吸附反轉(zhuǎn)裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明是有關(guān)于一種可以極為簡(jiǎn)單的構(gòu)造進(jìn)行吸附板的上下動(dòng)的吸附反轉(zhuǎn)裝置。吸附基板W并使其反轉(zhuǎn)的吸附反轉(zhuǎn)裝置，具備由左右的側(cè)架14支持的旋轉(zhuǎn)軸15、呈水平地安裝于旋轉(zhuǎn)軸15并與旋轉(zhuǎn)軸15一起旋動(dòng)的支持構(gòu)件16、通過下壓構(gòu)件17而保持于支持構(gòu)件16成可上下動(dòng)的水平的吸附板18、以及對(duì)該吸附板18隨時(shí)以朝向上方的方式進(jìn)行彈壓的回彈彈簧19；且以如下的方式構(gòu)成：借由使下壓構(gòu)件17動(dòng)作而使吸附板18往下動(dòng)，借由解除下壓構(gòu)件17下壓之力、并借由回彈彈簧19的彈壓力而使吸附板18上升并返回原位置。
【專利說(shuō)明】吸附反轉(zhuǎn)裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種在對(duì)由玻璃、硅、陶瓷、化合物半導(dǎo)體等的脆性材料所構(gòu)成的基板進(jìn)行加工分?jǐn)嘤玫目虅澗€、沿著該刻劃線進(jìn)行分?jǐn)嗷宓鹊幕寮庸ぱb置等所使用的吸附反轉(zhuǎn)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]由現(xiàn)有習(xí)知，例如在專利文獻(xiàn)I等揭示有如下方法:對(duì)載置于平臺(tái)上的基板，使刀輪(又稱刻劃輪)在施加既定的刻劃壓的狀態(tài)下轉(zhuǎn)動(dòng)、或利用由激光光束的照射產(chǎn)生的熱梯度等，形成相互正交的多條平行的刻劃線，之后，使基板表背面反轉(zhuǎn)，從與設(shè)有該刻劃線的面相反側(cè)的面以裂斷桿按壓而使基板撓曲借此分?jǐn)嗷?，取出單位制品?br> [0003]此外，關(guān)于貼合有2片玻璃基板的基板的分?jǐn)喾椒?，例如在專利文獻(xiàn)2 (圖45等)，亦揭示有利用以下所示的步驟進(jìn)行分?jǐn)嗟姆椒?。亦即，?duì)載置于刻劃裝置的平臺(tái)上的基板，借由使刀輪轉(zhuǎn)動(dòng)，而在基板的一面即a面形成刻劃線。接著，在利用吸附反轉(zhuǎn)裝置吸附基板并使其反轉(zhuǎn)之后，載置于裂斷裝置的平臺(tái)上，對(duì)成為基板a面的背面的基板b面以裂斷桿等進(jìn)行按壓而裂斷基板a面。接著，與上述同樣地，在基板b面形成刻劃線，使基板反轉(zhuǎn)后，對(duì)基板a面以裂斷桿等進(jìn)行按壓而分?jǐn)嗷錬面。之后，將所分?jǐn)嗟幕鍙牧褦嘌b置卸除而移往下一步驟。
[0004]在如上述的基板的加工方法中，使用于使基板反轉(zhuǎn)的吸附反轉(zhuǎn)裝置，具備有用以吸附置于平臺(tái)等的載置臺(tái)上的基板并抬起的吸附板，而使利用吸附板吸附并抬起的基板進(jìn)行反轉(zhuǎn)。作為使該吸附板相對(duì)于基板面上下升降的機(jī)構(gòu)，例如從位于平臺(tái)的上方的構(gòu)架(frame)等的支持部延伸設(shè)置垂直的支柱，在該垂直的支柱，將保持該吸附板成可反轉(zhuǎn)的升降構(gòu)件安裝成可升降。該升降構(gòu)件，以如下方式形成:為了使其升降對(duì)于反轉(zhuǎn)為必要的距離而借由移動(dòng)行程較長(zhǎng)的流體汽缸或利用齒條與齒輪(pinion)等構(gòu)成復(fù)雜的構(gòu)造的升降機(jī)構(gòu)進(jìn)行升降。
[0005]在如上述般的吸附反轉(zhuǎn)裝置，存在有如下的問題點(diǎn):借由垂直的支柱、或沿著此進(jìn)行升降的升降構(gòu)件、以及裝入于內(nèi)部的復(fù)雜的升降機(jī)構(gòu)而使升降裝置成為大型者、且機(jī)構(gòu)變復(fù)雜并使成本變高。
[0006]專利文獻(xiàn)1:國(guó)際公開W02005/053925號(hào)公報(bào)
[0007]專利文獻(xiàn)2:國(guó)際公開W02002/057192號(hào)公報(bào)
[0008]有鑒于上述現(xiàn)有的吸附反轉(zhuǎn)裝置存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設(shè)計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)知識(shí)，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型的吸附反轉(zhuǎn)裝置，能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有的吸附反轉(zhuǎn)裝置，使其更具有實(shí)用性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計(jì)，并經(jīng)過反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后，終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價(jià)值的本發(fā)明。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有的吸附反轉(zhuǎn)裝置存在的缺陷，而提供一種可以新穎的機(jī)構(gòu)、更極為簡(jiǎn)單的構(gòu)造進(jìn)行吸附板的上下動(dòng)的吸附反轉(zhuǎn)裝置。
[0010]為了達(dá)成上述目的而在本發(fā)明中提出了如接下來(lái)的技術(shù)方案。亦即，本發(fā)明是吸附基板并使其反轉(zhuǎn)的吸附反轉(zhuǎn)裝置，具備由左右的側(cè)架支持的旋轉(zhuǎn)軸、呈水平地安裝于該旋轉(zhuǎn)軸并與旋轉(zhuǎn)軸一起旋動(dòng)的支持構(gòu)件、通過下壓構(gòu)件而保持于該支持構(gòu)件成能夠上下動(dòng)的水平的吸附板、以及對(duì)該吸附板隨時(shí)以朝向上方的方式進(jìn)行彈壓的回彈彈簧；且成為以如下方式形成的構(gòu)成:借由使該下壓構(gòu)件動(dòng)作而使該吸附板往下動(dòng)，借由解除該下壓構(gòu)件下壓之力、并借由該回彈彈簧的彈壓力而使該吸附板上升并返回原位置。
[0011]在本發(fā)明的吸附反轉(zhuǎn)裝置中，由于形成為一旦解除下壓構(gòu)件的下壓力，則借由回彈彈簧的彈壓力(復(fù)原力)而吸附板自然返回原位置，因此具有如下的效果:可省略用以使吸附板上升的機(jī)械性的機(jī)構(gòu)，借此可以簡(jiǎn)單的構(gòu)成、且低成本形成吸附板的升降機(jī)構(gòu)。
[0012]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0013]在上述發(fā)明中，較佳為:下壓構(gòu)件，由具備有活塞的氣缸構(gòu)成，且該活塞形成為在開啟動(dòng)作(0N動(dòng)作)下進(jìn)行往下動(dòng)、在關(guān)閉動(dòng)作(OFF動(dòng)作)下解除下壓力，并且能夠調(diào)整開啟動(dòng)作(0N動(dòng)作)時(shí)的下壓量。借此，可根據(jù)基板的厚度等作業(yè)條件，而適當(dāng)?shù)卣{(diào)整吸附板的下降量。
[0014]此外，在上述發(fā)明中，較佳為:用于對(duì)氣缸供給空氣的空氣流路設(shè)于旋轉(zhuǎn)軸內(nèi)部，且連接有從空氣流路至氣缸的空氣流通用的配管。
[0015]借此，在該吸附板反轉(zhuǎn)旋動(dòng)時(shí)，與氣缸連接的配管不會(huì)扭結(jié)，并且可簡(jiǎn)化與氣缸連接的配管設(shè)備。
[0016]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明吸附反轉(zhuǎn)裝置至少具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低廉、可適當(dāng)調(diào)整吸附板的下降量等優(yōu)點(diǎn)。
[0017]上述說(shuō)明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1是裝入有本發(fā)明的吸附反轉(zhuǎn)裝置的基板加工裝置的整體構(gòu)成的立體圖。
[0019]圖2是圖1的基板加工裝置中的刻劃裝置的概略性的前視圖。
[0020]圖3是表示圖1的基板加工裝置中的吸附反轉(zhuǎn)裝置的整體構(gòu)成的立體圖。
[0021]圖4是圖3的吸附反轉(zhuǎn)裝置的一部分放大剖面圖。
[0022]圖5是表示圖3的吸附反轉(zhuǎn)裝置中的吸附板的往下動(dòng)狀態(tài)的與圖4同樣的剖面圖。
[0023]圖6是表示圖3的吸附反轉(zhuǎn)裝置的反轉(zhuǎn)旋動(dòng)機(jī)構(gòu)部分的側(cè)視圖。
[0024]圖7是表示圖1的基板加工裝置中的吸附升降裝置的立體圖。
[0025]圖8是表示利用基板加工裝置的基板加工步驟的第一階段的說(shuō)明圖。
[0026]圖9是表示基板加工步驟的第二階段的說(shuō)明圖。
[0027]圖10是表示基板加工步驟的第三階段的說(shuō)明圖。
[0028]圖11是表示基板加工步驟的第四階段的說(shuō)明圖。
[0029]圖12是表示基板加工步驟的第五階段的說(shuō)明圖。[0030]圖13是表示基板加工步驟的第六階段的說(shuō)明圖。
[0031]圖14是表示基板加工步驟的第七階段的說(shuō)明圖。
[0032]圖15是表示基板加工步驟的第八階段的說(shuō)明圖。
[0033]圖16是表示基板加工步驟的第九階段的說(shuō)明圖。
[0034]圖17是表示基板加工步驟的第十階段的說(shuō)明圖。
[0035]圖18是表示基板加工步驟的第十一階段的說(shuō)明圖。
[0036]圖19是表示安裝于基板加工裝置的操作面板的圖式。
[0037]圖20是表示裝入于基板加工裝置的裂斷裝置的前視圖。
[0038]圖21是表示吸附反轉(zhuǎn)裝置以及吸附升降裝置的連接各吸附板與空氣吸引裝置的空氣回路的圖式。
[0039]【主要元件符號(hào)說(shuō)明】
[0040]
【權(quán)利要求】
1.一種吸附反轉(zhuǎn)裝置，是吸附基板并使其反轉(zhuǎn)，其特征在于，具備: 由左右的側(cè)架所支持的旋轉(zhuǎn)軸、 呈水平地安裝于該旋轉(zhuǎn)軸并與旋轉(zhuǎn)軸一起旋動(dòng)的支持構(gòu)件、 通過下壓構(gòu)件而保持于該支持構(gòu)件成能夠上下動(dòng)的水平的吸附板、以及 對(duì)該吸附板隨時(shí)以朝向上方的方式進(jìn)行彈壓的回彈彈簧； 且以如下的方式形成:借由使該下壓構(gòu)件動(dòng)作而使該吸附板往下動(dòng)，借由解除該下壓構(gòu)件下壓之力、且借由該回彈彈簧的彈壓力而使該吸附板上升并返回原位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附反轉(zhuǎn)裝置，其特征在于其中該下壓構(gòu)件，由具備有活塞的氣缸構(gòu)成，且該活塞形成為在開啟動(dòng)作下進(jìn)行往下動(dòng)、在關(guān)閉動(dòng)作下解除下壓力，并且能夠調(diào)整開啟動(dòng)作時(shí)的下壓量。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的吸附反轉(zhuǎn)裝置，其特征在于其中用于對(duì)該氣缸供給空氣的空氣流路設(shè)于該旋轉(zhuǎn)軸內(nèi)部，且連接有從該空氣流路至該氣缸的空氣流通用的配管。
【文檔編號(hào)】B65G47/91GK103910196SQ201310522744
【公開日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2013年10月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年1月9日
【發(fā)明者】龜井慎太郎 申請(qǐng)人:三星鉆石工業(yè)股份有限公司