專利名稱：鑲件定位裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于模具制造技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種用于模具生產(chǎn)的鑲件定 位裝置。
背景技術(shù)：
在某些模具的生產(chǎn)過程中，上鑲件的件體一般比較高，而且件體厚度較 薄，上鑲件與下模壓緊接觸，其接觸面為平面，當(dāng)上鑲件受到料的沖擊時(shí)， 上鑲件會(huì)向遠(yuǎn)離墻板的位置變形，導(dǎo)致成型后的制品尺寸的尺寸不符合要求， 產(chǎn)生大量次品，嚴(yán)重時(shí)甚至導(dǎo)致上鑲件斷裂，不能連續(xù)化生產(chǎn)，生產(chǎn)效率低， 浪費(fèi)成本。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處，提供一種用于模具生產(chǎn) 的結(jié)構(gòu)新穎、設(shè)計(jì)合理的鑲件定位裝置。
本發(fā)明的目的通過以下的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)所述的鑲件定位裝置包括上鑲 件和下模，上鑲件下端與下模壓緊接觸，其特征在于所述上鑲件下端面上 的近墻體側(cè)設(shè)有凸臺(tái)，所述下模上的對(duì)應(yīng)位置設(shè)有凹槽，凸臺(tái)與凹槽相配合。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述凸臺(tái)與凹槽配合面的下部設(shè)為圓弧形。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過在上鑲件下端設(shè)置凸臺(tái)，在下模對(duì)應(yīng)位置 設(shè)置相配合的凹槽，使得模具閉合過程中，凸臺(tái)插入凹槽中定位上鑲件，克 服了成型制品尺寸不符，次品率髙、鑲件易斷裂等缺陷，極大地提高生產(chǎn)效 率，節(jié)約成本。


圖1為本發(fā)明應(yīng)用狀態(tài)示意圖。 圖2為圖1的A部放大示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合具體附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
如圖1、圖2所示，所述的鑲件定位裝置包括上鑲件1和下模3,上鑲件 1下端與下模3壓緊接觸，所述上鑲件1下端面上的近墻體2側(cè)設(shè)有凸臺(tái)5， 所述下模3上的對(duì)應(yīng)位置設(shè)有凹槽4，凸臺(tái)5與凹槽4相配合，定位上鑲件1， 使其在受到料的沖擊時(shí)，不會(huì)向遠(yuǎn)離墻體2的方向變形，提高成型制品的合 格率；所述凸臺(tái)5與凹槽4配合面的下部設(shè)為圓弧形，使得上鑲件l下端的 凸臺(tái)5與凹槽4的嵌入配合不會(huì)發(fā)生干涉，更加安全順暢。
權(quán)利要求
1、一種鑲件定位裝置，包括上鑲件(1)和下模(3)，上鑲件(1)下端與下模(3)壓緊接觸，其特征在于所述上鑲件(1)下端面上的近墻體(2)側(cè)設(shè)有凸臺(tái)(5)，所述下模(3)上的對(duì)應(yīng)位置設(shè)有凹槽(4)，凸臺(tái)(5)與凹槽(4)相配合。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的鑲件定位裝置，其特征還在于所述凸臺(tái)(5) 與凹槽(4)配合面的下部設(shè)為圓弧形。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于模具生產(chǎn)的鑲件定位裝置，包括上鑲件和下模，上鑲件下端與下模壓緊接觸，其特征在于所述上鑲件下端面上的近墻體側(cè)設(shè)有凸臺(tái)，所述下模上的對(duì)應(yīng)位置設(shè)有凹槽，凸臺(tái)與凹槽相配合。本發(fā)明通過在上鑲件下端設(shè)置凸臺(tái)，在下模對(duì)應(yīng)位置設(shè)置相配合的凹槽，使得模具閉合過程中，凸臺(tái)插入凹槽中定位上鑲件，克服了成型制品尺寸不符，次品率高、鑲件易斷裂等缺陷，極大地提高生產(chǎn)效率，節(jié)約成本。
文檔編號(hào)B29C33/12GK101544031SQ20091002670
公開日2009年9月30日 申請(qǐng)日期2009年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月28日
發(fā)明者馮偉祖, 奚新艷, 尤華煒, 胡志堅(jiān) 申請(qǐng)人:無錫新宏泰電器科技股份有限公司