70以一定速度向箭頭s方向移動(dòng)而進(jìn)行的。此外，原盤4也可以通過使用其它方法來形成具有任意排列圖案的凹凸結(jié)構(gòu)41。例如，原盤4也可以通過使用利用單晶金剛石工具的超精密切削等，在外周面形成具有任意排列圖案的凹凸結(jié)構(gòu)41。接下來，對(duì)于將利用上述方法等制作的原盤4向膜主體10按壓而形成壓花膜1的方法進(jìn)行說明。圖7為示意性地示出制作本實(shí)施方式涉及的壓花膜1的轉(zhuǎn)印裝置的構(gòu)成的說明圖。如圖7所示，轉(zhuǎn)印裝置6具備原盤4、基材供應(yīng)輥51、卷取輥52、導(dǎo)輥53、54、夾持輥55、剝離輥56、涂布裝置57和光源58。原盤4是在外周面形成有具有任意排列圖案的凹凸結(jié)構(gòu)41的圓筒或圓柱形原盤。原盤4的材料沒有特別限定，可以使用熔融石英玻璃或合成石英玻璃等石英玻璃(sio2)、或者不銹鋼等。原盤4的大小沒有特別限定，例如，軸向的長度可以為100mm以上，外徑可以為50mm以上300mm以下，厚度可以為2mm以上50mm以下。此外，在原盤4的外周面形成作為在壓花膜1上形成的凸部11與凹部13的反向形狀的凹凸結(jié)構(gòu)41。其中，在原盤4的外周面形成的凹凸結(jié)構(gòu)41可以為任意形狀。需要說明的是，在原盤4的外周面也可以形成有制作時(shí)的接縫或合縫。這樣的接縫或合縫只要是微小的范圍，則對(duì)壓花膜1的影響小，此外，能夠作為壓花膜1中確定坐標(biāo)時(shí)的記號(hào)。基材供應(yīng)輥51是將片形態(tài)的作為支持體的基材61卷成輥狀的輥，卷取輥52是將凹凸結(jié)構(gòu)41被轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印層62的壓花膜1進(jìn)行卷曲的輥。此外，導(dǎo)輥53、54是輸送基材61的輥。夾持輥55是將層疊有轉(zhuǎn)印層62的基材61向原盤4按壓的輥，剝離輥56是在凹凸結(jié)構(gòu)41被轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印層62后、將轉(zhuǎn)印有凹凸結(jié)構(gòu)41的壓花膜1(即，層疊有轉(zhuǎn)印層62的基材61)從原盤4剝離的輥。涂布裝置57具備涂敷機(jī)等涂布設(shè)備，將光固化樹脂組合物涂布于基材61，形成轉(zhuǎn)印層62。涂布裝置57例如可以為凹版涂布機(jī)、線棒涂布機(jī)或模具涂布機(jī)等。此外，光源58是能夠發(fā)出可將光固化樹脂組合物固化的波長的光的光源，例如可以為紫外線燈等。需要說明的是，在光源58為定向性光源的情況下，可以使光的照射角度傾斜于轉(zhuǎn)印層62的垂直方向。這樣的情況下，形成于轉(zhuǎn)印層62的凹凸結(jié)構(gòu)的表面的固化率產(chǎn)生差異，局部發(fā)生固化，因此能夠提高壓花膜1的轉(zhuǎn)印率。另外，光固化性樹脂組合物是通過受到預(yù)定波長的光的照射從而流動(dòng)性下降、發(fā)生固化的樹脂。具體而言，光固化性樹脂組合物可以為丙烯酸樹脂等紫外線固化樹脂。此外，光固化性樹脂組合物可以根據(jù)需要包含引發(fā)劑、填料、功能性添加劑、溶劑、無機(jī)材料、顏料、防靜電劑或敏化色素等。轉(zhuǎn)印裝置6中，首先，從基材供應(yīng)輥51通過導(dǎo)輥53而連續(xù)送出基材61。對(duì)于送出的基材61，利用涂布裝置57涂布光固化樹脂組合物，從而在基材61上層疊轉(zhuǎn)印層62。此外，利用夾持輥55，使層疊有轉(zhuǎn)印層62的基材61與原盤4密合。由此，在原盤4的外周面形成的凹凸結(jié)構(gòu)41被轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印層62。在凹凸結(jié)構(gòu)41被轉(zhuǎn)印后，轉(zhuǎn)印層62通過來自光源58的光的照射而固化。接下來，層疊有固化的轉(zhuǎn)印層62的基材61(即壓花膜1)利用剝離輥56而從原盤4剝離，通過導(dǎo)輥54，利用卷取輥52而被卷曲。利用這樣的轉(zhuǎn)印裝置6，能夠連續(xù)地制作本實(shí)施方式涉及的壓花膜1。需要說明的是，上述轉(zhuǎn)印裝置6中，為了連續(xù)地進(jìn)行轉(zhuǎn)印，可以在中途將基材61更換為其它批次。將這樣制作的壓花膜1的一個(gè)例子的圖像示于圖8和圖9。圖8和圖9是本實(shí)施方式涉及的壓花膜1的基于掃描型電子顯微鏡(scanningelectronmicroscope：sem)的觀察圖像。此外，圖8a和圖9a是觀察壓花膜1的上表面的sem圖像，圖8b和圖9b是觀察將8a和圖9a中所示的壓花膜1沿x-xx線切斷的截面的sem圖像。需要說明的是，圖8a和圖9a中，sem圖像的上下方向相當(dāng)于壓花膜1的長度方向，左右方向相當(dāng)于壓花膜1的寬度方向。參照?qǐng)D8a和圖9a可知，本實(shí)施方式涉及的壓花膜1能夠形成具有任意排列圖案的凹凸結(jié)構(gòu)。此外，參照?qǐng)D8b和圖9b可知，所形成的凹凸結(jié)構(gòu)的深度為3.4μm～3.5μm程度。<2.實(shí)施例>以下，一邊參照實(shí)施例和比較例，一邊對(duì)本實(shí)施方式涉及的壓花膜進(jìn)行更詳細(xì)說明。需要說明的是，以下所示的實(shí)施例是用于顯示本實(shí)施方式涉及的壓花膜的實(shí)施可能性和效果的一個(gè)條件例，本發(fā)明并不限于以下的實(shí)施例。(實(shí)施例)通過以下的工序，制作實(shí)施例涉及的壓花膜。首先，制作圓筒形狀的原盤。具體而言，在4.5mm厚的圓筒形狀的由石英玻璃形成的基材的外周面，通過使用烴系氣體的cvd(chemicalvapordeposition，化學(xué)氣相沉積)，將dlc(diamondlikecarbon，類金剛石碳)以膜厚800nm成膜，作為中間層。接著，在中間層上，利用濺射法將氧化鎢以膜厚55nm成膜，作為抗蝕劑層。接下來，通過圖6中所示的曝光裝置，進(jìn)行利用激光的熱壓印，在抗蝕劑層形成潛像。另外，對(duì)于曝光裝置的激光源，使用發(fā)出波長405nm的激光的藍(lán)色半導(dǎo)體激光器。曝光圖案使用了將直徑7μm的圓以10μm間距(圓的中心間距離)排列成六邊形格子的排列圖案。此外，以直徑7μm的圓在原盤上成為凸部的方式(即，以直徑7μm的圓在轉(zhuǎn)印后的壓花膜中成為凹部的方式)，利用曝光裝置將直徑7μm的圓以外的部分曝光。接下來，對(duì)于抗蝕劑層被曝光后的基材，使用tmah(四甲基氫氧化銨)的2.38質(zhì)量％水溶液進(jìn)行顯影，使曝光的部分的抗蝕劑溶解。進(jìn)一步，對(duì)于顯影后的抗蝕劑層，使用掩模，通過利用o2氣體的反應(yīng)性離子蝕刻，將中間層蝕刻。接著，對(duì)于抗蝕劑層和中間層，使用掩模，通過利用cf系氣體的反應(yīng)性離子蝕刻，將基材蝕刻。另外，以壓花膜中凹部的縱橫比成為1的方式進(jìn)行基材的蝕刻直至凸部的高度達(dá)到7μm。通過以上工序，制作在外周面形成有凹凸結(jié)構(gòu)的圓筒形狀的原盤。接著，在50cm寬的由pet形成的基材膜(膜厚50μm)上，以膜厚30μm涂布含有丙烯酸酯樹脂m208(東亞合成制)100質(zhì)量份、光聚合引發(fā)劑irgcur184(巴斯夫制)2質(zhì)量份的光固化樹脂組合物。進(jìn)而，使用上述圖7中所示的轉(zhuǎn)印裝置，將原盤向基材膜按壓，利用高壓水銀燈進(jìn)行1000mj的光照射，將凹凸結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印至1000m程度的基材膜。由此，制作了直徑7μm、深度7μm(縱橫比1)的圓形凹部以該凹部的中心間距離10μm排列成六邊形格子狀的壓花膜。此外，利用光學(xué)顯微鏡，在1mm2的范圍中觀察100個(gè)部位并測(cè)定，結(jié)果，壓花膜的凹部的數(shù)密度為11500個(gè)/mm2。接著，評(píng)價(jià)上述制作的實(shí)施例涉及的壓花膜的凹部的缺損率。具體而言，對(duì)于從轉(zhuǎn)印開始位置起的各預(yù)定距離，利用光學(xué)顯微鏡將200μm×200μm的面視野放大至25cm2程度，觀察多個(gè)部位，算出觀察區(qū)域中缺損部15相對(duì)于全部凹部13的比例。關(guān)于這樣的缺損率的評(píng)價(jià)，在將從原盤起的轉(zhuǎn)印開始位置設(shè)為0時(shí)的轉(zhuǎn)印距離1m～1000m的范圍中實(shí)施。在以下表1中示出算出的缺損率。[表1]從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離(m)缺損率(ppm)102500.15000.47500.810001由表1中所示結(jié)果可知，就實(shí)施例涉及的壓花膜而言，膜的一個(gè)端部(從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離1m的位置)中的凹部的缺損率、與膜的另一個(gè)端部(從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離1000m的位置)中的凹部的缺損率之差為1ppm以下。由此可知，在壓花膜的長度為1000m的情況下，實(shí)施例涉及的壓花膜中，關(guān)于從相對(duì)于膜整體長度為0.1％的位置(即，從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離1m的位置)起至相對(duì)于膜整體長度為100％的位置(即，從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離1000m的位置)的每25％而算出的0.1％、25％、50％、75％以及100％的各地點(diǎn)中的缺損率幾乎一致。需要說明的是，關(guān)于從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離100m、200m的缺損率，雖然沒有示于表1，但與從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離1m處相同。此外，關(guān)于從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離300m的缺損率，雖然沒有示于表1，但與從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離250m處相同。進(jìn)而，關(guān)于在500m至750m之間的缺損率，也顯示落在500m和750m處的缺損率的范圍內(nèi)的數(shù)值。在750m至1000m之間也同樣。進(jìn)一步，向?qū)嵤├婕暗膲夯ぬ畛錁渲盍?，將該樹脂填料轉(zhuǎn)印于轉(zhuǎn)印片。關(guān)于樹脂填料，使用作為聚甲基丙烯酸甲酯系交聯(lián)物的epostarma1006(日本觸媒制)，并利用圖像型粒度分析裝置fpia3000(馬爾文公司制)以平均粒徑(直徑)為5μm的方式進(jìn)行分級(jí)處理后使用。抽取從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離1m、30m、150m的壓花膜，通過利用纖維體的擦拭填充上述樹脂填料，將樹脂填料轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印片，該轉(zhuǎn)印片由苯氧樹脂yp-50(新日鐵化學(xué)株式會(huì)社制)60質(zhì)量份、環(huán)氧樹脂jer828(三菱化學(xué)株式會(huì)社制)40質(zhì)量份形成并顯示粘著性(需要說明的是，轉(zhuǎn)印時(shí)的溫度設(shè)為60℃、壓力設(shè)為2mpa)。與上述同樣地，使用光學(xué)顯微鏡確認(rèn)轉(zhuǎn)印的樹脂填料的轉(zhuǎn)印不良(即，樹脂填料未被轉(zhuǎn)印的部位)。其結(jié)果是可確認(rèn)到，使用從轉(zhuǎn)印開始位置起的距離1m、30m、150m的壓花膜轉(zhuǎn)印的各轉(zhuǎn)印片中，相對(duì)于全部樹脂填料的數(shù)目，轉(zhuǎn)印不良小于1％。此外，轉(zhuǎn)印成功的樹脂填料中，也沒有產(chǎn)生錯(cuò)位。其中，錯(cuò)位的意思是，與目標(biāo)位置相比，樹脂填料的中心位置錯(cuò)開樹脂填料的平均粒徑的10％(本實(shí)施例中為0.5μm)以上。進(jìn)而，在轉(zhuǎn)印的樹脂填料中，不存在同一個(gè)方向上連續(xù)產(chǎn)生10個(gè)以上轉(zhuǎn)印不良的部位。此外，在實(shí)施例涉及的壓花膜中，凹部配置成作為最密的排列圖案的六邊形格子狀。因此，在向?qū)嵤├婕暗膲夯ぬ畛錁渲盍线M(jìn)行轉(zhuǎn)印的情況下，樹脂填料以最密的排列圖案轉(zhuǎn)印。參照實(shí)施例涉及的壓花膜的結(jié)果，即使在以最密的排列圖案轉(zhuǎn)印的情況下，樹脂填料的轉(zhuǎn)印的成功率也高，轉(zhuǎn)印不良小于1％，并且也沒有發(fā)生樹脂填料的錯(cuò)位等。因此可知，關(guān)于本實(shí)施方式涉及的壓花膜，當(dāng)將150m作為100％時(shí)，在0.67％(即距離1m)、20％(即距離30m)、100％(即距離150m)的各地點(diǎn)能夠穩(wěn)定地進(jìn)行轉(zhuǎn)印。此外，在0.67％～20％、以及20％～100％之間的各地點(diǎn)，也顯示大致同樣的結(jié)果。因此，本實(shí)施方式涉及的壓花膜以及使用了該壓花膜的轉(zhuǎn)印物只要在設(shè)有凹部的范圍內(nèi)，則在以任一種排列圖案配置凹部的情況下，均能夠期待與實(shí)施例同樣的效果。(比較例)接下來，通過以下工序，制作比較例涉及的壓花膜。首先，對(duì)10cm×10cm的不銹鋼的平板進(jìn)行機(jī)械加工，從而制作形成有與實(shí)施例同樣的凹凸結(jié)構(gòu)(按照凸部的中心間距離10μm，直徑7μm的圓形的凸部以六邊形格子排列而成的排列圖案，凸部的高度為7μm)的壓模原盤。接下來，在50cm寬的由pet形成的基材膜(膜厚50μm)上，以膜厚30μm涂布含有丙烯酸酯樹脂m208(東亞合成制)100質(zhì)量份、光聚合引發(fā)劑irgcur184(巴斯夫制)2質(zhì)量份的光固化樹脂組合物。對(duì)于這樣的基材膜，將上述壓模原盤以溫度60℃、壓力2mpa反復(fù)按壓，轉(zhuǎn)印凹凸結(jié)構(gòu)，制作壓花膜。另外，壓模原盤是向轉(zhuǎn)印表面噴灑氟系脫模劑daifreega70500(大金工業(yè)制)而使用。就比較例涉及的壓花膜而言，每次反復(fù)轉(zhuǎn)印時(shí)，由于樹脂堵塞于壓模原盤而產(chǎn)生不良。具體而言，在20m(轉(zhuǎn)印200次)的地點(diǎn)，與實(shí)施例同樣地利用光學(xué)顯微鏡評(píng)價(jià)缺損率，結(jié)果為500ppm(0.5％)。此外，比較例涉及的壓花膜中，由于膜的供給不恒定，因此壓模原盤每次轉(zhuǎn)印時(shí)，凹凸結(jié)構(gòu)的排列產(chǎn)生錯(cuò)位。另外，比較例涉及的壓花膜與實(shí)施例涉及的壓花膜相比，凹部的錯(cuò)位和缺損率大。因此，關(guān)于對(duì)比較例涉及的壓花膜，針對(duì)填充樹脂填料后轉(zhuǎn)印該樹脂填料而成的轉(zhuǎn)印物，也同樣可預(yù)測(cè)到與實(shí)施例涉及的壓花膜相比，轉(zhuǎn)印不良更多。由以上結(jié)果可知，本實(shí)施方式涉及的壓花膜中，壓花膜的一個(gè)端部中的凹部的缺損率與壓花膜的另一個(gè)端部中的凹部的缺損率之差為10ppm以下。因此，本實(shí)施方式涉及的壓花膜即使在對(duì)于大面積的膜形成凹部的情況下，也能夠抑制凹部的缺損的累積性增加量。因此，本實(shí)施方式涉及的壓花膜能夠在大面積的膜中提高凹凸結(jié)構(gòu)的均勻性，并且使凹部的缺損的產(chǎn)生頻率下降。以上，一邊參照附圖一邊對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行了詳細(xì)說明，但本發(fā)明并不限于上述例子。顯然，只要是具有本發(fā)明所屬
技術(shù)領(lǐng)域：
中通常知識(shí)的人員，在權(quán)利要求書中記載的技術(shù)構(gòu)思的范疇內(nèi)，可以想到各種變形例或修改例，并且可以理解，它們當(dāng)然也屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)。符號(hào)說明1：壓花膜4：原盤6：轉(zhuǎn)印裝置7：曝光裝置10：膜主體11：凸部13：凹部15：缺損部20：填料30：轉(zhuǎn)印片當(dāng)前第1頁12