專利名稱：基底介質(zhì)配準(zhǔn)和糾偏裝置、方法和系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
當(dāng)前公開的技術(shù)面向一種配準(zhǔn)(registering)和糾偏(de-skewing)基底介質(zhì)操 作組件(比如印刷系統(tǒng))中的基底介質(zhì)裝置、方法和系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在印刷系統(tǒng)中，將基底介質(zhì)按它在處理方向中傳送(transfer)的方式精確而可
靠的配準(zhǔn)是需要的。穿過圖像轉(zhuǎn)移(transfer)區(qū)域的基底介質(zhì)的甚至是輕微的偏斜或錯(cuò)
位也可能導(dǎo)致圖像和/或色彩配準(zhǔn)錯(cuò)誤。例如，在印刷系統(tǒng)使用鉗口組件或帶傳送基底介
質(zhì)時(shí)，基底介質(zhì)的輕微偏斜可能導(dǎo)致處理錯(cuò)誤。并且，當(dāng)基底介質(zhì)在該印刷系統(tǒng)的各部分之
間傳送時(shí)，偏斜的量可能增加或累積。在模塊化疊印(overprint)系統(tǒng)中，偏斜的累積會(huì)轉(zhuǎn)
化為模塊退出和進(jìn)入點(diǎn)之間的基底介質(zhì)定位誤差，特別是在交叉處理(cross-processing)
方向。這種誤差可能導(dǎo)致很大的推、拉或切變力的產(chǎn)生，這會(huì)被傳遞到被傳送的基底介質(zhì)
上。介質(zhì)和輕量基底介質(zhì)通常不能支撐很大的力，很大的力會(huì)使得這種介質(zhì)起皺、翹曲或撕 m農(nóng)。相應(yīng)地，需要提供一種配準(zhǔn)和糾偏基底介質(zhì)的裝置、方法和系統(tǒng)，其能克服現(xiàn)有技 術(shù)中的缺點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)此處描述的方面，公開一種用于在印刷系統(tǒng)中糾偏基底介質(zhì)的裝置。該裝置 包括至少一個(gè)傳感器，用于測量被傳送的該基底介質(zhì)相對于處理方向的偏斜。該裝置還包 括鉗口組件，用于在該處理方向移動(dòng)該基底介質(zhì)。該鉗口組件包括用于嚙合該基底介質(zhì)的 主動(dòng)輥和空轉(zhuǎn)輥。該主動(dòng)輥可旋轉(zhuǎn)地支撐在軸中心線上，其中該軸中心線被基本上在其一 端可樞轉(zhuǎn)地支撐以將該軸中心線與測量的基底介質(zhì)偏斜對準(zhǔn)。該軸中心線圍繞垂直于該軸 中心線的樞軸中心線樞轉(zhuǎn)。根據(jù)本文公開的其它方面，提供一種用于在印刷系統(tǒng)中糾偏基底介質(zhì)的裝置，其 中該鉗口組件可以圍繞該樞轉(zhuǎn)中心線樞轉(zhuǎn)。而且，該裝置可進(jìn)一步包括致動(dòng)構(gòu)件，用于圍繞 該樞軸中心線樞轉(zhuǎn)該軸中心線到與該基底介質(zhì)的一個(gè)邊緣平行的方位。另外，該致動(dòng)元件 基本上被設(shè)置在該軸中心線相對于該樞轉(zhuǎn)支撐的相對端。進(jìn)一步，該致動(dòng)構(gòu)建可包括凸輪 組件。再進(jìn)一步，該至少一個(gè)傳感器包括設(shè)置于該處理方向上在該鉗口組件之前的至少兩 個(gè)傳感器。又進(jìn)一步，該至少兩個(gè)傳感器可在交叉處理方向間隔開，其中該兩個(gè)傳感器之間 的直線平行于缺省位置的軸中心線。該樞轉(zhuǎn)支撐可以包括球面軸承元件。而且，該致動(dòng)構(gòu) 件和該傳感器可耦合于控制系統(tǒng)以響應(yīng)傳感器測量值致動(dòng)鉗口組件。該空轉(zhuǎn)輥可朝該主動(dòng) 輥偏置。根據(jù)此處描述的進(jìn)一步的方面，提供一種在印刷系統(tǒng)中糾偏基底介質(zhì)的方法。該 方法包括測量在處理方向傳送的基底介質(zhì)的偏斜角度。然后，樞轉(zhuǎn)配準(zhǔn)鉗口組件的旋轉(zhuǎn)中 心線以匹配該偏斜角度。該旋轉(zhuǎn)中心線圍繞橫切該處理方向的中心線配置的支撐樞轉(zhuǎn)。在該基底介質(zhì)與該配準(zhǔn)鉗口組件嚙合后，樞轉(zhuǎn)該旋轉(zhuǎn)中心線到垂直于該處理方向的位置。根據(jù)此處描述的再進(jìn)一步的方面，該方法還包括在樞轉(zhuǎn)該旋轉(zhuǎn)中心線到垂直于該 處理方向之前，將該基底介質(zhì)從其它的鉗口組件去嚙合。而且該其它的鉗口組件被置于該 配準(zhǔn)鉗口組件相對于該處理方向的上游。另外，變換該旋轉(zhuǎn)中心線到交叉處理方向。進(jìn)一 步，測量并調(diào)整該基底介質(zhì)速度。又進(jìn)一步，在與該鉗口組件嚙合之前，從該基底介質(zhì)的邊 緣測量該基底介質(zhì)的該偏斜角度。該旋轉(zhuǎn)中心線的樞轉(zhuǎn)可由凸輪組件控制。而且，該凸輪 組件可由馬達(dá)響應(yīng)于該偏斜角度測量值致動(dòng)。該配準(zhǔn)鉗口組件旋轉(zhuǎn)中心線可圍繞球面軸承 組件樞轉(zhuǎn)。該偏斜角度測量值可以由至少一個(gè)置于該處理方向上該鉗口組件上游的傳感器 執(zhí)行。該球面軸承元件可被置于該鉗口組件的與凸輪組件相對一端。


圖1是用于印刷系統(tǒng)的基底介質(zhì)配準(zhǔn)和糾偏裝置的部分側(cè)視示意圖。圖2是用于印刷系統(tǒng)的基底介質(zhì)配準(zhǔn)和糾偏裝置的部分俯視示意圖。圖3是圖2的裝置的部分俯視示意圖，其中鉗口組件被偏斜以基本上順應(yīng)操作的 基底介質(zhì)。圖4是圖3的裝置的部分俯視示意圖，其中該鉗口組件和基底介質(zhì)被調(diào)整到缺省 位置。
具體實(shí)施例方式此處所用的“印刷機(jī)”或“印刷系統(tǒng)”指的是用于產(chǎn)生“印刷輸出”或印刷輸出功能 (其指的是為了任何目的而再現(xiàn)(r印roduction) “基底介質(zhì)”上的信息)的一個(gè)或多個(gè)器 件。此處所用的“印刷機(jī)”或“印刷系統(tǒng)”涵蓋任何的裝置，比如數(shù)字復(fù)印機(jī)、制書機(jī)、傳真 機(jī)、多功能機(jī)等，其執(zhí)行印刷輸出功能。印刷系統(tǒng)可能使用“靜電照相處理(electrostatographic process)，，(其 指的是形成并使用帶靜電的圖案以記錄和再生信息)、“電子照相處理(xerographic process)”(其指的是使用帶電的板上的樹脂粉末來記錄和再生信息)或其它用于產(chǎn)生印 刷輸出的合適的處理(比如噴墨處理、液體墨水處理、固體墨水處理等)來產(chǎn)生印刷輸出。 而且，這種印刷系統(tǒng)可以印刷和/或處理單色或彩色圖像數(shù)據(jù)。此處所用的“基底介質(zhì)”指的是，例如，紙、透明體(transparencies)、羊皮紙 (parchment)、膠片(film)、織物(fabric)、塑料或在上面可以再生信息的其它的基底，優(yōu) 選地是以頁(sheet)或卷材(web)的形式。此處所用的“傳感器”指的是對物理刺激作出響應(yīng)并發(fā)送產(chǎn)生的脈沖以用于控制 器的測量和/或操作的器件。這樣的傳感器包括使用壓力、光、運(yùn)動(dòng)、熱、聲音和磁的那些傳 感器。并且，此處所指的每個(gè)這樣的傳感器可包括一個(gè)或多個(gè)用于檢測和/或測量基底介 質(zhì)的特征(比如該基底介質(zhì)的速度、方向、處理或交叉處理位置甚至是尺寸)的點(diǎn)傳感器和 /或陣列傳感器。因此，此處所指的“傳感器”可包括超過一個(gè)傳感器。此處所用的“偏斜”基底介質(zhì)相對于處理方向的物理方位。特別是，偏斜指的是基 底介質(zhì)邊緣相對于處理方向的錯(cuò)位、歪斜(slant)或傾斜(oblique)方位。此處所用的術(shù)語“處理”和“處理方向”指的是在基底介質(zhì)上印刷或再生信息的處理。處理方向是該基底介質(zhì)在處理過程中的流動(dòng)路徑?！敖徊嫣幚矸较颉笔菣M切(lateral to)該處理方向。圖1描繪了用于基底介質(zhì)處理系統(tǒng)(優(yōu)選地，用于印刷系統(tǒng))的基底介質(zhì)配準(zhǔn)和 糾偏裝置的部分側(cè)視示意圖。應(yīng)當(dāng)注意，此處的部分示意圖不是按照比例繪制的。在圖1 中，箭頭10表示基底介質(zhì)的流動(dòng)方向，其對應(yīng)于處理方向(從上游位置朝下游位置)。用這 種方式，基底介質(zhì)穿過配準(zhǔn)和糾偏區(qū)域，在那里有鉗口組件110。在該基底介質(zhì)路徑10的上 方和下方優(yōu)選地提供兩個(gè)擋板25。優(yōu)選地，該兩個(gè)擋板與基底介質(zhì)中心線35間隔開相等的 距離，并在該基底介質(zhì)在流動(dòng)方向10上前進(jìn)并經(jīng)過鉗口組件110時(shí)充當(dāng)該基底介質(zhì)的引導(dǎo) 器(guide)。優(yōu)選地，每個(gè)鉗口 115包括主動(dòng)輥120和空轉(zhuǎn)輥(idler) 130。鉗口的主動(dòng)輥120 和空轉(zhuǎn)輥130趨向于沿著接觸線彼此碰觸。因此，鉗口 115被用于嚙合和抓取基底介質(zhì)并 使它移動(dòng)穿過整個(gè)組件。盡管圖中沒有顯示，優(yōu)選對著該空轉(zhuǎn)輥軸132中心裝載彈簧，使主 動(dòng)輥120和空轉(zhuǎn)輥130朝彼此偏置，從而為鉗口 115提供抓持力。主動(dòng)輥軸122和空轉(zhuǎn)輥 軸132的缺省位置在平面20上，平面20優(yōu)選地垂直于流動(dòng)路徑10。并且，優(yōu)選地，在缺省 位置時(shí)，主動(dòng)輥軸122和空轉(zhuǎn)輥軸132被以平行配置支撐在那個(gè)公共配準(zhǔn)平面20中。配準(zhǔn) 平面20縱向橫越基底介質(zhì)流動(dòng)路徑10。優(yōu)選地，每個(gè)鉗口 115的主動(dòng)輥120是由公共主動(dòng) 輥軸122支撐的。類似地，每個(gè)鉗口 115的空轉(zhuǎn)輥130是由公共空轉(zhuǎn)輥軸132支撐的。因 此，至少主動(dòng)輥120、主動(dòng)輥軸122、空轉(zhuǎn)輥130和空轉(zhuǎn)輥軸132被認(rèn)為是整個(gè)鉗口組件110 的一部分。如圖2-4所示，優(yōu)選地，超過一個(gè)鉗口 115由主動(dòng)輥軸122和空轉(zhuǎn)輥軸132支 撐。并且，優(yōu)選地，凸輪隨動(dòng)件124由主動(dòng)輥軸122支撐。凸輪隨動(dòng)件124適于與凸輪160 嚙合。凸輪160被用作致動(dòng)構(gòu)件以改變流動(dòng)方向10中的鉗口組件110的方位或角度。優(yōu) 選地，主動(dòng)輥軸122被偏向凸輪160。圖2是圖1的裝置的部分俯視示意圖。兩個(gè)鉗口 115橫跨流動(dòng)路徑10間隔開。 為了說明，在此處的俯視圖中只顯示了主動(dòng)輥軸122，應(yīng)當(dāng)理解，該主動(dòng)輥軸122和空轉(zhuǎn)輥 軸優(yōu)選地保持平行。主動(dòng)輥軸122由軸承140、150支撐，其允許主動(dòng)輥軸122沿著它的軸 自由旋轉(zhuǎn)。凸輪160可以偏移內(nèi)側(cè)軸承150的位置。凸輪160由凸輪軸170支撐，凸輪軸 170是由馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的，該馬達(dá)優(yōu)選地是步進(jìn)電動(dòng)機(jī)(未示)。外側(cè)軸承140優(yōu)選地不同于內(nèi) 側(cè)軸承150，因?yàn)橥鈧?cè)軸承140除了軸旋轉(zhuǎn)之外還包括球面軸承元件145，提供了主動(dòng)輥軸 122的樞轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)(pivotal movement)A。用這種方式，當(dāng)凸輪160旋轉(zhuǎn)時(shí)，根據(jù)凸輪160的 旋轉(zhuǎn)方式，鉗口組件110的內(nèi)側(cè)側(cè)面會(huì)在上游或下游方向以拱形運(yùn)動(dòng)。當(dāng)該內(nèi)側(cè)側(cè)面樞轉(zhuǎn) (pivots)時(shí)，鉗口組件110該外側(cè)側(cè)面圍繞球面軸承元件145樞轉(zhuǎn)。因此，該鉗口組件圍 繞以球面軸承元件145為中心的樞軸中心線(axis)樞轉(zhuǎn)，該樞軸中心線垂直于該處理方向 和該交叉處理方向。空轉(zhuǎn)輪軸132以這種方式支撐當(dāng)主動(dòng)輥軸122樞轉(zhuǎn)時(shí)，它會(huì)跟隨主動(dòng) 輥軸122并與其保持平行。例如，鉗口組件110的內(nèi)側(cè)側(cè)面可以被支撐在橢圓形引導(dǎo)器軛 (yoke，未示)上，其允許該內(nèi)側(cè)軸承浮動(dòng)。優(yōu)選地，鉗口組件110的樞轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)A是通過使用 相連的馬達(dá)使凸輪160轉(zhuǎn)動(dòng)一個(gè)具體的量來控制的。鉗口組件110的上游是傳感器SI、S2、S3。優(yōu)選地，傳感器SI、S2、S3在基底介質(zhì) 經(jīng)過該配準(zhǔn)和糾偏區(qū)域時(shí)檢測它的方位。盡管圖2-4顯示了兩(2)到三(3)個(gè)傳感器，應(yīng) 當(dāng)理解，可以使用更少或更多數(shù)量的傳感器，取決于傳感器的類型、測量的期望準(zhǔn)確度和所
5需或優(yōu)選的冗余度。例如，壓力或光學(xué)傳感器可用于檢測基底介質(zhì)何時(shí)經(jīng)過每個(gè)獨(dú)立傳感 器上方。而且，必要時(shí)這些傳感器可以被置于該配準(zhǔn)和糾偏區(qū)域的更上游或更接近該配準(zhǔn) 和糾偏區(qū)域。應(yīng)當(dāng)理解，可以使用任何的頁傳感系統(tǒng)根據(jù)所公開的技術(shù)檢測該基底的位置 和/或其它特征。在圖3和4中顯示的一個(gè)實(shí)施方式中，至少兩個(gè)傳感器SI、S2在相對于主動(dòng)輥軸 122缺省位置(如圖1所示)平行配置中彼此間隔開。優(yōu)選地，這些傳感器SI、S2也平行 于其它的上游/下游處理，比如一個(gè)或多個(gè)光感受器和圖像轉(zhuǎn)移區(qū)域。在設(shè)立整個(gè)組件的 過程中，這些傳感器S1、S2的這種平行對準(zhǔn)被優(yōu)選地“置零(zero out)”。替代地，可以提 供一個(gè)自動(dòng)機(jī)構(gòu)以保持平行對準(zhǔn)。傳感器SI、S2會(huì)獨(dú)立檢測何時(shí)它們被基底介質(zhì)5阻擋。 通過配準(zhǔn)傳感器SI、S2被基底介質(zhì)5阻擋的時(shí)間上的差異并識(shí)別其速度，基底介質(zhì)5相對 于配準(zhǔn)平面20和相對于下游的轉(zhuǎn)移區(qū)的偏斜可被測量。如圖1所示，其中毗鄰S1并在已 知尺寸的下游處放置第三傳感器S3，基底介質(zhì)5的速度可以被更準(zhǔn)確地測量。圖3顯示了途經(jīng)該配準(zhǔn)和糾偏區(qū)域的偏斜的基底介質(zhì)5。當(dāng)基底介質(zhì)5跨越傳感 器S1、S2時(shí)，該偏斜被測量并由自動(dòng)化的控制系統(tǒng)配準(zhǔn)。然后，在基底介質(zhì)5到達(dá)該配準(zhǔn)平 面20之前，鉗口組件110 (包括主動(dòng)輥軸122和空轉(zhuǎn)輥軸132)被樞轉(zhuǎn)(pivoted)以匹配測 量到的偏斜。如圖3所示，控制系統(tǒng)通過驅(qū)動(dòng)控制凸輪160的馬達(dá)而以方向B1樞轉(zhuǎn)鉗口組 件110。在該樞轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)過程中，主動(dòng)輥軸122和空轉(zhuǎn)輥軸132在平面22中彼此保持平行， 平面22代表鉗口組件的中心平面。一旦鉗口組件110被偏斜以匹配基底介質(zhì)5，鉗口平面 22會(huì)與配準(zhǔn)平面20形成角度0。一旦鉗口組件110嚙合基底介質(zhì)5，優(yōu)選地，任何附加的 上游或下游鉗口(未示)都打開。用這種方式，那些附加的鉗口松開基底介質(zhì)5使它可以 被自由地調(diào)整。然后凸輪160能由馬達(dá)在方向B2上驅(qū)動(dòng)，回到它的缺省位置。圖4顯示了 在缺省位置的鉗口組件110。這種樞轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)到缺省位置拉動(dòng)或偏移基底介質(zhì)5，使其基本上 與下游的轉(zhuǎn)移區(qū)對準(zhǔn)。替代地，如果傳感器SI、S2檢測到進(jìn)來的基底介質(zhì)5基本上與該缺省位置對準(zhǔn) (沒有顯著偏斜)，那么優(yōu)選地不執(zhí)行糾偏。然后基底介質(zhì)5可以前進(jìn)通過該鉗口組件并被 推向下游轉(zhuǎn)移區(qū)而不樞轉(zhuǎn)主動(dòng)輥軸122。而且，不管是否執(zhí)行上述樞轉(zhuǎn)糾偏，一旦基底介質(zhì)5被鉗口組件110嚙合，可以進(jìn) 行進(jìn)一步的交叉處理定位。并且，處理定位和定時(shí)(timing)也可以在該配準(zhǔn)和糾偏區(qū)域進(jìn) 行調(diào)整。在交叉處理或處理定位或定時(shí)的任何附加調(diào)整過程中，前述下游鉗口優(yōu)選地打開 以允許基底介質(zhì)5被更加自由地調(diào)整。比如交叉處理定位等功能可以通過向一側(cè)(橫切處 理方向10)移動(dòng)該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的主要部分實(shí)現(xiàn)。更多的傳感器，比如邊緣傳感器，可用于檢測 基底介質(zhì)5何時(shí)被適當(dāng)放置。通過對主動(dòng)輥軸速度的仔細(xì)控制，可以完成任何的處理定位 或定時(shí)。通常，印刷系統(tǒng)包括超過一個(gè)印刷模塊或印刷臺(tái)。相應(yīng)地，在整個(gè)印刷系統(tǒng)中可 以包括超過一個(gè)鉗口組件110。進(jìn)一步，應(yīng)當(dāng)理解，在模塊化系統(tǒng)或包括超過一個(gè)鉗口組件 110的系統(tǒng)中，按照此處公開的技術(shù)，可以檢測基底介質(zhì)位置并將該信息傳遞到中央處理器 以用于整個(gè)印刷系統(tǒng)的配準(zhǔn)和/或偏斜。因此，如果該配準(zhǔn)和/或偏斜對于一個(gè)鉗口組件 110太大而無法校正的話，那么可以通過使用超過一個(gè)鉗口組件110(比如另一個(gè)模塊或臺(tái) 中的)來實(shí)現(xiàn)校正。
權(quán)利要求
一種用于在印刷系統(tǒng)中糾偏基底介質(zhì)的裝置，包含至少一個(gè)傳感器，用于測量被傳送的該基底介質(zhì)相對于處理方向的偏斜；以及鉗口組件，用于在該處理方向移動(dòng)該基底介質(zhì)，該鉗口組件包括用于嚙合該基底介質(zhì)的主動(dòng)輥和空轉(zhuǎn)輥，該主動(dòng)輥可旋轉(zhuǎn)地支撐在軸中心線上，該軸中心線被基本上在其一端可樞轉(zhuǎn)地支撐以將該軸中心線與測量的基底介質(zhì)偏斜對準(zhǔn)，由此該軸中心線圍繞垂直于該軸中心線的樞軸中心線樞轉(zhuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中該鉗口組件圍繞該樞軸中心線樞轉(zhuǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，進(jìn)一步包含致動(dòng)構(gòu)件，用于圍繞該樞軸中心線樞轉(zhuǎn)該軸中心線到與該基底介質(zhì)的一個(gè)邊緣平行的方位。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中該致動(dòng)元件基本上被設(shè)置在該軸中心線相對于樞 轉(zhuǎn)支撐的相對端。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中至少一個(gè)傳感器包括設(shè)置于該處理方向上在該鉗 口組件之前的至少兩個(gè)傳感器。
6.一種在印刷系統(tǒng)中糾偏基底介質(zhì)的方法，包括 測量在處理方向傳送的基底介質(zhì)的偏斜角度；樞轉(zhuǎn)配準(zhǔn)鉗口組件的旋轉(zhuǎn)中心線以匹配該偏斜角度，其中該旋轉(zhuǎn)中心線圍繞橫切該處 理方向的中心線配置的支撐樞轉(zhuǎn)；以及在該基底介質(zhì)與該配準(zhǔn)鉗口組件嚙合后，樞轉(zhuǎn)該旋轉(zhuǎn)中心線到垂直于該處理方向的位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的糾偏基底介質(zhì)的方法，進(jìn)一步包括在樞轉(zhuǎn)該旋轉(zhuǎn)中心線到垂直于該處理方向之前，將該基底介質(zhì)從其它的鉗口組件去嚙 合，該其它的鉗口組件被置于該配準(zhǔn)鉗口組件相對于該處理方向的上游。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的糾偏基底介質(zhì)的方法，進(jìn)一步包括 變換該旋轉(zhuǎn)中心線到交叉處理方向。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的糾偏基底介質(zhì)的方法，進(jìn)一步包括 測量該基底介質(zhì)速度。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的糾偏基底介質(zhì)的方法，其中在與該鉗口組件嚙合之前，從該 基底介質(zhì)的邊緣測量該基底介質(zhì)的偏斜角度。
全文摘要
根據(jù)此處描述的方面，公開一種用于在印刷系統(tǒng)中糾偏基底介質(zhì)的裝置。該裝置包括至少一個(gè)傳感器，用于測量被傳送的該基底介質(zhì)相對于處理方向的偏斜。該裝置還包括鉗口組件，用于在該處理方向移動(dòng)該基底介質(zhì)。該鉗口組件包括用于嚙合該基底介質(zhì)的主動(dòng)輥和空轉(zhuǎn)輥。該主動(dòng)輥可旋轉(zhuǎn)地支撐在軸中心線上，其中該軸中心線被基本上在其一端可樞轉(zhuǎn)地支撐以對準(zhǔn)該軸中心線與測量的基底介質(zhì)偏斜。該軸中心線圍繞垂直于該軸中心線的樞軸中心線樞轉(zhuǎn)。
文檔編號B65H23/038GK101823639SQ20101012819
公開日2010年9月8日 申請日期2010年2月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月13日
發(fā)明者約瑟夫·J·費(fèi)拉拉, 約瑟夫·M·費(fèi)拉拉 申請人:施樂公司