專利名稱：涂敷裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將從涂敷頭的噴嘴噴出的溶液的液滴涂敷到基板上的涂敷裝置。
背景技術(shù)：
通常，在液晶顯示裝置、半導體裝置的制造工序中，有用于在玻璃基板、半導體晶片等的基板上形成電路圖案的成膜過程。在該成膜過程中，在基板的板面上形成例如取向膜、抗蝕劑等功能性薄膜。在基板上形成功能性薄膜的情況下，有采用噴射(inkjet)方式的涂敷裝置的情況，該噴射方式是將形成該功能性薄膜的溶液從噴嘴噴出并涂敷到基板上的方式。關(guān)于該涂敷裝置，如專利文獻1的記載，具有輸送基板的輸送臺，在該輸送臺的上方，沿著與基板輸送方向正交的方向排列設(shè)置有多個穿設(shè)有上述噴嘴的涂敷頭。溶液從經(jīng)由供給管與各涂敷頭連接的溶液罐供給到各涂敷頭。由此，從多個噴嘴以規(guī)定量、規(guī)定間距向所輸送的基板的上表面噴出溶液的液滴。在這樣的現(xiàn)有技術(shù)中，為防止基板的不良品的發(fā)生，通過照相機對涂敷于基板的溶液的液滴進行拍攝，通過圖像處理裝置對基于照相機的拍攝結(jié)果的該液滴的噴出狀態(tài)進行測定并檢查。此外，用于檢查的基板被洗滌并反復使用。現(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1 日本特開2004-223356號公報在現(xiàn)有技術(shù)中，在涂敷裝置內(nèi)，向由基板保持裝置保持的基板涂敷從涂敷頭的各噴嘴所噴出的液滴，通過照相機對涂敷于該基板的液滴進行拍攝之后，將基板從基板保持裝置取出并投放到涂敷裝置外的洗滌機構(gòu)。但是，在將用于檢查的基板投放到洗滌機構(gòu)中時，必須將該基板從基板保持裝置拆下，在進行檢查時需要向基板保持裝置安裝新的基板，因此，需要花費精力進行基板的安裝、拆下，從而生產(chǎn)效率差。

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的技術(shù)問題本發(fā)明的課題在于，生產(chǎn)效率良好地對從涂敷頭的噴嘴所噴出的液滴的噴出狀態(tài)進行檢查。解決技術(shù)問題所采用的手段本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題，提供一種涂敷裝置，將從涂敷頭的噴嘴噴出的溶液的液滴涂敷到基板上，其特征在于，具備檢測機構(gòu)，根據(jù)涂敷到基板上的溶液的液滴的涂敷狀態(tài)，檢測該液滴的噴出狀態(tài)；洗滌機構(gòu)，對涂敷有上述溶液的液滴的基板進行洗滌；以及
基板保持移動機構(gòu)，保持上述基板，并使該基板循環(huán)移動，以使該基板依次位于基于上述涂敷頭的溶液的噴出作業(yè)位置、基于檢測機構(gòu)的檢測作業(yè)位置、基于洗滌機構(gòu)的洗滌作業(yè)位置中的各個位置。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，能夠保持將基板保持于基板保持移動機構(gòu)的狀態(tài)而按順序地對該基板實施如下各作業(yè)，即噴嘴進行的溶液的噴出，檢測機構(gòu)進行的檢測，洗滌機構(gòu)進行的洗滌，從而提高生產(chǎn)效率。


圖1是表示本發(fā)明的一個實施方式的涂敷裝置的示意主視圖。圖2是表示涂敷裝置的示意側(cè)視圖。圖3是表示涂敷頭的剖視圖。圖4是表示涂敷頭的仰視圖。
具體實施例方式圖1和圖2所示的本發(fā)明的溶液的涂敷裝置100具有基座(base) 1。在基座1的上表面，沿基座1的長度方向鋪設(shè)有以規(guī)定間隔而分開的一對軌道2。臺3可行走地設(shè)置于上述軌道2，通過未圖示的驅(qū)動源而被行走驅(qū)動。在臺3的上表面設(shè)有多個支撐銷4，例如用于液晶顯示裝置的玻璃制的制品用基板W被供給并支撐于這些支撐銷4。在與上述臺3 —起移動的基板W的上方，多個涂敷頭、在本實施方式中為3個涂敷頭7沿著與基板W的移動方向交叉的方向、例如正交的方向而配設(shè)為一列，該多個涂敷頭7 以噴射方式將用于形成功能性薄膜的溶液噴出并涂敷到上述基板W上。上述涂敷頭7如圖3所示地具備涂敷頭主體8。涂敷頭主體8形成為筒狀，其下面開口被可撓板9所封閉。該可撓板9被噴嘴板材11覆蓋，在該噴嘴板材11與上述可撓板 9之間間隔形成有多個液室12。在上述涂敷頭主體8的長度方向一端部，形成有與上述液室12連通的供液孔13。 從該供液孔13向上述液室12供給例如形成取向膜、抗蝕劑等功能性薄膜的溶液。由此，使得上述液室12內(nèi)被溶液充滿。如圖4所示，在上述噴嘴板材11，沿著與基板W的輸送方向正交的方向而交錯地穿設(shè)有多個噴嘴14。在上述可撓板9的上表面，如圖3所示地分別與上述各噴嘴14對置而設(shè)置有多個壓電元件15。各壓電元件15通過在上述涂敷頭主體8內(nèi)設(shè)置的驅(qū)動部16而被供給驅(qū)動電壓。 由此，壓電元件15伸縮，使可撓板9的一部分變形而對與該部分對置的液室12內(nèi)的溶液進行加壓，之后溶液從與該壓電元件15對置配置的噴嘴14噴出并涂敷到所輸送的基板W的上表面。如圖3所示，在上述涂敷頭主體8的長度方向的另一端部，形成有與上述液室12 連通的回收孔17。從上述供液孔13供給到液室12的溶液能夠從上述回收孔17回收。艮口， 上述涂敷頭7，不僅能使被供給到上述液室12的溶液從噴嘴14噴出，還能使其經(jīng)過上述液室12而從上述回收孔17回收。
因此，當基板W通過臺3而被輸送到了涂敷頭7的下方，若通過驅(qū)動部16對壓電元件15通電，則被供給到涂敷頭7的液室12的溶液L從噴嘴14向基板W噴出，從而能夠向基板W噴出并涂敷溶液。當基板W未被輸送到涂敷頭7的下方時，能夠從上述回收孔17 回收被供給到上述液室12的溶液。在上述涂敷裝置100的上述臺3上，一體地設(shè)置有對從涂敷頭7的各噴嘴14噴出的液滴的噴出狀態(tài)進行檢查的檢查裝置20。即，上述檢查裝置20如圖1、圖2所示，具有L字狀的安裝部件21，該安裝部件21 被固定于臺3的沿著移動方向的一個側(cè)面。在該安裝部件21的水平部分的上表面，固定地配置有洗滌槽22。洗滌槽22配置在成為一列的各涂敷頭7的下方。該洗滌槽22的平面尺寸比同時面臨所有涂敷頭7的范圍要大。上述檢查裝置20具備基板保持移動機構(gòu)30。該基板保持移動機構(gòu)30具有在洗滌槽22的沿著各涂敷頭7成為一列的方向的一個端面處所設(shè)置的馬達等間歇旋轉(zhuǎn)裝置31。 該間歇旋轉(zhuǎn)裝置31的旋轉(zhuǎn)軸32在洗滌槽22的內(nèi)部沿著各涂敷頭7成為一列的方向(與噴嘴14的液滴的噴出方向正交的方向)而延伸。在該旋轉(zhuǎn)軸32，固定有與各涂敷頭7的每個對應(yīng)的多個基板保持體，在本實施方式中固定有3個基板保持體33。各基板保持體33 具備通過真空吸附機構(gòu)、機械式保持機構(gòu)等對檢查用基板K進行保持的基板保持部34。另外，檢查用基板K的尺寸形成為，比保持在上述臺3的上表面的制品用基板W小的尺寸。上述基板保持移動機構(gòu)30具備4個基板保持部34，該4個基板保持部34，將多個檢查用基板(在本實施方式中為4個檢查用基板K)的每個，在沿著被間歇旋轉(zhuǎn)裝置31驅(qū)動的旋轉(zhuǎn)軸32的旋轉(zhuǎn)方向即基板K的移動方向的多個位置(在本實施方式中為4個位置) 中的每個位置，進行排列保持。即，基板保持體33如圖1所示，從主視圖觀察而成為正方形，4個側(cè)壁面分別作為基板保持部34而構(gòu)成，從而能夠?qū)?張基板K以旋轉(zhuǎn)軸32為中心以90°間隔進行保持。 另外，基板保持部34不限于4個，可以是4個以下，也可以是4個以上，只要至少有1個即可。關(guān)于上述檢查裝置20，通過臺3的移動而將洗滌槽22、基板保持移動機構(gòu)30向涂敷頭7的下方輸送，涂敷頭7的各噴嘴14噴出的溶液的液滴能夠涂敷到檢查用的基板K上。 此時，基板保持移動機構(gòu)30的間歇旋轉(zhuǎn)裝置31將旋轉(zhuǎn)軸32以90度間隔間歇旋轉(zhuǎn)，以使4 個基板保持部34中的2個基板保持部34位于沿由涂敷頭7的各噴嘴14所噴出溶液的鉛垂方向的上下2個位置，使其他2個基板保持部34位于沿水平方向的左右2個位置。上述檢查裝置20具備作為對涂敷到了基板K上的溶液的液滴E (在圖2中假定涂敷頭7具備5個噴嘴14而示出5個液滴E)進行拍攝的拍攝裝置的照相機23 (檢測機構(gòu))。 該照相機23固定于上述洗滌槽22的一個側(cè)壁(位于與臺3相反的一側(cè)的側(cè)壁)上。另外， 這里，使從涂敷頭7的各個噴嘴14涂敷到基板K上溶液的液滴E的數(shù)為每個1滴。上述照相機23的光軸設(shè)定在與基板保持移動機構(gòu)30的旋轉(zhuǎn)軸32正交的水平軸上。照相機23與基板保持移動機構(gòu)30的3個基板保持體33分別對應(yīng)地獨立設(shè)置，具有能夠一次測定位于各基板保持體33的右側(cè)位置(圖1所示的右側(cè)位置)的基板保持部34所保持的基板K的整個涂敷范圍的視野，能夠?qū)?個液滴E的圖像統(tǒng)一讀取。但是，也可以是， 照相機23設(shè)置為能夠在從基板K的一端側(cè)向其他端側(cè)的水平方向上移動，使照相機23在水平方向上移動，并且對基板K的整個涂敷范圍一邊從一端側(cè)向其他端側(cè)掃描一邊進行拍攝。此外，上述檢查裝置20具備根據(jù)照相機23的拍攝結(jié)果而測定該液滴E的涂敷狀態(tài)的圖像處理裝置M (檢測機構(gòu))。圖像處理裝置對，根據(jù)基板K上與涂敷頭7的各噴嘴 14對應(yīng)的位置上的液滴E的有無、基于基板K上的各個液滴E的投影面積而計算的該各個液滴E的噴出量、基板K上的各液滴E之間的間距等的涂敷狀態(tài)，檢測各噴嘴14的液滴的噴出狀態(tài)。上述檢查裝置20，將圖像處理裝置M的檢測結(jié)果傳送到控制裝置25?？刂蒲b置 25，根據(jù)圖像處理裝置M的檢測結(jié)果，檢測來自各噴嘴14的液滴E的噴出狀態(tài)的異常(無來自噴嘴14的液滴E的噴出，對于噴出量的目標值的異常，對于液滴間距的目標值的異常)。上述御裝置25，若在與各涂敷頭7中的任一個對應(yīng)的基板K上檢測出液滴E的噴出狀態(tài)的異常，則將該涂敷頭7作為再檢查對象，輸出維護指令，該維護指令包含該涂敷頭7的噴嘴14的凈化、更換，與該涂敷頭7的噴嘴14對置的壓電元件15的驅(qū)動電壓的調(diào)整等。上述控制裝置25，例如，根據(jù)由圖像處理裝置M算出的液滴E的投影面積，計算各液滴E的量、即來自各涂敷頭7的噴嘴14的實際噴出量?？刂蒲b置25，對算出的實際噴出量與預先存儲的從各噴嘴14應(yīng)噴出的噴出量(目標噴出量)進行比較，求取兩者的差。并且，具有在容許值以上的差的情況下，根據(jù)該差、和預先通過實驗求出的噴出量與壓電元件15的驅(qū)動電壓之間的關(guān)系，求取應(yīng)對壓電元件15施加的驅(qū)動電壓，向涂敷頭7 的驅(qū)動部16輸出用于將當前驅(qū)動電壓調(diào)整為新的驅(qū)動電壓的維護指令。被輸出了維護指令的涂敷頭7被進行再檢查，并應(yīng)以調(diào)整后的壓電元件15的驅(qū)動電壓對該噴嘴14的噴出狀態(tài)進行再檢查，測定實際噴出量，對與目標值的差的有無進行確認。此時，對于沒有成為再檢查對象的其他涂敷頭7，既可以與被輸出了維護指令的涂敷頭7 —起進行液滴E的噴出而對噴出狀態(tài)進行再確認，也可以不進行噴出。上述檢查裝置20具有洗滌裝置沈(洗滌機構(gòu))，對涂敷有由照相機23進行了拍攝后的液滴E的基板K進行洗滌。洗滌裝置沈由固定于洗滌槽22底面的超聲波振子26A與保存在洗滌槽22中的洗滌液26B構(gòu)成。上述超聲波振子26A按基板保持移動機構(gòu)30的每個基板保持體33而獨立地設(shè)置，與位于各基板保持體33的下方位置的基板保持部34所保持的基板K相對。洗滌液26B 的液面水平(level)為，將位于各基板保持體33的下方位置的基板保持部34所保持的基板K完全浸漬。上述檢查裝置20具有對通過洗滌裝置沈洗滌后的基板K進行干燥的干燥裝置 27 (干燥機構(gòu))。干燥裝置27由固定在洗滌槽22的其他側(cè)壁的鼓風機等構(gòu)成。干燥裝置 27按基板保持移動機構(gòu)30的每個基板保持體33而獨立地設(shè)置，對位于各基板保持體33的左側(cè)位置(圖1的左側(cè)位置)的基板保持部34所保持的基板K的整個涂敷范圍，進行噴吹干燥空氣等的干燥處理。因此，檢查裝置20，使基板保持移動機構(gòu)30的旋轉(zhuǎn)軸32以90度間隔而間歇旋轉(zhuǎn)，使各基板保持體33的4個基板保持部34依次位于圖1中的上側(cè)位置、右側(cè)位置、下側(cè)位置、左側(cè)位置中的每個位置，由此，將由這4個基板保持部34所保持的基板K的每個進行循環(huán)移動，以使基板K依次位于如下位置中的每個位置(1)涂敷頭7的各噴嘴14進行的溶液的噴出作業(yè)位置(上側(cè)位置)；(2)與照相機23對置，且該照相機23進行的液滴E的拍攝(檢測)作業(yè)位置(右側(cè)位置)；(3)洗滌裝置沈進行的基板K的洗滌作業(yè)位置(下側(cè)位置)；(4)與干燥裝置27對置，且該干燥裝置27進行的基板K的干燥作業(yè)位置(左側(cè)位置)。另外，用于檢查裝置20的檢查用基板K，可以為氟樹脂制，或在玻璃基板的表面形成氟樹脂等疏水性材料的膜。在這種情況下，涂敷到基板K的液滴E由于基板K的疏水性而不會洇濕擴散而成為球狀，因此若噴出量相同則成為直徑大致相同的球狀。因此，減小照相機23所拍攝的基板K上的液滴E的投影面積的偏差，能夠提高基于該投影面積的噴出量的計算精度。檢查裝置20的檢查順序如下(1)通過臺3的移動，將檢查裝置20的洗滌槽22、基板保持移動機構(gòu)30輸送到各涂敷頭7的下方。通過基板保持移動機構(gòu)30，向被保持在位于基板保持體33的上側(cè)位置 (噴出作業(yè)位置)的基板保持部34的基板K，從對應(yīng)的涂敷頭7的各噴嘴14，每個1滴地噴出并涂敷溶液的液滴El。(2)使基板保持移動機構(gòu)30的旋轉(zhuǎn)軸32進行90度間歇旋轉(zhuǎn)，使上述(1)的基板 K位于照相機23的拍攝作業(yè)位置(右側(cè)位置)，對從各噴嘴14噴出并涂敷到基板K的液滴 E進行拍攝。圖像處理裝置M根據(jù)照相機23的拍攝結(jié)果，檢測從各噴嘴14噴出的液滴E 的噴出狀態(tài)，控制裝置25根據(jù)圖像處理裝置M的檢測結(jié)果，進行必要的噴嘴14的維護。(3)使基板保持移動機構(gòu)30的旋轉(zhuǎn)軸32進行90度間歇旋轉(zhuǎn)，使上述O)的基板 K位于洗滌裝置沈進行的洗滌作業(yè)位置(下側(cè)位置)，對涂敷有由照相機23進行了拍攝后的液滴E的基板K進行洗滌。即，控制裝置25使超聲波振子2隊以規(guī)定的頻率振蕩，通過該振動以及洗滌液26B帶來的洗滌力，對涂敷到基板K的液滴E進行沖洗。(4)使基板保持移動機構(gòu)30的旋轉(zhuǎn)軸32進行90度間歇旋轉(zhuǎn)，使上述(3)的基板 K位于干燥裝置27的干燥作業(yè)位置(左側(cè)位置)，對由洗滌裝置沈進行了洗滌后的基板K 進行干燥。(5)使被洗滌并干燥后的基板K再次依次位于上述(1) (4)的噴出作業(yè)位置、拍攝作業(yè)位置、洗滌作業(yè)位置、干燥作業(yè)位置，以使得循環(huán)地進行接下來的檢查(包含由于根據(jù)同一噴嘴14的異常噴出狀態(tài)而控制裝置25輸出的上述維護指令所引起的再檢查)。根據(jù)本實施例可實現(xiàn)以下作用效果(a)在涂敷裝置100內(nèi)，基板K以被保持于基板保持移動機構(gòu)30的狀態(tài)而被循環(huán)移動，以使基板K依次位于基于涂敷頭7的溶液的噴出作業(yè)位置、基于照相機23的拍攝作業(yè)位置、基于洗滌裝置沈的洗滌作業(yè)位置中的各個作業(yè)位置，以供基板K被反復檢查。能夠在將基板K保持于基板保持移動機構(gòu)30的狀態(tài)下，對該基板K依次實施基于噴嘴14溶液的噴出、基于照相機23的拍攝、基于洗滌裝置沈的洗滌的各作業(yè)，能夠省去將基板K對基板保持部34安裝或取下所花費的精力，從而能夠相應(yīng)地提高生產(chǎn)效率。將洗滌裝置沈配置在涂敷裝置100內(nèi)，能夠防止設(shè)備空間的增大。
此外，由于構(gòu)成為，通過使基板保持移動機構(gòu)30的基板保持體33間歇旋轉(zhuǎn)從而使保持于基板保持部34的基板K依次位于噴出作業(yè)位置、拍攝作業(yè)位置、洗滌作業(yè)位置，因此，能夠通過旋轉(zhuǎn)這樣的簡單移動形態(tài)來進行作業(yè)位置的切換，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置結(jié)構(gòu)的簡單化。(b)基板保持移動機構(gòu)30，在涂敷裝置100內(nèi)，使通過洗滌裝置沈進行洗滌后的基板K位于干燥裝置27的干燥作業(yè)位置。能夠在將基板K保持于基板保持移動機構(gòu)30的狀態(tài)下，通過干燥裝置27對洗滌后的基板K實施干燥。由此，能夠縮短洗滌后的基板K的干燥時間，能夠縮短到能夠?qū)ο礈旌蟮幕錕進行檢查為止的時間，因此，由此也能夠提高生產(chǎn)效率。將干燥裝置27配置在涂敷裝置100內(nèi)，能夠減小設(shè)備空間。(c)基板保持移動機構(gòu)30具備多個基板保持部34，該多個基板保持部3將多個基板K的每一個排列保持于沿基板K的移動方向的多個位置的每一個上，使各基板K依次位于各作業(yè)位置。由此，對于多個基板K的每一個，同時且并行地實施基于噴嘴14的溶液的噴出、基于照相機23的拍攝、基于洗滌裝置沈的洗滌的各作業(yè)、以及進一步根據(jù)需要進行的干燥裝置27的干燥作業(yè)，從而進一步提高生產(chǎn)效率。以上，根據(jù)附圖而詳述了本發(fā)明的實施方式，但本發(fā)明的具體構(gòu)成不限于該實施方式，在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)進行的設(shè)計的變更等也包含于本發(fā)明。例如，作為檢測機構(gòu)而采用了照相機23，但不限于此，例如，也可以采用線性傳感器(line sensor)、激光位移計等距離測定機構(gòu)。采用線性傳感器的情況下，使線性傳感器對涂敷到基板K上的液滴橫切地進行掃描、從而取入滴落在基板K上的液滴E的平面圖像即可。此外，采用距離測定機構(gòu)的情況下，也是使距離測定機構(gòu)對涂敷到基板K上的液滴E橫切地進行掃描、根據(jù)此時的距離測定值的變化來求取液滴E的直徑、涂敷高度等的外徑尺寸即可。此外，檢查裝置20與臺3 —起相對于涂敷頭7水平移動，但也可以構(gòu)成為檢查裝置20與臺3獨立地相對于涂敷頭7水平移動，也可以是，將檢查裝置20固定配置在基座上， 涂敷頭7水平移動且移動到檢查裝置20的上方。此外，從各噴嘴14在檢查裝置20的基板K上涂敷1滴溶液的液滴E，但不限于1 滴，也可以是多滴。在此情況下，既可以將多滴液滴E涂敷到基板K上的同一部位，也可以分別涂敷到不同位置上。將多滴液滴E涂敷到了基板K上的同一部位的情況下，求取用根據(jù)多滴液滴的投影面積所求出的噴出量除以涂敷到了同一部位的液滴數(shù)而得到的值，作為每1滴液滴的噴出量。將多個液滴分別涂敷到不同位置的情況下，可以求取根據(jù)各個液滴的投影面積而分別求出的噴出量的平均值，作為每1滴液滴的噴出量。此外，也可以是，將多個液滴涂敷到不同位置的情況下，一邊以規(guī)定的速度使臺3 移動，一邊按設(shè)定的噴出間隔從各噴嘴14噴出設(shè)定的次數(shù)的液滴。工業(yè)實用性本發(fā)明能夠生產(chǎn)效率良好地進行從涂敷頭的噴嘴噴出的液滴的噴出狀態(tài)的檢查。符號說明7 涂敷頭14 噴嘴
23照相機(檢測機構(gòu))24圖像處理裝置(檢測機構(gòu))26洗滌裝置(洗滌機構(gòu))
27干燥裝置(干燥機構(gòu))30基板保持移動機構(gòu)34基板保持部K檢查用基板
權(quán)利要求
1.一種涂敷裝置，將從涂敷頭的噴嘴噴出的溶液的液滴涂敷到基板上，其特征在于，具備檢測機構(gòu)，根據(jù)涂敷到基板上的溶液的液滴的涂敷狀態(tài)，檢測該液滴的噴出狀態(tài)； 洗滌機構(gòu)，對涂敷有上述溶液的液滴的基板進行洗滌；以及基板保持移動機構(gòu)，保持上述基板，并使該基板循環(huán)移動，以使該基板依次位于基于上述涂敷頭的溶液的噴出作業(yè)位置、基于檢測機構(gòu)的檢測作業(yè)位置、基于洗滌機構(gòu)的洗滌作業(yè)位置中的各個位置。
2.如權(quán)利要求1所述的涂敷裝置，其特征在于，具有對通過上述洗滌機構(gòu)進行了洗滌后的基板進行干燥的干燥機構(gòu)， 基板保持移動機構(gòu)循環(huán)地移動基板，以使該基板依次位于基于涂敷頭的溶液的噴出作業(yè)位置、基于檢測機構(gòu)的檢測作業(yè)位置、基于洗滌機構(gòu)的洗滌作業(yè)位置、基于干燥機構(gòu)的干燥作業(yè)位置中的各個位置。
3.如權(quán)利要求1或2所述的涂敷裝置，其特征在于，上述基板保持移動機構(gòu)具備多個基板保持部，該多個基板保持部將多個基板中的各個基板排列保持于沿基板的移動方向的多個位置中的各個位置上，上述基板保持移動機構(gòu)使由各基板保持部所保持的基板依次位于各作業(yè)位置。
4.如權(quán)利要求3所述的涂敷裝置，其特征在于，上述基板的移動方向是以與來自上述噴嘴的液滴的噴出方向正交的軸為中心的旋轉(zhuǎn)方向，上述基板保持移動機構(gòu)，以與上述軸為中心的90度間隔來保持上述多個基板，并且， 以上述軸為中心使上述多個基板每90度間歇旋轉(zhuǎn)，上述各作業(yè)位置與上述間歇旋轉(zhuǎn)帶來的上述基板的停止位置相對應(yīng)地配置。
5.如權(quán)利要求1所述的涂敷裝置，其特征在于，具有在上述涂敷頭的下方被沿水平方向直線驅(qū)動的臺，在該臺的上面，保持從上述涂敷頭的噴嘴噴出的上述溶液的液滴所涂敷的制品用基板，上述檢測機構(gòu)、上述洗滌機構(gòu)以及上述干燥機構(gòu)與上述臺被設(shè)為一體。
6.如權(quán)利要求1所述的涂敷裝置，其特征在于， 上述基板是檢查用的基板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種涂敷裝置，在將從涂敷頭的噴嘴噴出的溶液的液滴涂敷到基板上的涂敷裝置(100)中，具有基板保持移動機構(gòu)(30)，其保持基板(K)并使該基板(K)循環(huán)移動，以使其依次位于基于涂敷頭(7)的溶液的噴出作業(yè)位置、基于照相機(23)的拍攝作業(yè)位置、以及基于洗滌裝置(26)的洗滌作業(yè)位置中的各位置。
文檔編號B05C13/00GK102300644SQ20108000565
公開日2011年12月28日 申請日期2010年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月29日
發(fā)明者伊原一彥 申請人:芝浦機械電子株式會社