防反射膜的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供能夠通過(guò)一系列的制造工序進(jìn)行蛾眼結(jié)構(gòu)的形成、對(duì)防反射膜的表面的防污處理和對(duì)模具的脫模處理且能夠使模具的耐用期間長(zhǎng)期化的防反射膜的制造方法。本發(fā)明的制造方法具有：在基材上層疊轉(zhuǎn)印樹脂的工序；對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面涂布脫模/防污材料的工序；對(duì)模具表面涂布脫模/防污材料的工序；以及在對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面和模具表面分別涂布脫模/防污材料后，將模具按壓于轉(zhuǎn)印樹脂，從而將模具所具有的納米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂的工序，該納米結(jié)構(gòu)圖案具有相鄰的凹部的底點(diǎn)間的寬度為可見(jiàn)光波長(zhǎng)以下的多個(gè)凹部。
【專利說(shuō)明】防反射膜的制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及防反射膜的制造方法。更具體地說(shuō)，涉及通過(guò)貼附到物品上能夠降低 表面反射的蛾眼膜的制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 近年來(lái)，作為降低顯示裝置的表面反射的技術(shù)，無(wú)需使用現(xiàn)有的光干涉膜就能夠 得到超防反射效果的蛾眼（Moth-eye:蛾子的眼睛）結(jié)構(gòu)受到關(guān)注。蛾眼結(jié)構(gòu)是在進(jìn)行防 反射處理的物品的表面上將比由防眩（AG:AntiGlare)膜形成的凹凸圖案更微細(xì)的可見(jiàn) 光波長(zhǎng)以下的間隔的凹凸圖案無(wú)間隙地排列，從而人為地使外界（空氣）與物品表面的邊 界上的折射率的變化連續(xù)的結(jié)構(gòu)，能夠與折射率界面無(wú)關(guān)地透射過(guò)幾乎全部的光，將該物 品的表面的光反射幾乎完全消除（例如，參照專利文獻(xiàn)1、2。）。
[0003] 這樣的蛾眼結(jié)構(gòu)通過(guò)人為地消除空氣界面的折射率的變化使光透射過(guò)，因此，一 般貼附于物品的最表面來(lái)使用。
[0004] 蛾眼膜是通過(guò)納米壓印光刻制作的。在納米壓印光刻中，將形成有納米結(jié)構(gòu)圖案 的模具直接按壓于轉(zhuǎn)印樹脂，因此，對(duì)模具實(shí)施脫模處理以使其不會(huì)附著有轉(zhuǎn)印樹脂。作為 模具脫模處理法，利用含氟的單分子自組織化膜（SAM:self-assembledmonolayer)等覆 蓋模具的方法是主流。另外，也已提出以下脫模處理方法：在模具被按壓前的轉(zhuǎn)印樹脂上涂 布脫模劑，由此，即使對(duì)模具表面不實(shí)施脫模處理，也會(huì)防止轉(zhuǎn)印樹脂的一部分附著到模具 側(cè)（例如，參照專利文獻(xiàn)3。）。
[0005] 現(xiàn)有摶術(shù)f獻(xiàn)
[0006] 專利f獻(xiàn)
[0007] 專利文獻(xiàn)1 :特許第4368384號(hào)說(shuō)明書
[0008] 專利文獻(xiàn)2 :特許第4368415號(hào)說(shuō)明書
[0009] 專利文獻(xiàn)3 :特開2010-45092號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0010] 發(fā)明要解決的問(wèn)是頁(yè)
[0011] 蛾眼結(jié)構(gòu)在表面具有間隔或者間距尺寸以納米級(jí)而形成的多個(gè)凸部，因此，當(dāng)表 面附著有污垢時(shí)凸部會(huì)相對(duì)變低，無(wú)法人為地使外界與物品表面的邊界上的折射率的變化 連續(xù)。因此，可以考慮將防水性材料等防污劑涂布于蛾眼膜的表面來(lái)防止污垢附著的方法。
[0012] 但是，若在形成蛾眼結(jié)構(gòu)后涂布防污劑，則凹部會(huì)有液體積存，蛾眼膜的反射率會(huì) 上升。另外，在制造工序中，若在形成蛾眼結(jié)構(gòu)后涂布防污劑，工序數(shù)也會(huì)增加而制造時(shí)間 變長(zhǎng)。
[0013] 而且，在如上所述的利用SAM等覆蓋模具的脫模處理法中，若反復(fù)進(jìn)行納米壓印 光刻，則脫模劑的效果會(huì)逐漸失去，而無(wú)法準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)印蛾眼結(jié)構(gòu)。
[0014] 本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)狀而完成的，其目的在于，提供能夠通過(guò)一系列的制造工序 進(jìn)行蛾眼結(jié)構(gòu)的形成、對(duì)防反射膜的表面的防污處理和對(duì)模具的脫模處理且能夠使模具的 耐用期間長(zhǎng)期化的防反射膜的制造方法。
[0015]用于解決問(wèn)題的方案
[0016]本發(fā)明的發(fā)明人對(duì)向蛾眼膜涂布防污劑的方法進(jìn)行了種種研究，關(guān)注了在形成蛾 眼結(jié)構(gòu)前在轉(zhuǎn)印樹脂上涂布防污劑的方法。并且發(fā)現(xiàn)，若利用在對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面涂布防污 劑后將模具按壓于轉(zhuǎn)印樹脂從而將模具所具有的納米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂的方法，則 在按壓模具的時(shí)點(diǎn)，防污劑已涂布到轉(zhuǎn)印樹脂表面，因此，轉(zhuǎn)印樹脂的凹部不會(huì)產(chǎn)生液體積 存，能夠在維持蛾眼結(jié)構(gòu)的狀態(tài)下賦予防污效果。
[0017] 另外，關(guān)注了在對(duì)模具表面涂布脫模劑后將模具按壓于轉(zhuǎn)印樹脂從而將模具所具 有的納米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂的方法，并且發(fā)現(xiàn)，通過(guò)將兼具脫模作用和防污作用的 化合物涂布于轉(zhuǎn)印樹脂表面，能夠在每次轉(zhuǎn)印時(shí)進(jìn)行對(duì)模具的脫模處理，能夠使模具的耐 用期間長(zhǎng)期化，同時(shí)能夠使防污劑充分地殘存于轉(zhuǎn)印樹脂上而賦予防污效果。此外，在現(xiàn)有 的僅對(duì)模具表面涂布脫模劑的方法或者現(xiàn)有的僅對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面涂布脫模劑的方法中，無(wú) 法使脫模劑（防污劑）充分地殘存于轉(zhuǎn)印樹脂上。
[0018] 而且發(fā)現(xiàn)，根據(jù)上述方法，能夠通過(guò)一系列的制造工序進(jìn)行對(duì)蛾眼膜的表面的防 污處理和對(duì)模具的脫模處理。
[0019]如此，本發(fā)明的發(fā)明人想到能夠很好地解決上述問(wèn)題，達(dá)到了本發(fā)明。
[0020] 即，本發(fā)明的一方面是防反射膜的制造方法，其具有：在基材上層疊轉(zhuǎn)印樹脂的工 序；對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面涂布脫|吳/防污材料的工序；對(duì)|吳具表面涂布脫|吳/防污材料的工序； 以及在對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面和模具表面分別涂布脫模/防污材料后，將模具按壓于轉(zhuǎn)印樹脂， 從而將模具所具有的納米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂的工序，該納米結(jié)構(gòu)圖案具有相鄰的凹 部的底點(diǎn)間的寬度為可見(jiàn)光波長(zhǎng)以下的多個(gè)凹部。
[0021] 作為上述防反射膜的制造方法所包含的工序，只要是必須包含上述工序即可，對(duì) 其它工序沒(méi)有特別限定。以下，詳述上述防反射膜的制造方法所包含的各工序及其優(yōu)選工 序。此外，將下述防反射膜的制造方法的各個(gè)優(yōu)選工序組合2個(gè)以上的工序也是上述防反 射膜的制造方法的優(yōu)選工序。
[0022] 上述基材只要能夠載置防反射膜即可，沒(méi)有特別限定。
[0023] 上述轉(zhuǎn)印樹脂是通過(guò)按壓模具來(lái)轉(zhuǎn)印納米結(jié)構(gòu)圖案的樹脂，優(yōu)選使用以規(guī)定的條 件固化的熱固化性樹脂或者光固化性樹脂。而且，從提高生產(chǎn)率的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用紫外 線固化性樹脂。
[0024] 上述脫模/防污材料是作為對(duì)模具的脫模劑和對(duì)防反射膜的防污劑這兩者發(fā)揮 功能的材料，可以舉出包含氟化合物、硅類化合物等的材料。
[0025] 上述制造方法具有對(duì)模具表面涂布脫模/防污材料的工序。通過(guò)預(yù)先對(duì)模具表面 涂布脫模/防污材料，在后工序中將模具按壓于轉(zhuǎn)印樹脂時(shí)，能夠防止涂布于轉(zhuǎn)印樹脂側(cè) 的脫模/防污材料移動(dòng)到模具側(cè)。另外，在流水線式的制造工序中，能夠防止轉(zhuǎn)印樹脂被模 具帶走。
[0026] 上述制造方法具有在對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面涂布脫模/防污材料后將模具按壓于轉(zhuǎn)印 樹脂，從而將模具所具有的納米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂的工序。通過(guò)在對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面 涂布脫模/防污材料后進(jìn)行轉(zhuǎn)印，能夠防止該脫模/防污材料積存于轉(zhuǎn)印蛾眼結(jié)構(gòu)后的轉(zhuǎn) 印樹脂的凹部。
[0027] 根據(jù)上述制造方法，能夠通過(guò)一系列的制造工序進(jìn)行對(duì)轉(zhuǎn)印防止膜的表面的防污 處理和對(duì)模具的脫模處理，另外，能防止涂布于轉(zhuǎn)印樹脂側(cè)的脫模/防污材料移動(dòng)到模具 偵牝并且能向模具側(cè)持續(xù)地供應(yīng)脫模/防污材料。
[0028] 上述模具所具有的納米結(jié)構(gòu)圖案具有相鄰的凹部的底點(diǎn)間的寬度為可見(jiàn)光波長(zhǎng) 以下的多個(gè)凹部。在本說(shuō)明書中，所謂"可見(jiàn)光波長(zhǎng)以下"，是指作為一般的可見(jiàn)光波長(zhǎng)范 圍的下限的380nm以下，更優(yōu)選為300nm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為可見(jiàn)光波長(zhǎng)的大約1/2以下即 200nm以下。通過(guò)將該具有相鄰的凹部的底點(diǎn)間的寬度為可見(jiàn)光波長(zhǎng)以下的多個(gè)凹部的納 米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂，能夠制作具有相鄰的凸部的頂點(diǎn)間的寬度為可見(jiàn)光波長(zhǎng)以下 的多個(gè)凸部的納米結(jié)構(gòu)圖案（蛾眼結(jié)構(gòu)）。當(dāng)凹部的底點(diǎn)間的寬度超過(guò)400nm時(shí)，有時(shí)所制 作的防反射膜的表面會(huì)以藍(lán)的波長(zhǎng)成分著色，但通過(guò)將寬度設(shè)為300nm以下能充分地抑制 這一影響，通過(guò)將寬度設(shè)為200nm以下則幾乎完全不受影響。
[0029] 上述防反射膜具有相鄰的凸部的頂點(diǎn)間的寬度為可見(jiàn)光波長(zhǎng)以下的多個(gè)凸部。通 過(guò)具有這樣的納米結(jié)構(gòu)圖案（蛾眼結(jié)構(gòu)），能夠降低在貼附有上述防反射膜的面上發(fā)生的 反射。例如，通過(guò)將本發(fā)明的防反射膜貼附到顯示裝置的前面板上，能夠得到進(jìn)行因外部光 反射所導(dǎo)致的周圍（例如，室內(nèi)的熒光燈）的映入少的良好顯示的顯示裝置。
[0030] 優(yōu)選上述脫模/防污材料包含氟化合物。氟化合物有使表面能下降的效果，因此， 通過(guò)將上述脫模/防污材料涂布于模具，能夠防止轉(zhuǎn)印樹脂附著于模具。另外，通過(guò)將上述 脫模/防污材料涂布于轉(zhuǎn)印樹脂，能夠賦予轉(zhuǎn)印樹脂防污效果。作為氟化合物，例如可以舉 出具有氟烷基的化合物。
[0031] 優(yōu)選包含在上述對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面涂布脫模/防污材料的工序之前對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表 面進(jìn)行表面改性的工序。上述"進(jìn)行表面改性"是指，通過(guò)向構(gòu)成上述轉(zhuǎn)印樹脂表面的化學(xué) 結(jié)構(gòu)導(dǎo)入官能基等使表面特性發(fā)生變化，其目的是提高轉(zhuǎn)印樹脂表面的反應(yīng)性。具體地說(shuō)， 可以舉出照射由高頻電源激發(fā)的電暈放電的方法、進(jìn)行臭氧處理的方法、照射短波長(zhǎng)且滲 透性小的準(zhǔn)分子激光的方法、進(jìn)行等離子處理的方法等。作為導(dǎo)入的官能基，可以舉出-OH 基、-COOH基、-NH2基等，優(yōu)選-OH基。在通過(guò)表面改性導(dǎo)入了 -OH基的情況下，作為涂布到 轉(zhuǎn)印樹脂表面的脫模/防污材料，可以舉出硅氧烷化合物、異氰酸酯化合物等，優(yōu)選硅氧烷 化合物。
[0032] 優(yōu)選上述氟化合物為具有氟烷基的硅氧烷化合物。通過(guò)涂布包含硅氧烷化合物的 材料，在對(duì)上述轉(zhuǎn)印樹脂表面進(jìn)行了表面改性的情況下，能夠使硅氧烷化合物所具有的硅 原子（Si)與通過(guò)上述表面改性導(dǎo)入到轉(zhuǎn)印樹脂的表面的官能基發(fā)生反應(yīng)，使轉(zhuǎn)印樹脂所 包含的成分與脫模/防污材料所包含的成分進(jìn)行化學(xué)鍵合而使它們牢固地結(jié)合。通過(guò)導(dǎo)入 這樣的化學(xué)鍵，即使在對(duì)防反射膜表面進(jìn)行了擦拭的情況下，也能夠使得上述脫模/防污 材料不易從轉(zhuǎn)印樹脂表面剝落。
[0033] 優(yōu)選上述氟化合物為具有氟烷基和聚合性基團(tuán)的化合物。通過(guò)涂布包含該化合物 的材料，能夠使聚合性基團(tuán)進(jìn)行聚合，使轉(zhuǎn)印樹脂與脫模/防污材料進(jìn)行化學(xué)鍵合。通過(guò)導(dǎo) 入這樣的化學(xué)鍵，即使在對(duì)防反射膜表面進(jìn)行了擦拭的情況下，也能夠使得上述脫模/防 污材料不易從轉(zhuǎn)印樹脂表面剝落。
[0034]優(yōu)選上述聚合性基團(tuán)為丙烯酸酯基團(tuán)和/或甲基丙烯酸酯基團(tuán)。通過(guò)加熱、光（例 如，紫外線）照射等容易的工序，能夠?qū)⑥D(zhuǎn)印樹脂與脫模/防污材料牢固地結(jié)合。
[0035] 優(yōu)選上述將納米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂的工序包含與將模具按壓于轉(zhuǎn)印樹脂 同時(shí)地進(jìn)行紫外線照射的工序。能夠?qū)⑥D(zhuǎn)印納米結(jié)構(gòu)圖案時(shí)的轉(zhuǎn)印樹脂的固化和轉(zhuǎn)印樹脂 所包含的成分與脫模/防污材料所包含的成分的化學(xué)鍵合同時(shí)進(jìn)行。
[0036] 發(fā)明效果
[0037] 根據(jù)本發(fā)明，能夠通過(guò)一系列的制造工序進(jìn)行蛾眼結(jié)構(gòu)的形成、對(duì)防反射膜的表 面的防污處理和對(duì)模具的脫模處理且能夠使模具的耐用期間長(zhǎng)期化。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0038] 圖1是實(shí)施方式1的防反射膜的截面示意圖。
[0039] 圖2是示出實(shí)施方式1的模具的制造工序的示意圖。
[0040] 圖3是示出實(shí)施方式1的防反射膜的制造工序的示意圖。
[0041] 圖4是示出實(shí)施方式1的防反射膜的流水線式的制造工序的示意圖。
[0042] 圖5是實(shí)施方式2的防反射膜的截面示意圖。
[0043] 圖6是示出實(shí)施方式2的防反射膜的制造工序的示意圖。
[0044] 圖7是示出實(shí)施方式2的防反射膜的流水線式的制造工序的示意圖。
[0045] 圖8是比較例1的防反射膜的截面示意圖。
[0046] 圖9是比較例2的防反射膜的截面示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0047] 以下揭示實(shí)施方式，參照附圖進(jìn)一步詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明不限于這些實(shí) 施方式。
[0048] (實(shí)施方式1)
[0049] 圖1是實(shí)施方式1的防反射膜的截面示意圖。如圖1所示，實(shí)施方式1的防反射膜 具有轉(zhuǎn)印樹脂11和隔著化學(xué)鍵合層12形成于轉(zhuǎn)印樹脂11上的膜（脫模/防污材料）13， 并貼附在基材10上。
[0050] 在實(shí)施方式1中，在轉(zhuǎn)印樹脂11上形成有蛾眼結(jié)構(gòu)，入射到防反射膜的表面的絕 大部分的光會(huì)透射過(guò)空氣與轉(zhuǎn)印樹脂11的界面和轉(zhuǎn)印樹脂11與基材10的界面，因此，與 現(xiàn)有的光干涉型的防反射膜相比，能夠得到優(yōu)異得多的防反射效果。實(shí)施方式1中的防反 射膜例如能夠用于顯示裝置的構(gòu)成部件（自發(fā)光型顯示元件、非自發(fā)光型顯示元件、光源、 光擴(kuò)散片、棱鏡片、偏振反射片、相位差板、偏振板、前面板、箱體等）、透鏡、窗戶玻璃、邊框 玻璃、櫥窗、水槽、印刷物、照片、涂裝物品、照明設(shè)備等。
[0051] 以下，說(shuō)明具體的實(shí)施方式1所涉及的防反射膜的制造方法。
[0052] <模具的制作>
[0053] 以下，使用圖2來(lái)說(shuō)明實(shí)際制作用于形成防反射膜的模具（mold)的例子。圖2是 示出實(shí)施方式1的模具的制造工序的示意圖。
[0054] 首先，準(zhǔn)備Al基材21 (圖2 (a))，接著，如圖2 (b)所示，通過(guò)對(duì)該Al基材21局部 (表面部分）進(jìn)行陽(yáng)極氧化形成多孔氧化鋁層20,通過(guò)蝕刻形成凹部22a。根據(jù)陽(yáng)極氧化的 條件（例如化成電壓、電解液的種類、濃度以及陽(yáng)極氧化時(shí)間等），能夠控制凹部22a的大 小、生成密度、凹部22a的深度等，通過(guò)控制化成電壓的大小，能夠控制凹部22a的排列的規(guī) 則性。
[0055] 在初始階段生成的多孔氧化鋁層20中凹部22a的排列有產(chǎn)生紊亂的傾向，因此， 考慮到再現(xiàn)性，在實(shí)施方式1中，如圖2(c)所示，除去了最開始形成的多孔氧化鋁層20。 通過(guò)除去到僅殘留底部分的凹陷的距離大致相等的部分，在接下來(lái)的陽(yáng)極氧化工序（圖 2(d))中，能夠決定開孔的位置。
[0056] 其后，如圖2(d)所示，再次進(jìn)行陽(yáng)極氧化，形成具有凹部22a的多孔氧化鋁層20。 接著，如圖2 (e)所示，使具有凹部22a的多孔氧化鋁層20接觸氧化鋁的蝕刻劑從而蝕刻規(guī) 定的量，由此，使凹部22a的孔徑擴(kuò)大。在此，通過(guò)對(duì)草酸0. 6%、液溫5°C的電解液將80V 的電壓施加24秒來(lái)進(jìn)行陽(yáng)極氧化，通過(guò)在磷酸lmol/L、液溫30°C的溶液中浸泡25分鐘來(lái) 進(jìn)行蝕刻。
[0057] 其后，如圖2(f)所示，再次對(duì)Al基材21局部地進(jìn)行陽(yáng)極氧化，由此，使凹部22a 向深度方向生長(zhǎng)并且使多孔氧化鋁層20變厚。在此，凹部22a的生長(zhǎng)是從已經(jīng)形成的凹部 22a的底部開始，因此，凹部22a的側(cè)面成為臺(tái)階狀。然后，如圖2 (g)所示，使多孔氧化鋁層 20接觸氧化鋁的蝕刻劑從而進(jìn)一步進(jìn)行蝕刻，由此，使凹部22a的孔徑進(jìn)一步擴(kuò)大。
[0058]這樣，通過(guò)反復(fù)進(jìn)行上述的陽(yáng)極氧化工序（圖2(d))和蝕刻工序（圖2(e))，得到 具備具有所希望的凹凸形狀的凹部22a的多孔氧化鋁層20。在此，交替地實(shí)施上述的陽(yáng)極 氧化和蝕刻而實(shí)施5次陽(yáng)極氧化、4次蝕刻，制作出具有相鄰的孔的間距為200nm且高度為 400nm的圓錐狀的孔的模具。
[0059] <防反射膜的制作>
[0060] 以下，使用圖3來(lái)說(shuō)明實(shí)施方式1所涉及的防反射膜的制造方法。圖3是示出實(shí) 施方式1的防反射膜的制造工序的示意圖。
[0061] 首先，如圖3 (a)所示，準(zhǔn)備基材10,涂布轉(zhuǎn)印樹脂11并使其干燥。基材的種類沒(méi)有 特別限定，例如可以舉出將玻璃、塑料、金屬等作為構(gòu)成材料的基材。轉(zhuǎn)印樹脂11沒(méi)有特別 限定，但在光照納米壓印的情況下，優(yōu)選使用紫外線固化性樹脂，例如可以舉出PAKOl(東 洋合成株式會(huì)社制造）、SU-8 (日本化藥株式會(huì)社制造）。
[0062] 接著，如圖3(b)所示，進(jìn)行轉(zhuǎn)印樹脂11的表面改性。通過(guò)表面改性，能夠向構(gòu)成 轉(zhuǎn)印樹脂11表面的化學(xué)結(jié)構(gòu)導(dǎo)入官能基14,提高轉(zhuǎn)印樹脂表面的反應(yīng)性。作為導(dǎo)入的官能 基，可以舉出-OH基、-COOH基、-NH2基等，優(yōu)選-OH基。表面改性的方法優(yōu)選使用對(duì)轉(zhuǎn)印樹 脂照射紫外線等而不會(huì)使轉(zhuǎn)印樹脂劣化的方法，具體地說(shuō)，可以舉出對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂的表面照 射由高頻電源激發(fā)的電暈放電的方法，進(jìn)行臭氧處理的方法、照射短波長(zhǎng)且滲透性小的準(zhǔn) 分子激光的方法、進(jìn)行等離子處理的方法。
[0063] 接著，如圖3(c)所示，對(duì)進(jìn)行上述表面改性后的轉(zhuǎn)印樹脂11的表面涂布脫模/防 污材料13并使其干燥。作為該脫模/防污材料13,只要能作為對(duì)模具的脫模劑和對(duì)防反射 膜的防污劑這兩者發(fā)揮功能即可，沒(méi)有特別限定，例如，優(yōu)選使用包含具有氟烷基的硅氧烷 化合物的材料，具體地說(shuō)，可以舉出代芙力（夕' 4 7U- =DAifree;大金公司制造，注冊(cè)商 標(biāo)）等。通過(guò)包含硅氧烷化合物起到脫模作用，通過(guò)包含氟烷基發(fā)揮防污功能。硅氧烷化 合物所具有的硅原子（Si)與通過(guò)上述表面改性導(dǎo)入到轉(zhuǎn)印樹脂11的表面的-OH基發(fā)生反 應(yīng)，形成包含-O-Si-O-鍵的化學(xué)鍵合層12。即，該脫模/防污材料13在按壓模具時(shí)具有作 為脫模劑的效果，在蛾眼結(jié)構(gòu)形成后具有作為防污劑的效果。
[0064]接著，如圖3(d)所示，對(duì)通過(guò)上述的方法制作的模具31的表面涂布脫模/防污材 料13。通過(guò)對(duì)模具31涂布脫模/防污材料13,在轉(zhuǎn)印后也能夠容易使作為防污劑發(fā)揮功 能的脫模/防污材料13殘存在轉(zhuǎn)印樹脂11上。另外，通過(guò)預(yù)先在轉(zhuǎn)印樹脂11上涂布脫模 /防污材料13,對(duì)模具31來(lái)說(shuō)，能夠一邊供應(yīng)脫模劑一邊進(jìn)行轉(zhuǎn)印，因此，能夠使模具31的 耐用期間長(zhǎng)期化。
[0065] 接著，如圖3(e)所示，將模具31按壓于在表面上層疊有化學(xué)鍵合層12和脫模/ 防污材料13的轉(zhuǎn)印樹脂11，并且照射紫外線使轉(zhuǎn)印樹脂11固化，將形成于模具31的納米 結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂11。通過(guò)以上的工序，完成實(shí)施方式1的防反射膜（圖3(f))。 [0066] 以上，說(shuō)明了逐步（批）處理時(shí)的制造工序，但也能夠如以下所示，進(jìn)行流水線式 的連續(xù)處理。圖4是示出實(shí)施方式1的防反射膜的流水線式的制造工序的示意圖。圖4的 制造工序（a)?（f)對(duì)應(yīng)于圖3的制造工序（a)?（f)。
[0067] 首先，對(duì)基材10涂布轉(zhuǎn)印樹脂11 (圖4(a))，利用干燥爐使轉(zhuǎn)印樹脂11干燥。接 著，進(jìn)行表面改性，向構(gòu)成轉(zhuǎn)印樹脂11的表面的化學(xué)結(jié)構(gòu)導(dǎo)入官能基14(圖4(b))。接著， 對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂11和模具31涂布脫模/防污材料13 (圖4(c)、（d))。在圖4(c)的工序中，作 為脫模/防污材料的硅氧烷化合物所具有的硅原子（Si)與官能基14發(fā)生反應(yīng)，形成化學(xué) 鍵合層12。然后，在利用干燥爐干燥后，進(jìn)行紫外線照射，進(jìn)行轉(zhuǎn)?。▓D4(e))。在流水線 式的制造中，模具31使用輥型的模具。經(jīng)過(guò)以上的工序，完成實(shí)施方式1的防反射膜（圖 4(f))。
[0068](實(shí)施方式2)
[0069] 實(shí)施方式2除了使用包含具有氟烷基和聚合性基團(tuán)的化合物的材料作為脫模/防 污材料、不進(jìn)行轉(zhuǎn)印樹脂的表面改性這些方面以外，與實(shí)施方式1是同樣的。實(shí)施方式2能 夠適合用于光照納米壓印。
[0070] 圖5是實(shí)施方式2的防反射膜的截面示意圖。如圖5所示，實(shí)施方式2的防反射 膜具有轉(zhuǎn)印樹脂101和隔著化學(xué)鍵合層102形成于轉(zhuǎn)印樹脂101上的膜（脫模/防污材 料）103,并貼附在基材100上。
[0071] 以下，使用圖6來(lái)說(shuō)明實(shí)施方式2所涉及的防反射膜的制造方法。圖6是示出實(shí) 施方式2的防反射膜的制造工序的示意圖。首先，如圖6(a)所示，準(zhǔn)備基材100,涂布轉(zhuǎn)印 樹脂101并使其干燥。作為基材100和轉(zhuǎn)印樹脂101，能夠使用與實(shí)施方式1同樣的基材和 轉(zhuǎn)印樹脂。
[0072] 接著，如圖6(b)所示，對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂101的表面涂布脫模/防污材料103并使其干 燥。該脫模/防污材料103為包含具有氟烷基和聚合性基團(tuán)的化合物的材料，優(yōu)選聚合性 基團(tuán)為丙烯酸酯基團(tuán)和/或甲基丙烯酸酯基團(tuán)。具體地說(shuō)，可以舉出佛勞勞薩夫（ 7 口 口 寸 一 7 ;氟技術(shù)公司（7 口口 亍々 7 口'一社：FluoroTechnologyCo.，LTD.)制造，注冊(cè) 商標(biāo)）等。通過(guò)使脫模/防污材料103包含具有聚合性基團(tuán)的化合物，在通過(guò)紫外線照射 使轉(zhuǎn)印樹脂固化時(shí)，能夠同時(shí)使聚合性基團(tuán)也發(fā)生反應(yīng)，使轉(zhuǎn)印樹脂101與脫模/防污材料 103進(jìn)行化學(xué)鍵合。另外，通過(guò)具有氟烷基，能夠賦予防反射膜防污性。即，脫模/防污材料 103在按壓模具時(shí)具有作為脫模劑的效果，在蛾眼結(jié)構(gòu)形成后具有作為防污劑的效果。
[0073] 接著，如圖6(c)所示，對(duì)通過(guò)上述的方法制作的模具31的表面涂布脫模/防污材 料103。通過(guò)對(duì)模具31涂布脫模/防污材料103,在轉(zhuǎn)印后也能夠容易使作為防污劑發(fā)揮 功能的脫模/防污材料103殘存在轉(zhuǎn)印樹脂101上。另外，通過(guò)預(yù)先在轉(zhuǎn)印樹脂101上涂 布脫模/防污材料103,對(duì)模具31來(lái)說(shuō)，能夠一邊供應(yīng)脫模劑一邊進(jìn)行轉(zhuǎn)印，因此，能夠使模 具31的耐用期間長(zhǎng)期化。
[0074] 接著，如圖6(d)所示，將模具31按壓于在表面上層疊有脫模/防污材料103的轉(zhuǎn) 印樹脂101，照射紫外線使轉(zhuǎn)印樹脂101固化，將形成于模具31的納米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印 樹脂101。另外，通過(guò)該紫外線照射，使得脫模/防污材料103所包含的聚合性基團(tuán)進(jìn)行反 應(yīng)，在脫模/防污材料103與轉(zhuǎn)印樹脂101之間形成化學(xué)鍵合層102。通過(guò)以上的工序，完 成防反射膜（圖6(e))。
[0075] 以上，說(shuō)明了逐步（批）處理時(shí)的制造工序，但也能夠如以下所示，進(jìn)行流水線式 的連續(xù)處理。圖7是示出實(shí)施方式2的防反射膜的流水線式的制造工序的示意圖。圖7的 制造工序（a)?（e)對(duì)應(yīng)于圖6的制造工序（a)?（e)。
[0076] 首先，對(duì)基材100涂布轉(zhuǎn)印樹脂101 (圖7 (a))，利用干燥爐使轉(zhuǎn)印樹脂101干燥。 接著，對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂101和模具31涂布脫模/防污材料103 (圖7 (b)、（c))。然后，在利用干 燥爐干燥后，進(jìn)行紫外線照射，進(jìn)行轉(zhuǎn)?。▓D7 (d))。通過(guò)該紫外線照射，使得脫模/防污材 料103所包含的聚合性基團(tuán)進(jìn)行反應(yīng)，形成化學(xué)鍵合層102。在流水線式的制造中，模具31 使用輥型的模具。經(jīng)過(guò)以上的工序，完成實(shí)施方式2的防反射膜（圖7(e))。
[0077](實(shí)施例1)
[0078] 在實(shí)施例1中，通過(guò)實(shí)施方式1所涉及的制造方法，實(shí)際制作防反射膜。首先， 準(zhǔn)備基材，在該基材上涂布轉(zhuǎn)印樹脂，在80°C的加熱板上使其干燥1分鐘。轉(zhuǎn)印樹脂使用 PAKOl(東洋合成株式會(huì)社制造）。接著，對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂進(jìn)行表面改性。表面改性是通過(guò)使用 電暈放電處理裝置以40W·分/m2的放電量對(duì)樹脂表面照射由高頻電源激發(fā)的電暈放電而 進(jìn)行的。接著，對(duì)進(jìn)行表面改性后的轉(zhuǎn)印樹脂的表面涂布脫模/防污材料，在80°C的加熱 板上使其干燥1分鐘。脫模/防污材料使用佛勞勞薩夫（氟技術(shù)公司制造）。接著，對(duì)通過(guò) 實(shí)施方式1中所述的方法制作的模具的表面涂布與涂布到轉(zhuǎn)印樹脂的表面的脫模/防污材 料相同的脫模/防污材料（佛勞勞薩夫（氟技術(shù)公司制造）），將模具按壓于轉(zhuǎn)印樹脂，以 I. 5J/m2的照度照射波長(zhǎng)365nm的光，轉(zhuǎn)印納米結(jié)構(gòu)圖案。
[0079](實(shí)施例2)
[0080] 在實(shí)施例2中，通過(guò)實(shí)施方式2所涉及的制造方法，實(shí)際制作防反射膜。首先， 準(zhǔn)備基材，在該基材上涂布轉(zhuǎn)印樹脂，在80°C的加熱板上使其干燥1分鐘。轉(zhuǎn)印樹脂使用 PAKOl(東洋合成株式會(huì)社制造）。接著，對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂的表面涂布作為脫模/防污材料的丙烯 酸2-(全氟己基乙酯）（2-(八一7口口?今；A工^A 7y -卜））的異丙醇（IPA) 溶液，在70°C的加熱板上使其干燥1分鐘。接著，對(duì)通過(guò)與實(shí)施例1同樣的方法制作的模具 的表面涂布與涂布到轉(zhuǎn)印樹脂的表面的脫模/防污材料不同的脫模/防污材料（佛勞勞薩 夫（氟技術(shù)公司制造）），將模具按壓于轉(zhuǎn)印樹脂，以I. 5J/m2的照度照射波長(zhǎng)365nm的光， 轉(zhuǎn)印納米結(jié)構(gòu)圖案。
[0081] (評(píng)價(jià)試驗(yàn)）
[0082] 除了實(shí)施例1和實(shí)施例2的防反射膜以外，還制作比較例1和比較例2的防反射 膜，對(duì)實(shí)施例1、實(shí)施例2、比較例1、比較例2的防反射膜的反射率和擦拭性進(jìn)行了研究。另 夕卜，對(duì)實(shí)施例I、實(shí)施例2、比較例1、比較例2的制造所使用的模具的水對(duì)模具表面的接觸角 進(jìn)行了研究。在比較例1中，使用表面通過(guò)SAM實(shí)施了脫模處理的模具，將蛾眼結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印到 轉(zhuǎn)印樹脂，其后，涂布脫模/防污材料（代芙力（大金公司制造））并使其干燥。在比較例 2中，對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂的表面涂布脫模/防污材料（佛勞勞薩夫（氟技術(shù)公司制造））并使其干 燥，其后，使用未實(shí)施脫模處理的模具，將蛾眼結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂。在比較例1和2中，使 用通過(guò)實(shí)施方式1中所述的方法制作的模具。圖8、9分別是比較例1、2的防反射膜的截面 示意圖。
[0083] 表1是記錄了實(shí)施例1、實(shí)施例2、比較例1、比較例2各自的反射率的表。反射率 是使用CM2600d(柯尼卡美能達(dá)制造）以SCE模式進(jìn)行測(cè)定的。
[0084] [表 1]
[0085]

【權(quán)利要求】
1. 一種防反射膜的制造方法，其特征在于，具有： 在基材上層置轉(zhuǎn)印樹脂的工序； 對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面涂布脫模/防污材料的工序； 對(duì)模具表面涂布脫模/防污材料的工序；以及 在對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面和模具表面分別涂布脫模/防污材料后，將模具按壓于轉(zhuǎn)印樹脂， 從而將模具所具有的納米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂的工序， 該納米結(jié)構(gòu)圖案具有相鄰的凹部的底點(diǎn)間的寬度為可見(jiàn)光波長(zhǎng)以下的多個(gè)凹部。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的防反射膜的制造方法，其特征在于， 上述脫模/防污材料包含氟化合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的防反射膜的制造方法，其特征在于， 包含在上述對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面涂布脫模/防污材料的工序之前對(duì)轉(zhuǎn)印樹脂表面進(jìn)行表 面改性的工序。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的防反射膜的制造方法，其特征在于， 上述氟化合物為具有氟烷基的硅氧烷化合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的防反射膜的制造方法，其特征在于， 上述氟化合物為具有氟烷基和聚合性基團(tuán)的化合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防反射膜的制造方法，其特征在于， 上述聚合性基團(tuán)為丙烯酸酯基團(tuán)和/或甲基丙烯酸酯基團(tuán)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的防反射膜的制造方法，其特征在于， 上述將納米結(jié)構(gòu)圖案轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印樹脂的工序包含與將模具按壓于轉(zhuǎn)印樹脂同時(shí)地進(jìn) 行紫外線照射的工序。
【文檔編號(hào)】B29K33/04GK104380151SQ201380032194
【公開日】2015年2月25日 申請(qǐng)日期:2013年6月14日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月22日
【發(fā)明者】山田信明, 藤井曉義 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社