專利名稱：傾斜式除液裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示裝置用玻璃基板的制造等中使用的傳送式基板處理裝置，特別涉及在該基板處理裝置中，通過使基板傾斜，從基板的表面上排除處理液的傾斜式除液裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示裝置中使用的玻璃基板，通過對(duì)作為基材的玻璃基板的表面反復(fù)實(shí)施腐蝕、剝離等化學(xué)處理來制造。該處理裝置大致分為干式和濕式；濕式又分為比量式和葉片式；葉片式又分為旋轉(zhuǎn)式和基于滾輪傳送等的傳送式。
在這些基板處理裝置中，傳送式的裝置具有將基板向水平方向傳送同時(shí)對(duì)該基板的表面供給處理液的基本結(jié)構(gòu)，由于效率高，所以被用于腐蝕處理和剝離處理。
腐蝕處理上使用的傳送式基板處理裝置從在基板傳送線的上方矩陣狀配置的多個(gè)噴射噴嘴中噴射腐蝕液，通過使基板在該腐蝕液中通過，向基板的整個(gè)表面供給腐蝕液。通過該噴淋處理，除了涂敷了掩模材料的部分以外，基板的表面被有選擇地腐蝕。
腐蝕后，通過從相同的噴嘴噴射的清洗水來清洗基板表面，但以抑制腐蝕處理的迅速停止、初期清洗中的清洗水的污染、降低初期清洗水的廢棄量等為目的，在清洗前對(duì)基板表面殘留的腐蝕液進(jìn)行物理去除。作為除液裝置之一，有使基板在傳送中途暫時(shí)停止，向側(cè)方傾斜，從表面上向側(cè)方排除腐蝕液的傾斜式裝置。剝離處理用的基板處理裝置也同樣進(jìn)行藥液處理、除液、水洗。
但是，在液晶顯示裝置用玻璃基板中，在基板的大型化的同時(shí)，電路的高精細(xì)化也在深入。作為在該基板上使用的布線材料，以前大多使用Cr，但隨著目前的高精細(xì)化，正在轉(zhuǎn)向使用電阻率值小的Al或Al/Mo。因此，即使腐蝕用的傳送式基板處理裝置，也開始使用Al腐蝕液，但隨著使用該腐蝕液，發(fā)現(xiàn)產(chǎn)生以下的問題。
Al腐蝕液與Cr腐蝕液相比粘度高。因此，在腐蝕后傾斜式除液裝置使基板傾斜時(shí)，除液性惡化。即，由于Al腐蝕液的表面張力大，所以即使通過基板的傾斜，表面上的腐蝕液也大量積存在側(cè)緣部，在使基板返回到水平狀態(tài)時(shí)，該腐蝕液再次在表面上擴(kuò)大。
增大基板的傾斜角度是解決該問題的方向，但在基板大型化的現(xiàn)狀中，由于設(shè)備間的干擾，所以難以增大基板的傾斜角度，而且，因增大傾斜角度，在其傾斜上需要時(shí)間，使用于除液的基板停止時(shí)間變長，所以存在不能增大基板的傾斜角度的制約。由于該制約，不可避免使用Al腐蝕液情況下的除液性的惡化，其結(jié)果，產(chǎn)生不能進(jìn)行從腐蝕液向清洗水的迅速的液體置換，或增大初期清洗水的廢棄量的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種傾斜式除液裝置，即使在處理液粘度高的情況下，也不增大基板的傾斜角度，可以從其表面高效率地排除處理液。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的傾斜式除液裝置包括除液裝置主體，被配置在將基板向水平方向傳送的同時(shí)向該基板的表面供給處理液處理該基板表面的傳送式的基板處理傳送線內(nèi)，通過使基板傾斜，將處理液從基板上排除；以及除液促進(jìn)機(jī)構(gòu)，被配置在基板的傾斜方向下游側(cè)，通過在基板的側(cè)緣部整個(gè)長度上以規(guī)定間隔接觸或接近的多個(gè)液體接觸部件，來促進(jìn)從基板上排除處理液，以便與隨著基板的傾斜向傾斜方向下游側(cè)流動(dòng)滯留的基板上的處理液接觸。
在本發(fā)明的傾斜式除液裝置中，通過基板的傾斜將積存在側(cè)緣部的處理液傳送到在該側(cè)緣部的整個(gè)長度上以規(guī)定間隔接觸或接近的多個(gè)液體接觸部件，從該側(cè)緣部高效率地排除。
從排液性方面來看，所述液體接觸部件與傾斜的基板的側(cè)緣部上積存的處理液進(jìn)行線接觸或點(diǎn)接觸較好，具體地說，最好是大致垂直的針狀部件。此外，如果液體接觸部件與傾斜的基板的側(cè)緣部接觸，則有切削側(cè)緣部并產(chǎn)生異物的危險(xiǎn)，所以與傾斜的基板的側(cè)緣部接近的非接觸式較好。
本發(fā)明的傾斜式除液裝置特別適合于粘度高的Al腐蝕液，但對(duì)于其它腐蝕液、以及腐蝕以外的處理液也有效，只是存在效果上的某些差異。


圖1是使用本發(fā)明一實(shí)施例的傾斜式除液裝置的傳送式基板處理裝置的俯視圖；圖2是該傾斜式除液裝置的俯視圖；圖3是圖2中的X-X箭頭線所示的圖。
具體實(shí)施例方式
以下，根據(jù)附圖來說明本發(fā)明的實(shí)施例。
使用本實(shí)施例的傾斜式除液裝置的傳送式基板處理裝置為進(jìn)行液晶顯示裝置用玻璃基板10(以下簡稱為基板10)的Al腐蝕處理的裝置。如圖1所示，該基板處理裝置采用將直線狀的第1傳送線A、直角連接到第1傳送線A的第2傳送線B、直角連接到第2傳送線B并與第1傳送線A并列的第3傳送線C組合而成的U轉(zhuǎn)動(dòng)式的布局。
第1傳送線A直線狀連結(jié)接收部1、阻液部2、腐蝕部3及除液部4來構(gòu)成。腐蝕部3裝配從上方向基板10的表面分散用于Al腐蝕的水的噴淋單元31。除液部4裝配本實(shí)施例的傾斜式除液裝置40，有關(guān)其結(jié)構(gòu)將在后面詳細(xì)說明。
在第2傳送線B是水洗部5，裝配從上方向基板10的表面分散清洗水的噴淋單元51。第3傳送線C直線狀地連結(jié)移載裝置6，旋轉(zhuǎn)干燥器7，移載裝置8及取出部9來構(gòu)成。
第1傳送線A及第2傳送線B包括沿傳送方向以規(guī)定間隔并排排列的多個(gè)傳送滾輪，以便沿傳送線長度方向傳送基板10。各傳送滾輪是與傳送方向成直角的水平滾輪。在第2傳送線B、即水洗部5的入口部，設(shè)置使基板10的行進(jìn)方向變更90度的轉(zhuǎn)向機(jī)構(gòu)52。
要接受Al腐蝕處理的基板10由傳送裝置11傳送到接收部1。通過滾輪傳送，該基板10從阻液部2進(jìn)入腐蝕部3，在通過腐蝕部期間接受腐蝕。通過后續(xù)的滾輪傳送，通過了腐蝕部3的基板10經(jīng)除液部4內(nèi)的傾斜式除液裝置40移動(dòng)到水洗部5，并將行進(jìn)方向變更90度。然后，在水洗部5內(nèi)移動(dòng)的期間內(nèi)接受水洗處理。
移動(dòng)至水洗部5的出口部的基板10通過移載裝置6從水洗部5傳送到旋轉(zhuǎn)干燥器7。用旋轉(zhuǎn)干燥器7結(jié)束了干燥處理的基板10由移載裝置8從旋轉(zhuǎn)干燥器7傳送到取出部9，再次由傳送裝置11傳送到裝置外部。
如圖2和圖3所示，本實(shí)施例的傾斜式除液裝置40包括沿水平方向傳送基板10的多個(gè)傳送滾輪41；使傳送滾輪41上的基板10向傳送方向側(cè)方傾斜的除液裝置主體42；以及在除液裝置主體42的一側(cè)部上設(shè)置的除液促進(jìn)機(jī)構(gòu)43。
傳送滾輪41是沿傳送方向以規(guī)定間隔排列的水平驅(qū)動(dòng)滾輪，由驅(qū)動(dòng)軸41a的多個(gè)位置上設(shè)置的大直徑部41b來點(diǎn)支撐基板10，由兩側(cè)設(shè)置的凸緣部41c來進(jìn)行基板10的寬度方向的位置確定。而且，通過同步驅(qū)動(dòng)多個(gè)傳送滾輪41，使基板10以規(guī)定速度行進(jìn)，或停止于任意位置。
除液裝置主體42具有在傳送方向的多個(gè)位置上支撐基板10的多個(gè)基板支撐橫梁42a；以及使多個(gè)基板支撐橫梁42a向基板10的傳送方向傾斜的兩側(cè)一對(duì)升降裝置42b、42c。多個(gè)基板支撐橫梁42a是在傳送滾輪41之間平行配置的與傳送方向成直角的橫梁，通過平行于基板10的傳送方向的多個(gè)連結(jié)部件42d而一體化。而且，在不傾斜的水平狀態(tài)下，多個(gè)基板支撐橫梁42a處于基板傳送面的稍下方。
兩側(cè)一對(duì)升降裝置42b、42c在這里是電機(jī)式起重器，通過使中央的基板支撐橫梁42a傾斜，來使多個(gè)基板支撐橫梁42a同步傾斜。即，處于傾斜方向下游側(cè)的升降裝置42b使可自由旋轉(zhuǎn)支撐多個(gè)基板支撐橫梁42a的一端部的支撐部件42e升降，通過其上升，使多個(gè)基板支撐橫梁42a的一端部上面處于基板傳送面的稍上方位置。處于傾斜方向上流側(cè)的升降裝置42c通過桿42f使多個(gè)基板支撐橫梁42a的另一端部的另一端部上面上升至基板傳送面的稍上方，進(jìn)行后續(xù)的規(guī)定行程的上升，從而使多個(gè)基板支撐橫梁42a以一端部的旋轉(zhuǎn)支點(diǎn)為中心向一端側(cè)傾斜。
由此，將傳送滾輪41上的基板10移載到基板支撐橫梁42a上，并且，向傳送方向以規(guī)定角度傾斜。為了不因基板支撐橫梁42a的傾斜而產(chǎn)生傳送滾輪41和連結(jié)部件42d的干擾，連結(jié)部件42d在傳送滾輪41的足夠下方連結(jié)基板支撐橫梁42a。在基板支撐橫梁42a的一端部，設(shè)置用于防止基板10的傾斜造成的橫向錯(cuò)位的止動(dòng)器42g。
除液促進(jìn)機(jī)構(gòu)43有沿基板10的傳送方向以規(guī)定間隔排列的多個(gè)接觸部件43a。多個(gè)接觸部件43a是垂直的圓棒狀的細(xì)的金屬針，各上端部被固定在上方的水平支撐部件43b上，各下端作為自由端開放。而且，在基板10向側(cè)方以規(guī)定角度傾斜時(shí)，在基板10的傾斜方向下游側(cè)的側(cè)緣部與多個(gè)接觸部件43a隔開微小的間隙并對(duì)置的位置上，設(shè)置該除液促進(jìn)機(jī)構(gòu)43。
再有，接觸部件43a基本上以等間距來排列，有關(guān)其間距后面將詳述，但在與基板支撐橫梁42a上設(shè)置的止動(dòng)器42g的干擾位置上，將接觸部件43a省略。
下面說明本實(shí)施例的傾斜式除液裝置40的功能。
結(jié)束了腐蝕部3中的腐蝕處理的基板10進(jìn)入除液部4，停止于除液裝置主體42上的規(guī)定位置。此時(shí)，除液裝置主體42的基板支撐橫梁42a在基板傳送面的下方以水平狀態(tài)等待。如果基板10停止于除液裝置主體42上的規(guī)定位置，則基板支撐橫梁42a的一端部上升一點(diǎn)，而另一端部極大地上升。由此，基板10從傳送滾輪41上被移載到基板支撐橫梁42a上，而且向側(cè)方以規(guī)定角度傾斜。
通過基板10的傾斜，基板10的表面上殘留的腐蝕液向側(cè)方流動(dòng)，從基板10的表面上排除，但由于腐蝕液是用于Al的高粘性的腐蝕液，所以只是規(guī)定角度的傾斜，因表面張力使比較多的腐蝕液殘留在傾斜方向下游側(cè)的側(cè)緣部。但是，本實(shí)施例的傾斜式除液裝置40使基板10的傾斜方向下游側(cè)的側(cè)緣部與除液促進(jìn)機(jī)構(gòu)43的多個(gè)接觸部件43a接近，使側(cè)緣部上滯留的腐蝕液接觸多個(gè)接觸部件43a。其結(jié)果，可由各接觸部件43a傳送并從傾斜方向下游側(cè)的側(cè)緣部高效率地排除腐蝕液。因此，側(cè)緣部中殘留的腐蝕液很少。
如果結(jié)束基于傾斜的除液，則基板支撐橫梁42a返回到原來的水平狀態(tài)。由此，基板10從基板支撐橫梁42a上移載到傳送滾輪41上，通過再驅(qū)動(dòng)傳送滾輪41，將基板從除液部4傳送到水洗部5。
除液部4通過傾斜式除液裝置40高效率地進(jìn)行除液而不增大基板10的傾斜角度，所以可避免除液所需時(shí)間的延長。此外，可避免設(shè)備的大型化。水洗部5對(duì)基板10進(jìn)行初期清洗，該初期清洗水因受污染顯著而被廢棄，但減少了帶入到水洗部5的腐蝕液，所以減少了被廢棄的初期清洗水。
傾斜式除液裝置40的基板的傾斜角度為5～20度較好，為8～15度更好。如果該傾斜角度過小，則不能充分進(jìn)行除液，而在傾斜角度過大的情況下，存在設(shè)備上的干擾和傾斜所需時(shí)間的增大的問題。接觸部件43a的排列間隔為2～15mm較好，為3～8mm更好。如果該間隔過小，則成為液體積存的原因，而在過大的情況下，則難以在相鄰的接觸部件間除去液體，都使排液性下降。接觸部件43a的尺寸是圓棒的外徑為1～8mm較好，為2～4mm更好。如果該外徑過小，則難以加工，而在過大的情況下，因排列間隔的增大而使排液性降低。
產(chǎn)業(yè)上的利用可能性如以上說明，本發(fā)明的傾斜式除液裝置通過將傾斜的基板的傾斜方向下游側(cè)的側(cè)緣部與沿該側(cè)緣部排列的多個(gè)接觸部件接觸或接近，從而即使在處理液的粘性高的情況下，也不增大基板的傾斜角度，可以從其表面上高效率地排除處理液。由此，可減輕接續(xù)除液的水洗中的負(fù)荷，降低用水成本。此外，可避免延長除液所需時(shí)間，避免增大設(shè)備長度。
權(quán)利要求
1.一種傾斜式除液裝置，其特征在于，包括除液裝置主體，被配置在將基板向水平方向傳送的同時(shí)向該基板的表面供給處理液處理該基板表面的傳送式的基板處理傳送線內(nèi)，通過使基板傾斜，將處理液從基板上排除；以及除液促進(jìn)機(jī)構(gòu)，被配置在基板的傾斜方向下游側(cè)，通過在基板的側(cè)緣部整個(gè)長度上以規(guī)定間隔接觸或接近的多個(gè)液體接觸部件，來促進(jìn)從基板上排除處理液，以便與隨著基板的傾斜向傾斜方向下游側(cè)流動(dòng)滯留的基板上的處理液接觸。
2.如權(quán)利要求1所述的傾斜式除液裝置，其中，所述液體接觸部件是大致垂直的針狀部件。
3.如權(quán)利要求1所述的傾斜式除液裝置，其中，所述處理液是Al腐蝕液。
全文摘要
本發(fā)明涉及傾斜式除液裝置，其目的在于提供在通過基板(10)的傾斜，從基板上排除處理液的傾斜式除液裝置中，即使在處理液的粘度高的情況下，也不增大基板(10)的傾斜角度，就能夠從基板上高效率地排除處理液的裝置。為了實(shí)現(xiàn)該目的，在使傳送滾輪(41)上的基板(10)向傳送方向側(cè)方傾斜的除液裝置主體(42)的一側(cè)部上，設(shè)置除液促進(jìn)機(jī)構(gòu)(43)。除液促進(jìn)機(jī)構(gòu)(43)有在基板(10)的傳送方向上以規(guī)定間隔排列的多個(gè)接觸部件(43a)，在基板(10)以規(guī)定角度向側(cè)方傾斜時(shí)，通過使所述接觸部件(43a)接觸基板(10)的傾斜方向下游側(cè)的側(cè)緣部上積存的處理液，從側(cè)緣部除去處理液。
文檔編號(hào)B65G49/06GK1398428SQ01804684
公開日2003年2月19日 申請(qǐng)日期2001年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2000年12月11日
發(fā)明者下田亨志, 田內(nèi)仁 申請(qǐng)人:住友精密工業(yè)株式會(huì)社