涂布裝置以及涂布方法
【專利摘要】一種涂布裝置，用以將一涂液涂布于一基材上，該涂布裝置包括：一涂布頭，具有一涂液出口，該涂布頭與該基材適于沿一第一軸向相對移動，并能夠通過該涂液出口將該涂液涂布于該基材；一調(diào)節(jié)件，連接于該涂布頭，該調(diào)節(jié)件包含一設(shè)置于該涂液出口處的活動墊片，該活動墊片適于沿一第二軸向移動，調(diào)節(jié)該涂液出口的開口率；以及一驅(qū)動組件，與該調(diào)節(jié)件相接，用以控制該調(diào)節(jié)件沿該第二軸向進(jìn)行移動。另外，一種涂布方法在此提出。
【專利說明】涂布裝置以及涂布方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明有關(guān)于一種涂布裝置，特別是指一種可進(jìn)行圖形化涂布的涂布裝置以及涂布方法。

【背景技術(shù)】
[0002]溶劑型涂布利用液體具有粘度與流動的慣性力涂于一個固體載體表面上以產(chǎn)生一個均勻薄膜的精密技術(shù)，廣泛的應(yīng)用在半導(dǎo)體制程，面板加工技術(shù)與光學(xué)膜制作技術(shù)上。目前涂布技術(shù)例如有身計量式(self-metering)的含浸式涂布(dip coating)、滾筒式涂布(roller coating)、刮刀式涂布(blade coating)、噴涂式涂布(inkjet coating)及點膠式涂布(dispensing)。當(dāng)光學(xué)涂液或是功能性涂液涂布在基材上之后一般需要通過后制程將涂布層圖形化，例如先將光阻劑涂布在基材上烘焙成膜，再利用曝光顯影技術(shù)將薄膜圖形化。光學(xué)膠涂布亦然，先將可撥膠印刷在載板上，在光學(xué)膠涂布初固化后，再將可撥膠移除，得到圖形化涂布層。后制程的增加不只是提高的生產(chǎn)成本外，也容易因外來污染物影響涂布層外觀。
[0003]傳統(tǒng)的狹縫式涂布裝置，所涂布的圖形圖案是具有一固定寬度的形狀(例如矩形形狀)，或是具有規(guī)則形狀。但隨著設(shè)計的不同需求，有些產(chǎn)品所需的圖形圖案是需要有變化性的(例如不規(guī)則形狀)，因此傳統(tǒng)設(shè)備不能滿足這樣的需求。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為解決現(xiàn)有技術(shù)的問題，本發(fā)明主要目的在于提供一種通過活動墊片的調(diào)整而控制涂液在基材上的圖形，以符合二維圖形化涂布要求的涂布裝置。
[0005]本發(fā)明實施例提供一種涂布裝置，用以將一涂液涂布于一基材上，以形成一涂布層，該涂布裝置包括:一涂布頭，具有一涂液出口，該涂布頭與該基材適于沿一第一軸向相對移動，并通過該涂液出口用以將該涂液涂布于該基材；一調(diào)節(jié)件，連接于該涂布頭，該調(diào)節(jié)件包含一設(shè)置于該涂液出口處的活動墊片，該活動墊片適于沿一第二軸向移動，以調(diào)節(jié)該涂液出口的開口率；以及一驅(qū)動組件，與該調(diào)節(jié)件相接，用以控制該調(diào)節(jié)件沿該第二軸向移動。
[0006]本發(fā)明實施例還提供一種涂布方法，包括下列步驟。首先，準(zhǔn)備一涂布裝置，該涂布裝置包含:一涂布頭，具有一涂液出口 ；一調(diào)節(jié)件，連接于該涂布頭，該調(diào)節(jié)件包含一設(shè)置于該涂液出口處的活動墊片；以及一驅(qū)動組件，連接于該調(diào)節(jié)件；將一基材設(shè)置于該涂布頭下方；以及使該涂布頭與該基材沿一第一軸向進(jìn)行相對移動，且同時通過該驅(qū)動組件驅(qū)動該調(diào)節(jié)件，使該活動墊片沿一第二軸向進(jìn)行移動，調(diào)整該涂液出口的開口率。
[0007]本發(fā)明的有益效果在于，實施例所提供的涂布裝置以及涂布方法，通過在涂布頭移動的過程中，活動墊片與涂布頭的相對位置可改變，以此，涂布頭在移動的過程中經(jīng)由調(diào)整涂液出口的開口率，而使涂布的圖案具有不規(guī)則形狀。
[0008]為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明為達(dá)成既定目的所采取的技術(shù)、方法及功效，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說明、圖式，相信本發(fā)明的目的、特征與特點，當(dāng)可由此得以深入且具體的了解，然而所附圖式與附件僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制者。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1A至圖1C是本發(fā)明一實施例的涂布裝置于使用狀態(tài)中的立體示意圖。
[0010]圖2是本發(fā)明一實施例的涂布裝置的局部立體示意圖。
[0011]圖3是圖2的涂布裝置的局部爆炸示意圖。
[0012]圖4A至圖4B是圖2的涂布裝置于使用狀態(tài)中母模的局部剖面示意圖。
[0013]圖5為本發(fā)明一實施例涂布裝置沿第三軸向的上視圖。
[0014]圖6A是另一實施例母模的局部剖面示意圖。
[0015]圖6B為另一實施例涂布裝置沿第三軸向的上視圖。
[0016]圖7A是又一實施例母模的局部剖面不意圖。
[0017]圖7B為又一實施例涂布裝置沿第三軸向的上視圖。
[0018]圖8是本發(fā)明一實施例的涂布裝置的局部側(cè)視示意圖。
[0019]圖9是本發(fā)明一實施例的涂布方法的步驟流程圖。
[0020]【主要元件符號說明】
[0021]涂布裝置I
[0022]涂布頭110
[0023]公模111
[0024]母模112
[0025]第一凹槽1011
[0026]第二凹槽1012
[0027]涂液出口101
[0028]涂液流道102
[0029]涂液入口103
[0030]組裝面P1、P2
[0031]容置空間Ml、M2
[0032]涂液出口寬度dl、d2
[0033]調(diào)節(jié)件120
[0034]活動墊片121
[0035]外接端122
[0036]感應(yīng)凸輪123
[0037]連接架124
[0038]凸桿1241
[0039]彈性件1242
[0040]驅(qū)動組件130
[0041]圖形模塊131
[0042]圖形模塊的側(cè)邊L
[0043]承載平臺140
[0044]固定墊片150
[0045]涂液存儲器160
[0046]涂液壓力控制組件170
[0047]控制閥171
[0048]涂液輸送組件180
[0049]輸送閥181
[0050]輸送管川2
[0051]基材2
[0052]涂布層3
[0053]步驟SI ?S3
[0054]X第一軸向
[0055]Y第二軸向
[0056]Z第三軸向

【具體實施方式】
[0057]為便于了解本發(fā)明涂布裝置的涂布方式，請參考圖1A至圖1C，圖1A至圖1C繪示了本發(fā)明一實施例的涂布裝置于使用狀態(tài)中的立體示意圖。
[0058]如圖1A所示，涂布裝置I包含有三個主要部件:涂布頭110、調(diào)節(jié)件120、驅(qū)動組件130，調(diào)節(jié)件120連接于涂布頭110，驅(qū)動組件130連接于調(diào)節(jié)件120，各組件的具體構(gòu)造后文將詳述。
[0059]在本實施例中，涂布裝置I更包含承載平臺140，用以承載被涂布的基材2。待涂布的基材2可通過真空吸附、靜電吸附，或機械裝置等方式固定在承載平臺140上。基材2可為卷材等載體，例如為玻璃基材、或塑膠基材。同時，基材2亦可為復(fù)合疊層的載體，例如已形成有光學(xué)涂層的玻璃基材。
[0060]進(jìn)一步參考圖1B和圖1C，在涂布過程中，涂布頭110具有涂液出口(后文詳述)，且涂布頭110能夠與基材2沿一第一軸向X進(jìn)行相對移動，并能夠通過涂液出口將涂液涂布于基材2。于本實施例，涂布過程中，承載平臺140是處于靜置狀態(tài)，而涂布頭110進(jìn)行移動。但不難理解，在另一實施例中，亦可使涂布頭110處于靜置狀態(tài)，而承載平臺140進(jìn)行移動。在又一實施例中，亦可使涂布頭110和承載平臺140都進(jìn)行移動。
[0061]在涂布頭110與基材2沿第一軸向X進(jìn)行相對移動時，在第二軸向Y上，驅(qū)動組件130可驅(qū)動調(diào)節(jié)件120，進(jìn)而調(diào)整經(jīng)由涂布頭110所涂布的涂液的尺寸，形成如圖1C所示的涂布層3。
[0062]以下將詳述本發(fā)明涂布裝置I的構(gòu)造及作動原理。
[0063]請參考圖2至圖5，圖2是本發(fā)明一實施例的涂布裝置的局部立體示意圖，而圖3是圖2的涂布裝置I的局部爆炸示意圖，圖4A和圖4B為涂布裝置于使用狀態(tài)中母模的局部剖面示意圖，圖5為涂布裝置沿第三軸向Z的上視圖。
[0064]如圖2和圖3所示，涂布頭110包含公模111和母模112，公模111與母模112可對應(yīng)結(jié)合。公模111和母模112分別具有一組裝面Pl和一組裝面P2。公模111的組裝面Pl以及母模112的組裝面P2兩者形狀、大小可大致相同。在本實施例中，公模111的組裝面Pl上開設(shè)有第一凹槽1011，而母模112的組裝面P2開設(shè)有第二凹槽1012。第一凹槽1011以及第二凹槽1012兩者的延伸方向大致沿第二軸向Y，且形狀、大小也可大致相同，如皆為長條形狀。第一凹槽1011以及第二凹槽1012的設(shè)置位置相對應(yīng)，例如第一凹槽1011以及第二凹槽1012分別鄰接于公模111組裝面Pl以及母模112組裝面P2的底邊。也即，公模111的底端可暴露第一凹槽1011，且母模112的底端可暴露第二凹槽1012。如圖5所示，涂布頭110具有涂液出口 101，其為第一凹槽1011與第二凹槽1012所圍設(shè)的空間所構(gòu)成。在本實施例中，公模111和母模112還分別設(shè)置有容置空間Ml和M2。
[0065]母模112的第二凹槽1012的位置設(shè)置有多個涂液入口 103，其用以將外部涂液導(dǎo)入到涂液流道102(后文將詳述)。在另一實施例中，涂液入口 103亦可設(shè)置于公模111上。涂液流道102位于涂液出口 101的上方，涂液流道102的寬度可略大于、略小于或等于狹縫狀涂液出口 101的寬度。涂布裝置I還包括固定墊片150，配置于公模111和母模112之間，更具體地，在本實施例中，固定墊片150亦配置于第一凹槽1011和第二凹槽1012所圍設(shè)的空間，且活動墊片121與固定墊片150沿第三軸向Z進(jìn)行排布。于本實施例中，固定墊片150能與公模111、母模112配合，例如可通過螺絲鎖縛的方式進(jìn)行配合。
[0066]調(diào)節(jié)件120連接于涂布頭110，且包含設(shè)置于涂液出口 101處的活動墊片121、活動墊片121的外接端122、感應(yīng)凸輪123、連接架124，其中，連接架124包含凸桿1241和彈性件1242，感應(yīng)凸輪123通過連接架124以及外接端122連接于活動墊片121。
[0067]當(dāng)公模111和母模112對應(yīng)接合之后，活動墊片121將配置于公模111與母模112之間。于本實施例中，活動墊片121將配置于第一凹槽1011和第二凹槽1012所圍設(shè)的空間，而彈性件1242和凸桿1241將配置于容置空間Ml和M2。更具體而言，活動墊片121設(shè)置在涂液出口 101的一側(cè)(或兩側(cè))，且活動墊片121設(shè)置在涂液出口 101的短邊端，且活動墊片121的高度可略大于、略小于或略等于狹縫狀涂液出口 101的高度。彈性件1242位于容置空間Ml和M2的一端可抵住于涂布頭110，而彈性件1242的另一端可抵住凸桿1241，彈性件1242可被凸桿1241與涂布頭110壓縮。
[0068]驅(qū)動組件130連接于調(diào)節(jié)件120，用以控制調(diào)節(jié)件120的活動墊片121沿第二軸向Y進(jìn)行移動。在本實施例中，驅(qū)動組件130為圖形模塊131，圖形模塊131具有一側(cè)邊L，側(cè)邊L對應(yīng)于涂布層3的形狀，側(cè)邊L沿第一軸向X進(jìn)行延展，且感應(yīng)凸輪123可沿側(cè)邊L進(jìn)行作動。
[0069]復(fù)結(jié)合圖1A至圖1C，不難理解，在涂布頭110與基材2沿一第一軸向X相對移動時，感應(yīng)凸輪123可沿圖形模塊131的一側(cè)邊L進(jìn)行滾動，并憑借彈性件1242和凸桿1241的連動作用，使得活動墊片121沿第二軸向Y的進(jìn)行移動，調(diào)整涂液出口 101的開口率(如圖4A和圖4B，涂液出口 101的開口率可為dl和d2等不同寬度)。
[0070]圖形模塊131為可拆卸的模塊，以根據(jù)不同產(chǎn)品需要作調(diào)整。圖形模塊131可設(shè)置在涂布頭110的至少一側(cè)(于本實施例中，涂布頭110的兩側(cè)都有設(shè)置圖形模塊131)，且圖形模塊131的側(cè)邊L可具有不同的特定形狀，圖形模塊122的尺寸也可根據(jù)涂布的圖形圖案的長度或?qū)挾榷O(shè)計。
[0071]值得一提的是，在本發(fā)明一實施例中，驅(qū)動組件130可以是其它控制系統(tǒng)，其可電腦化連動控制調(diào)節(jié)件120的移動，而調(diào)整狹縫狀涂液出口 101的開口率。詳細(xì)而言，驅(qū)動組件130例如為電腦數(shù)值控制系統(tǒng)(CNC, Computer Numerical Control),而不使用圖形模塊131?；顒訅|片121的外接端122與所述控制系統(tǒng)連接，所述控制系統(tǒng)可通過程序設(shè)計調(diào)整活動墊片121的移動。
[0072]以上各組件的相對位置亦可視需要作多種變型，以下將說明本發(fā)明涂布裝置的其它實施例。需先敘明，以下各實施例各組件未作說明的其它特性可與前述實施例相同，后續(xù)不再贅述。
[0073]請同時參考圖3、圖6A和圖6B，圖6A是另一實施例母模的局部剖面示意圖，圖6B為另一實施例涂布裝置沿第三軸向Z的上視圖。比照圖6A與圖4A，可知母模112的第二凹槽1012的區(qū)域可依需要進(jìn)行調(diào)整，以本實施例而言，如為滿足節(jié)省固定墊片150的目的。比照圖6B與圖5，可知公模111的上亦可不開設(shè)第一凹槽1011。
[0074]請同時參考圖3、圖7A和圖7B，圖7A是又一實施例母模的局部剖面示意圖，圖7B為又一實施例涂布裝置沿第三軸向Z的上視圖。比照圖7A與圖4A、圖7B與圖5，可知母模112的形狀可依需要作調(diào)整，且母模112的第二凹槽1012可僅配置出涂液流道102。同時，公模111亦可不開設(shè)第一凹槽1011。于此實施例中，活動墊片121、固定墊片150沿第三軸向Z進(jìn)行配置排布，且配置于公模111和母模112之間。固定墊片150配置于公模111與母模112之間，能使公模111與母模112之間具有間隙，也就是說，公模111與母模112對應(yīng)結(jié)合，公模111組裝面Pl以及母模112組裝面P2之間具有特定距離，以此形成狹縫狀涂液出口 101。于本實施例中，公模111、母模112以及固定墊片150分別包含有至少一個螺絲口，公模111、母模112以及固定墊片150上的螺絲口的位置、尺寸相對應(yīng)，螺絲等固定件可穿設(shè)于公模111、母模112以及固定墊片150上相對應(yīng)的螺絲口，以固定公模111、母模112與固定墊片150。也就是說，公模111和母模112可通過穿設(shè)于螺絲口的螺絲鎖縛固定墊片150。螺絲口均勻分布，以確保固定墊片150各部分受力均勻。不難理解，于其它實施例中，固定墊片150亦可與公模111或母模112 —體成形。
[0075]在以上各實施例中，公模111、母模112、固定墊片150以及活動墊片121的材料例如可為不銹鋼等材料。
[0076]結(jié)合以上各實施例，可知涂布頭110的各組件與調(diào)節(jié)件120的各組件的組合關(guān)系(如公模、母模的凹槽和容置空間的位置、形狀，以及調(diào)節(jié)件相對公模、母模的位置)可視需要作多種調(diào)整。
[0077]以下將就外部涂液如何憑借涂液入口 103進(jìn)入涂液流道102進(jìn)行詳述。
[0078]請同時參考圖7A和圖8，圖8是本發(fā)明一實施例的涂布裝置的局部側(cè)視示意圖。在本發(fā)明一實施例中，涂布裝置I還可包括涂液存儲器160以及涂液輸送組件180。涂液存儲器160連通于涂布頭110，例如通過導(dǎo)管連通于母模112的涂液入口 103。涂液輸送組件180用以將外部涂液輸送至涂液存儲器160中。涂液輸送組件180例如為泵，且涂液輸送組件180可具有輸送閥181以及輸送管182。在本實施例中，涂布裝置I還可包括涂液壓力控制組件170，涂液壓力控制組件170用以控制涂液存儲器160輸送至涂布頭110的涂液的輸送壓力。涂液壓力控制組件170例如為馬達(dá)，且涂液壓力控制組件170可具有控制閥171。
[0079]需說明的是，為利于展示各關(guān)鍵組件的相對位置，本發(fā)明的圖示中略去部分非關(guān)鍵的組件，以圖1A為例，于圖示中，驅(qū)動組件130似為懸空設(shè)置，便本領(lǐng)域人員應(yīng)不難理解，其僅為示例使用，于實際產(chǎn)品中，驅(qū)動組件130例如憑借一外接件進(jìn)行固定。類似組件的位置都可依此理解，故不再一一贅述。
[0080]在本發(fā)明一實施例中，涂布裝置I還可包括控制單元，舉例而言，控制單元可包含神經(jīng)網(wǎng)路系統(tǒng)(Neural network system)或是可編程電腦控制系統(tǒng)(Programmablecontrol system)?？删幊屉娔X控制系統(tǒng)用以程式化地控制涂布頭110與承載平臺140的相對移動速度與移動位置，精準(zhǔn)計算涂液輸送流量與速率，與活動墊片121的移動位置與速度。涂布控制的基礎(chǔ)理論可以從簡化白努利方程式(Bernoulli’s equat1n)得到一簡易方程式:
[0081]P IVlAl=P 2V2A2,
[0082]P:涂液密度，V:流速，A:涂液出口投影面積。
[0083]換句話說，當(dāng)涂液密度固定時，活動墊片121縮小涂液出口投影面積，涂布頭110與承載平臺140的相對移動速度就需要降低，或者，可降低涂布頭110涂液出口壓力?？刂茊卧梢罁?jù)涂布圖形而控制涂液流率，并可確定涂布程序，以此，涂布裝置I可用以得到一個具有異型圖形(Geometry-shaped pattern)涂布圖案。另外，控制單元還可延伸到抽吸涂布頭110里的涂液，以穩(wěn)定控制涂液吐出量以達(dá)到穩(wěn)定的涂層厚度。
[0084]上述實施例可歸納出本發(fā)明一實施例的涂布方法，請參照圖9，圖9是本發(fā)明一實施例的涂布方法的步驟流程圖。首先，提供一涂布裝置1，涂布裝置I包含:一涂布頭110，具有一涂液出口 101 調(diào)節(jié)件120，連接于涂布頭110，調(diào)節(jié)件120包含一設(shè)置于涂液出口101處的活動墊片121 ;以及一驅(qū)動組件130，連接于調(diào)節(jié)件120 (步驟SI)。涂布裝置I各組件的相對關(guān)系可參考前面的描述。其次，將一基材2設(shè)置于涂布頭110下方(步驟S2)。最后，使涂布頭110與基材2沿一第一軸向X進(jìn)行相對移動，且同時通過驅(qū)動組件130驅(qū)動調(diào)節(jié)件120，使活動墊片121沿一第二軸向Y進(jìn)行移動，進(jìn)而調(diào)整涂液出口 101的開口率(步驟S3)。
[0085]本發(fā)明實施例所提供的涂布裝置I，可用以將涂液涂布于基材2上。所述涂布裝置I可通過調(diào)節(jié)件120的活動墊片121的調(diào)整而控制涂液在基材2上的圖形，以符合二維異型涂布的要求，避免于后制程導(dǎo)入時所伴隨的外觀缺陷的發(fā)生。具體而言，在涂布頭110移動的過程中，活動墊片121會調(diào)整其與母模112的相對位置，以此，涂布頭110在移動的過程中會經(jīng)由調(diào)整狹縫狀涂液出口 101的開口率而使涂布的圖形圖案具有不規(guī)則形狀。所述涂布裝置I可用以得到具有均勻膜厚以及二維異型特征圖形的涂布膜層。所述涂布裝置I可用以得到特定涂布形狀與均勻的成膜厚度。
[0086]所述涂布裝置I可用以得到特定涂布形狀與薄形化的成膜厚度，同時保持成膜的致密性與物理性質(zhì)化學(xué)性質(zhì)可靠度。所述涂布裝置I在涂布的過程可避免涂液回收的問題。所述狹縫式涂布裝置I可用以得到較平坦的成膜，成膜具有較小表面粗糙度，在應(yīng)用于光學(xué)膜制程時，可避免成膜表面粗糙度影響光學(xué)效果，減少漸層與彩虹紋等缺陷的產(chǎn)生。此夕卜，所述涂布裝置I對涂液的選擇性較低，適合具有不同粘度的涂液，或適合具有不同含量固成份的涂液。再者，所述涂布裝置I于用以可圖形化成膜的同時，可提升基材2使用率，并可快速成膜。
[0087]以上所述僅為本發(fā)明的實施例，其并非用以限定本發(fā)明的專利保護范圍。任何熟習(xí)相像技藝者，在不脫離本發(fā)明的精神與范圍內(nèi)，所作的更動及潤飾的等效替換，仍為本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種涂布裝置，其特征在于，該涂布裝置用以將一涂液涂布于一基材上，以形成一涂布層，該涂布裝置包括: 一涂布頭，具有一涂液出口，該涂布頭與該基材適于沿一第一軸向相對移動，并通過該涂液出口用以將該涂液涂布于該基材； 一調(diào)節(jié)件，連接于該涂布頭，該調(diào)節(jié)件包含一設(shè)置于該涂液出口處的活動墊片，該活動墊片適于沿一第二軸向移動，以調(diào)節(jié)該涂液出口的開口率；以及 一驅(qū)動組件，與該調(diào)節(jié)件相接，用以控制該調(diào)節(jié)件沿該第二軸向移動。
2.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，更包括一承載平臺，用以承載被涂布的該基材。
3.如權(quán)利要求2所述的涂布裝置，其特征在于，該基材通過真空吸附、靜電吸附，或機械裝置的方式固定在該承載平臺上。
4.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，該涂布頭包括一公模以及一母模，該公模與該母模對應(yīng)結(jié)合，該活動墊片配置于該公模與該母模之間。
5.如權(quán)利要求4所述的涂布裝置，其特征在于，該涂布裝置還包括一固定墊片，配置于該公模與該母模之間，且該活動墊片與該固定墊片沿一第三軸向進(jìn)行排布。
6.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，在該涂布頭與該基材沿該第一軸向進(jìn)行相對移動時，該活動墊片沿該第二軸向移動，調(diào)整該涂液出口的開口率。
7.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，該調(diào)節(jié)件還包括一感應(yīng)凸輪，該感應(yīng)凸輪連接于該活動墊片。
8.如權(quán)利要求7所述的涂布裝置，其特征在于，該驅(qū)動組件為一圖形模塊，該圖形模塊具有一側(cè)邊，該側(cè)邊對應(yīng)于該涂布層的形狀，該感應(yīng)凸輪可沿該側(cè)邊作動。
9.如權(quán)利要求8所述的涂布裝置，其特征在于，該圖形模塊設(shè)置在該涂布頭的至少一側(cè)。
10.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，該涂布裝置更包括一涂液存儲器以及一涂液輸送組件，該涂液存儲器連通于該涂布頭，而該涂液輸送組件用以將外部的該涂液輸送至該涂液存儲器中。
11.如權(quán)利要求10所述的涂布裝置，其特征在于，該涂液輸送組件為泵。
12.如權(quán)利要求10所述的涂布裝置，其特征在于，更包括一涂液壓力控制組件，用以控制該涂液存儲器輸送至該涂布頭的該涂液的輸送壓力。
13.如權(quán)利要求12所述的涂布裝置，其特征在于，該涂液壓力控制組件為馬達(dá)。
14.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，該涂布裝置更包括一控制單元，該控制單元包含神經(jīng)網(wǎng)路系統(tǒng)或可編程電腦控制系統(tǒng)。
15.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，該驅(qū)動組件為電腦數(shù)值控制系統(tǒng)，其電腦化連動控制該調(diào)節(jié)件的移動。
16.—種涂布方法，其特征在于，包括: 提供一涂布裝置，該涂布裝置包含: 一涂布頭，具有一涂液出口 ； 一調(diào)節(jié)件，連接于該涂布頭，該調(diào)節(jié)件包含一設(shè)置于該涂液出口處的活動墊片；以及 一驅(qū)動組件，連接于該調(diào)節(jié)件； 將一基材設(shè)置于該涂布頭下方；以及 使該涂布頭與該基材沿一第一軸向進(jìn)行相對移動，且同時通過該驅(qū)動組件驅(qū)動該調(diào)節(jié)件，使該活動墊片沿一第二軸向進(jìn)行移動，以調(diào)節(jié)該涂液出口的開口率。
【文檔編號】B05C5/00GK104437975SQ201310433419
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2013年9月22日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月22日
【發(fā)明者】黃俊堯, 陳英哲, 洪博斌, 江益增 申請人:宸美（廈門）光電有限公司