專利名稱：去污點和去氧化而又不留污點的組合物和方法
背景技術(shù)：
發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及用于除去金屬表面污點的組合物和方法，特別是鋁、鎂及其至少含有45％(重)鋁或鎂的合金表面，更特別是當(dāng)溶解時在其表面形成污點的含足夠量銅的鋁合金。該組合物和方法還適用于無污點表面去氧化，達到去氧化而又不在其表面形成污點，否則會使表面污染。(在這里“去氧化”應(yīng)理解為從金屬表面除去氧化物膜和其他粘附的無機材料，它們會降低對隨后所需的保護涂層如轉(zhuǎn)化涂層和/或油漆等的附著力。就大多數(shù)去氧化劑來說，在去氧化劑與底層金屬接觸時，底層金屬有可感覺的但受控的溶解。相反，在這里“去污點”應(yīng)理解為除去以前的凈化、浸蝕和/或去氧化處理在經(jīng)處理的金屬表面上產(chǎn)生的粉狀的通常為深色的殘留物)。相關(guān)技術(shù)的描述自幾十年前含銅的鋁航天合金的開發(fā)以來，傳統(tǒng)的去氧化組合物通常包括濃硝酸和/或硫酸以及鉻酸鹽，而氟化物、鐵離子、氧化劑如過硫酸鹽和過氧化物及鈦氰化物常常作為任選的成分。近年來，環(huán)保方面要求避免使用鉻酸鹽和鐵氰化物，但到現(xiàn)在還未開發(fā)出完全令人滿意的不含上述這兩種物質(zhì)的去氧化劑。
除了在權(quán)利要求書和實施例中外，或者另加明確的說明，在本說明書中表示物質(zhì)量或者反應(yīng)和/或使用條件有關(guān)數(shù)值應(yīng)理解為在描述本發(fā)明的最寬范圍內(nèi)用詞“約”來修飾。在所述數(shù)字限內(nèi)的實施通常是優(yōu)選的。同樣，除非明確另加說明，百分?jǐn)?shù)、份數(shù)和比值都按重量計；對本發(fā)明一定目的適合或優(yōu)選的一組或一類物質(zhì)的描述意味著這組或這類物質(zhì)中的任何兩種或多種的混合物同樣適用或優(yōu)選；用化學(xué)術(shù)語描述的組分指加到說明書中定義的任何組合物中時的組分，不必排除一旦混合時混合物中各組分之間的相互化學(xué)作用；離子形式的物質(zhì)意味著存在足夠的對于整個組合物產(chǎn)生電中性的平衡離子；因此未明確說明的任何平衡離子應(yīng)優(yōu)選盡可能從以離子形式明確定義的其他組分之間選擇；否則，除避免對本發(fā)明所述的目的有不良作用的平衡離子外，這樣的平衡離子可自由選擇。同樣，術(shù)語“克摩爾”適用于離子以及分子組分。發(fā)明綜述業(yè)已發(fā)現(xiàn)，鉬酸根和過硫酸根離子在硝酸基去污點組合物中具有有利的協(xié)同效應(yīng)，可不用鉻酸鹽和鐵氰化物，同時在鋁、鎂及其包括含銅合金在內(nèi)的合金去污點中得到極好的結(jié)果。如果希望用來得到?jīng)]有氧化物膜的金屬表面的去氧化劑，可使用相同的組合物，它們可有效地進行去氧化而又不在去氧化表面形成污點或使表面污染，如果在清洗以前不使表面干燥的話。
因此，本發(fā)明的一個實施方案是一種含水組合物，它包括，優(yōu)選主要由，或更優(yōu)選由水和(A)硝酸；(B)鐵離子；
(C)過硫酸根(即S2O8-2)陰離子；以及(D)目酸根或縮聚鉬酸根陰離子；以及任選的但優(yōu)選的，(E)含氟陰離子；以及任選的但優(yōu)選的，(F)硫酸或硫酸根離子；以及任選的但優(yōu)選的，(G)表面活性劑，以及任選的，(H)染料或其他著色劑。
本發(fā)明的各種實施方案包括直接用于處理金屬的現(xiàn)場用組合物；濃縮物(通過用水稀釋可由濃縮物制備這樣的現(xiàn)場用組合物)；用本發(fā)明的組合物處理金屬的方法；以及包括一些附加步驟的擴充的方法，這些附加步驟本身是一些傳統(tǒng)步驟如清洗步驟以及特別優(yōu)選隨后的轉(zhuǎn)化涂覆和/或上漆或者一些類似將含有機粘合劑的保護涂料涂在根據(jù)本發(fā)明狹義的實施例處理后的金屬表面上的外涂敷方法。根據(jù)本發(fā)明的方法處理的表面的制品也在本發(fā)明的范圍內(nèi)。優(yōu)選實施方案的描述由于各種原因，優(yōu)選的是，上述定義的本發(fā)明的組合物應(yīng)基本上不含許多種在背景技術(shù)中用于類似目的的組合物中的成分。具體地說，各自獨立地對于以下每一優(yōu)選的最小的組分來說，當(dāng)這些組合物按本發(fā)明的方法直接與金屬接觸時，它們按給出的次序越來越優(yōu)選含有不大于1.0、0.35、0.10、0.08、0.04、0.02、0.01、0.001或0.0002％每一以下組分六價鉻、氧化硅、硅酸鹽(每一硅原子含小于4個氟原子)、鐵氰化物、亞鐵氰化物、硫脲、吡唑化合物、糖、葡糖酸及其鹽、甘油、α—葡庚酸及其鹽、磷酸肌醇酯及其酯和鹽。優(yōu)選亞鐵離子的含量不大于鐵離子含量的5％，更優(yōu)選不大于3％，最優(yōu)選的不大于1.1％。
此外，在包括用上述組合物的去污點/去氧化處理外還包括其他步驟的本發(fā)明的方法中，當(dāng)消除環(huán)境污染是首要的考慮時，優(yōu)選的是，這些其他的步驟都不包括表面與任何含有大于(按給出的次序越來越優(yōu)選)1.0、0.35、0.10、0.08、0.04、0.02、0.01、0.003、0.001或0.0002％六價鉻的組合物接觸。另一方面，這里所說的去污點/去氧化法優(yōu)選在鉻酸鹽轉(zhuǎn)化涂層處理或在含鉻酸鹽溶液中陽極氧化處理以前使用，其中后兩種處理之一是需要的。
在本發(fā)明要用的酸性含水組合物中，或直接用作現(xiàn)場用組合物或作為配制更稀的現(xiàn)場用組合物的有效成分源，如上所述的組分(A)的濃度優(yōu)選至少1克摩爾/升組合物(“M”)，更優(yōu)選至少2M，最優(yōu)選至少3.7M。獨立地，在現(xiàn)場用組合物中，組分(A)的濃度(按給出的次序越來越優(yōu)選)不大于6.8、5.9或5.4M。
對于組分(B)來說，在濃縮物中或在現(xiàn)場用組合物中的濃度(按給出的次序越來越優(yōu)選)優(yōu)選至少0.05、0.09、0.15或0.22M；而且獨立地在現(xiàn)場用組合物中的濃度優(yōu)選不大于0.70、0.62、0.45、0.37或0.30M。
對于組分(C)來說，在濃縮物中或在現(xiàn)場用組合物中的濃度(按給出的次序越來越優(yōu)選)至少0.020、0.042、0.51或0.060M；而且獨立地在現(xiàn)場用組合物中的濃度優(yōu)選不大于0.19、0.16、0.10、0.091或0.080M。
對于組分(D)來說，在濃縮物中或在現(xiàn)場用組合物中的濃度(按給出的次序越來越優(yōu)選)優(yōu)選至少為0.01、0.022、0.044或0.052M；而且獨立地在現(xiàn)場用組合物中的濃度優(yōu)選不大于0.5、0.24、0.17、0.12、0.075或0.066M。同樣獨立地，在現(xiàn)場用組合物中，組分(C)與組分(D)之比優(yōu)選在0.4∶1.0至1.5∶1.0范圍內(nèi)，更優(yōu)選0.6∶1.0至1.2∶1.0，最優(yōu)選0.80∶1.0至0.95∶1.0。
對于組分(E)來說，該組分優(yōu)選由可溶性氟化物或二氟化物離子提供，更優(yōu)選后者，二氟化物離子就其化學(xué)計量當(dāng)量當(dāng)作氟化物離子，因為可能存在氫氟酸和任何復(fù)雜的氟金屬酸或它們的離子；作為氟化物在現(xiàn)場用組合物中或在濃縮組合物中的濃度(按給出的次序越來越優(yōu)選)優(yōu)選至少為0.01、0.028、0.070、0.090或0.105M；而且獨立地在現(xiàn)場用組合物中的濃度優(yōu)選不大于0.28、0.19、0.14或0.119M(盡管不受任何理論的約束，但是認(rèn)為氟化物離子的主要作用是加速要處理表面的輕弱浸蝕，因此當(dāng)處理合金時，氟化物的應(yīng)用是特別需要的，例如處理2XXX和7XXX系列鋁合金，它們含有相當(dāng)大量的在電化學(xué)上比鋁更貴重的元素。當(dāng)處理這樣的合金時，在去污點操作過程中，2.5×104－10.2×104厘米/小時的浸蝕速率是優(yōu)選的。這樣的浸蝕速率通常用上述優(yōu)選量的氟化物離子就可達到。對于本領(lǐng)域認(rèn)為更容易去污點的其他合金來說，可減少氟化物離子用量，甚至可完全不用。
對于組分(F)來說，包括在組合物中存在的所有硫酸按化學(xué)計量當(dāng)量的硫酸根離子計在內(nèi)硫酸根在現(xiàn)場用組合物中或在濃縮組合物中的濃度(按給出的次序越來越優(yōu)選)優(yōu)選至少為0.02、0.09、0.20、0.42、0.51或0.69M；而且獨立地在現(xiàn)場用組合物中的濃度優(yōu)選不大于2.5、1.9、1.6、1.2、0.91或0.79M。
對于組分(G)來說，原則上幾乎任何一種對能有效降低表面張力和使存在在要處理表面上的任何一種有機污染物溶解的表面活性劑都可使用，但是許多種表面活性劑在高度氧化的酸性組合物中是不穩(wěn)定的。優(yōu)選的表面活性劑所起的另一有價值的作用是，防止在處理的表面與本發(fā)明的去污點/去氧化組合物脫離接觸和表面清洗之間這段時間可能產(chǎn)生的延遲從而使經(jīng)處理的表面出現(xiàn)干燥污點。雖然在本領(lǐng)域已經(jīng)知道，在去污點或去氧化后及時進行清洗有利于使處理表面污染的可能性降到最小，但當(dāng)大型物件如機翼部分去污時，2—3分鐘的延遲在實踐中是常有的事，并且如果去污點/去氧化組合物在表面上干燥，弄臟干燥區(qū)域幾乎是不可避免的。
已發(fā)現(xiàn)足夠穩(wěn)定的表面活性劑適于降低組合物的表面張力，而又不會使組合物過度的起泡，并在處理和清洗之間的轉(zhuǎn)移時間一直到至少3分鐘過程中使干燥區(qū)域不會形成，所以它是特別優(yōu)選的，它們是乙氧基化炔屬二醇。它們在現(xiàn)場用組合物中優(yōu)選的濃度在這一范圍(按給出的次序越來越優(yōu)選)0.01—10，0.1—5，0.25—4，0.55—3.0，0.75—2.5，0.85—2.0，0.85—1.5，0.90—1.5，0.85—1.2或0.90—1.10克/升組合物。最優(yōu)選的表面活性劑組分由等量的兩種乙氧基化四甲基癸炔二醇組成，一種的親水親脂平衡(“HLB”)在7—9范圍內(nèi)，另一種在11.5—14.5范圍內(nèi)。
組分(H)在組合物中不起任何技術(shù)作用，但它常常作為工人的安全保護措施，用明顯的顏色如紅色表明強酸的存在。染料或其他著色劑的用量足以使工人很容易識別，而不要大到使費用明顯增加或者對組合物的技術(shù)作用有不良影響的程度，這樣的用量對于本專業(yè)熟練的技術(shù)人員是很容易選擇的。
除了上面提到的其他特性外，本發(fā)明的現(xiàn)場用組合物優(yōu)選有(按給出的次序越來越優(yōu)選)至少15、18、20、21、22或23“點”游離酸，這樣的點被定義為等于滴定5.0毫升組合物樣品所需的1.0N強堿(如NaOH)的毫升數(shù)，樣品用至少約10毫升含有大量過量氟化鉀的去離子水稀釋，以防止在滴定過程中任何重金屬氫氧化物沉淀，用酚酞指示劑確定終點。獨立地，現(xiàn)場用組合物優(yōu)選有(按給出的次序越來越優(yōu)選)不大于35、32、29、27、26或25點游離酸。同樣獨立地，本發(fā)明的現(xiàn)場用組合物優(yōu)選有如下范圍的氧化還原(“redex”)勢(按給出的次序越來越優(yōu)選)800—1100、900—1050、950—1035、975—1029、985—1020、991—1011或996—1006毫伏(下文有時縮寫“mv””)(比標(biāo)準(zhǔn)電極更高的氧化勢)，氧化—還原勢通過比較浸在組合物中的鉑電極與浸在相同組合物中的標(biāo)準(zhǔn)甘汞電極的電勢的方法來測量。
可用任何傳統(tǒng)的方法將本發(fā)明的現(xiàn)場用組合物涂覆到要處理的金屬表面上，對于本專業(yè)熟練的技術(shù)人員來說，這些方法是很明顯的。浸沒法是最簡單的，并且也是最常用的。但是，噴涂、輥涂等也可采用。
接觸過程中的溫度和本發(fā)明組合物和要處理的金屬之間的接觸時間可在很寬的范圍內(nèi)變化，以達到所需的效果，效果常可在情洗(如果需要的話)后用目檢金屬表面的方法來測定。作為一般的準(zhǔn)則，溫度通常優(yōu)選在15—35℃范圍內(nèi)，更優(yōu)選17—30℃，最優(yōu)選20—26℃，而接觸時間一般優(yōu)選在0.5—30分鐘范圍內(nèi)，更優(yōu)選2—20分鐘，最優(yōu)選5—10分鐘。
在本發(fā)明的處理后，經(jīng)處理的表面在任何下一步處理前一般用水清洗。如上提到的，清洗優(yōu)選在經(jīng)處理的表面與去污點/去氧化組合物的脫離接觸后盡可能快完成，至少應(yīng)在去污點/去氧化組合物在表面的任何部分干燥以前應(yīng)進行清洗。清洗后，表面常常也要干燥。清洗、干燥和任何隨后的處理通常都是本專業(yè)所熟悉的。
本發(fā)明特別適用于處理鋁合金7150、7075、2024、2324和6061表面，也適用于在本發(fā)明的處理以前已經(jīng)經(jīng)過深度噴丸加工或機械加工，和/或化學(xué)研磨或用堿性組合物進行深度浸蝕的鋁或鎂合金表面。
如果希望得到能用水稀釋制得現(xiàn)場用組合物的濃縮物，該濃縮物優(yōu)選不含過硫酸鹽組分，已觀察到當(dāng)它與其他組分混合時，在長期貯存中是不穩(wěn)定的。同樣，硝酸和表面活性劑優(yōu)選分開提供。所以，本發(fā)明優(yōu)選的濃縮物只含有水和硫酸鹽、鐵離子、氟化物和鉬酸鹽組分。
在本發(fā)明組合物持續(xù)使用過程中，由于處理后的金屬物件的溶解，可能將新的組分引到組合物中，而且處理槽中的一些組分可能被反應(yīng)消耗掉。所以，正如其他類似的處理一樣，如果需要很長的操作時間，最好是連續(xù)取出一部分組合物，以便除去任何不希望的組分，而同時補充已消耗掉的所需組分。在某些情況下，只進行補充就可得到滿意結(jié)果，或者根本不需要處理組合物。
通過研究以下非限定操作實施例有可能進一步理解本發(fā)明的實施。
實施例現(xiàn)場用組合物優(yōu)選的現(xiàn)場用組合物含有(A)4.04M NHO3(由42波美度工業(yè)濃硝酸提供)；(B)0.13M Fe2(SO4)3(由商業(yè)上購得的50％水溶液提供)；(C)0.0701M(NH4)2S2O8(由工業(yè)固體鹽提供)；(D)0.059M(NH4)2Mo2O7(由工業(yè)固體鹽提供)；(E)0.056M NH4HF2(由工業(yè)固體鹽提供)；(F)0.354M H2SO4(由工業(yè)濃硫酸提供)；(G)0.51克/升SURFYNOLTM465和440表面活性劑，由AirProducts公司商購，供應(yīng)商稱為乙氧基化四甲基癸炔二醇，前者HLB值為13.0，后者HLB值為8.0；(H)0.18克/升NYLOSANTMRHODAMINETME—B90紅色染料。(注意鐵離子在該組合物中的總濃度為0.26M，因為在每一分子硫酸鐵鹽中有兩個鐵離子；氟化物離子的總濃度為0.112M，因為在每分子二氟化銨中有兩個氟原子；硫酸根離子的總濃度為0.74M，包括0.39M由硫酸鐵提供，而0.35M由硫酸提供。)該組合物的氧化—還原勢為100毫伏，而游離酸為24點。
本發(fā)明組合物的應(yīng)用7150型鋁板，每一板至少一個孔，以便更苛刻的評價弄臟和/或成污點傾向，這一傾向通常在實施條件下處理部分的凹處和孔處更明顯，通過在29.4—32.2℃下，在堿性浸蝕溶液中浸沒7—10分鐘(“min”)，將鋁板進行預(yù)浸蝕，得到可重現(xiàn)的氧化和有污點的表面，堿性浸蝕溶液由水和120—150克/升氫氧化鈉、11—26克/升硫化鈉、30—60克/升三乙醇胺和18—50克/升溶解的鋁組成。
經(jīng)浸蝕的板從浸蝕溶液中取出后，在室內(nèi)空氣中靜置2—3分鐘，接著在室溫下用去離子水清洗兩次，每次2—3分鐘，然后在室溫下在上述去污點組合物浸沒10分鐘，用空氣攪拌混合物，在室內(nèi)空氣中靜置2—3分鐘，然后用去離子水清洗兩次，第一次2—3分鐘，第二次1分鐘。一些板然后進行傳統(tǒng)的陽極氧化，有令人滿意的結(jié)果。另一些板進行干燥并用肉眼檢查。得到明亮光滑無污點的表面。
濃縮部分組合物優(yōu)選的濃縮部分組合物由150份硫酸、50份鉬酸銨、250份硫酸鐵、16份二氟化銨和水組成，1000份濃縮物中余下的部分是水。
權(quán)利要求
1.一種主要由水和以下成分組成的液體去污點/去氧化組合物(A)硝酸；(B)鐵離子；(C)過硫酸根陰離子；以及(D)鉬酸根或縮聚鉬酸根陰離子；以及任選的但優(yōu)選的，(E)含氟陰離子；以及任選的但優(yōu)選的，(F)硫酸或硫酸根離子；以及任選的但優(yōu)選的，(G)表面活性劑；以及任選的，(H)染料或其他著色劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的去污點/去氧化組合物，其中組分(A)的濃度在約1至約6.8M范圍內(nèi)，組分(B)的濃度在約0.09至約0.74M范圍內(nèi)，組分(C)的濃度在約0.020至約0.19M范圍內(nèi)，組分(D)的濃度在約0.01至約0.17M范圍內(nèi)，氟離子的濃度在約0.01至約0.28M范圍內(nèi)以及硫酸根離子的濃度在約0.02至約2.5M范圍內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的去污點/去氧化組合物，其中組分(A)的濃度在約2.0至約5.9M范圍內(nèi)，組分(B)的濃度在約0.09至約0.59M范圍內(nèi)，組分(C)的濃度在約0.020至約0.16M范圍內(nèi)，組分(D)的濃度在約0.022至約0.12M范圍內(nèi)，氟化物的濃度在約0.028至約0.28M范圍內(nèi)，硫酸根離子的濃度在約0.09至約1.9M范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的去污點/去氧化組合物，其中組分(B)的濃度在約0.22至約0.45M范圍內(nèi)，組分(C)的濃度在約0.042至約0.10M范圍內(nèi)，組分(D)的濃度在約0.044至約0.075M范圍內(nèi)，組分(C)與組分(D)的濃度比在約0.46∶1.0至約1.5∶1.0范圍內(nèi)，氟化物的濃度在約0.070至約0.19M范圍內(nèi)，硫酸根離子的濃度在約0.42至約1.2M范圍內(nèi)以及游離酸的濃度在約15至約40點范圍內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的去污點/去氧化組合物，其中組分(A)的濃度在約3.7至約5.4M范圍內(nèi)，組分(B)的濃度在約0.22至約0.37M范圍內(nèi)，組分(C)的濃度在約0.051至約0.091M范圍內(nèi)，組分(D)的濃度在約0.052至約0.075M范圍內(nèi)，組分(C)與組分(D)的濃度比在約0.6∶1.0至約1.2∶1.0范圍內(nèi)，氟離子的濃度在約0.090至約0.14M范圍內(nèi)，硫酸根離子的濃度在約0.51至約0.91M范圍內(nèi)，游離酸的濃度在約20至約35點范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的去污點/去氧化組合物，其中組分(B)的濃度在約0.22至約0.30M范圍內(nèi)，組分(C)的濃度在約0.060至約0.080M范圍內(nèi)，組分(D)的濃度在約0.052至約0.066M范圍內(nèi)，組分(C)與組分(D)的濃度比在約0.80∶1.0至約0.95∶1.0范圍內(nèi)，氟離子的濃度在約0.105至約0.119M范圍內(nèi)，硫酸根離子的濃度在約0.69至約0.79M范圍內(nèi)，游離酸的濃度在約22至約25點范圍內(nèi)。
7.一種用以下步驟制得光亮表面的方法，有污點的或氧化的金屬表面在約20至約26℃范圍內(nèi)與權(quán)利要求6的組合物接觸約5至10分鐘，隨后使該表面脫離與所述的組合物的接觸，并用水清洗除去的表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的方法，其中金屬表面是7150、7075、2324、2024或6061型鋁合金表面。
9.一種用以下步驟制得的光亮表面的方法，有污點的或氧化的金屬表面在約17至約30℃范圍內(nèi)與權(quán)利要求5的組合物接觸約2至約20分鐘，隨后使該表面脫離與所述的組合物的接觸，并用水清洗除去的表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的方法，其中金屬表面是鋁或鋁合金表面。
11.一種用以下步驟制得光亮表面的方法，有污點的或氧化的金屬表面在約15至約35℃范圍內(nèi)與權(quán)利要求4的組合物接觸約0.5至約30分鐘，隨后使該表面脫離與所述的組合物的接觸，并用水清洗除去的表面。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的方法，其中金屬表面是鋁、鎂或鋁合金或鎂的合金的表面。
13.一種用以下步驟制得的光亮表面的方法，有污點的或氧化的金屬表面在約15至約35℃范圍內(nèi)與權(quán)利要求3的組合物接觸約0.5至約30分鐘，隨后使該表面脫離與所述的組合物的接觸，并用水清洗除去的表面。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中金屬表面是鋁、鎂、或鋁合金或合金的表面。
15.一種用以下步驟制得光亮表面的方法，有污點的或氧化的金屬表面與權(quán)利要求2的組合物接觸，隨后使該表面脫離與所述的組合物的接觸，并用水清洗除去的表面。
16.根據(jù)權(quán)利要求15的方法，其中金屬表面是鋁、鎂、或鋁合金或鎂合金的表面。
17.一種用以下步驟制得的光亮表面的方法，有污點的或氧化的金屬表面與權(quán)利要求1的組合物接觸，隨后使該表面脫離與所述組合物的接觸，并用水清洗除去的表面。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的方法，其中金屬表面是鋁、鎂、或鋁合金或鎂合金的表面。
19.一種用來制備權(quán)利要求1的去污點/去氧化組合物的濃縮組合物，所述的組合物主要由水和(A)至少0.09M鐵離子；(B)至少0.01M(總的濃度)鉬酸根和縮聚鉬酸根陰離子；(E)至少0.42M氟化物；以及(F)至少0.20M硫酸根離子。
20.根據(jù)權(quán)利要求19的濃縮組合物，主要由約150份硫酸、約50份鉬酸銨、約250份硫酸鐵、約16份二氟化銨和水組成，1000份濃縮物的其余部分是水。
全文摘要
一種用于鋁和鎂合金的不含鉻和鐵氰化物的含水去氧化劑/去污點劑，它含有硝酸、鐵離子、過硫酸鹽和鉬酸鹽，以及優(yōu)選還含有硫酸鹽、氟化物和乙氧化炔屬二烯表面活性劑。
文檔編號C09K13/00GK1129018SQ94193035
公開日1996年8月14日 申請日期1994年6月30日 優(yōu)先權(quán)日1993年7月9日
發(fā)明者L·R·卡爾松, P·M·約翰遜 申請人:亨凱爾公司