1.一種氣浮真空吸附搬送裝置，其特征在于，該裝置包括：下工作平臺、上搬送工作平臺、四柱臺板間隙限位機(jī)構(gòu)、氣浮真空吸附交換搬送氣動控制系統(tǒng)；
所述下工作平臺為工藝制程設(shè)備的工作平臺，配置運動結(jié)構(gòu)、工藝制程功能機(jī)構(gòu)以及相關(guān)機(jī)架組成工藝制程設(shè)備；
所述上搬送工作平臺為工藝制程設(shè)備上下料搬送設(shè)備的搬送工作平臺，配置相關(guān)運動結(jié)構(gòu)組成自動搬送移載設(shè)備，以將工藝制程設(shè)備的工作平臺的工件真空吸附下料，并搬送到下一工序的工藝制程設(shè)備的工作平臺上料；
所述四柱臺板間隙限位機(jī)構(gòu)與所述下工作平臺和所述上搬送工作平臺連接，以使所述四柱臺板間隙限位機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)所述下工作平臺和所述上搬送工作平臺之間的平行間隙；
所述氣浮真空吸附交換搬送氣動控制系統(tǒng)與所述下工作平臺和所述上搬送工作平臺連接，以使所述氣浮真空吸附交換搬送氣動控制系統(tǒng)控制所述下工作平臺和所述上搬送工作平臺配合工作。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣浮真空吸附搬送裝置，其特征在于，所述四柱臺板間隙限位機(jī)構(gòu)設(shè)置有不同厚度尺寸或不同形狀的間隙限位塊和邊限位塊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣浮真空吸附搬送裝置，其特征在于，所述間隙限位塊為金屬材料，所述邊限位塊為非金屬材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的氣浮真空吸附搬送裝置，其特征在于，所述氣浮真空吸附交換搬送氣動控制系統(tǒng)由潔凈氣源壓力調(diào)壓閥、氣浮壓力調(diào)壓閥、真空源調(diào)壓閥、真空壓力傳感器、多路真空區(qū)控制手動閥或電磁閥、氣浮真空破壞電磁閥、泄壓平衡電磁閥以及限流手動閥中的至少一種構(gòu)成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣浮真空吸附搬送裝置，其特征在于，所述下工作平臺和所述上搬送工作平臺非一一對應(yīng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣浮真空吸附搬送裝置，其特征在于，下工作平臺由下工作臺板和下臺底板組成，且所述下工作臺板和下臺底板組成真空腔體。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣浮真空吸附搬送裝置，其特征在于，所述下工作臺板臺面設(shè)置有真空小孔或微孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣浮真空吸附搬送裝置，其特征在于，所述下工作平臺和上搬送工作平臺設(shè)置有光纖傳感器和真空壓力傳感器。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣浮真空吸附搬送裝置，其特征在于，所述泄壓平衡電磁閥和限流手動閥控制組成氣浮壓力控制和溢流平衡泄壓旁路。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的氣浮真空吸附搬送裝置，其特征在于，還包括電氣比例伺服閥。