專利名稱：間歇涂布方法和間歇涂布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及從設(shè)于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間 歇地提供涂布液而在該基材上間歇地涂布涂布液的間歇涂布方法和間歇涂布 裝置。特別是上述間歇涂布方法和間歇涂布裝置具有如下特征在開始向基材涂 布涂布液的涂布開始側(cè)的端面和停止向基材涂布涂布液的涂布停止側(cè)的端面 相對于基材垂直形成而不傾斜，能在基材上以一定的均勻的厚度涂布涂布液。
背景技術(shù)：
以往，從設(shè)于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提 供涂布液，從而在上述基材上間歇地涂布涂布液。如上所述在片狀基材上間歇地涂布涂布液時，以往一般如圖1所示，在使 基材1掛設(shè)于支承輥2上進(jìn)行移動的同時，使按上述方式移動的基材1與涂布 模頭IO的前端面10a間隔所需間距相對而將涂布模頭10設(shè)在與支承輥2相對 的位置上，并從設(shè)于該涂布模頭10的前端面10a的狹縫狀吐出口 11間歇地吐 出涂布液12，從而在上述基材1上間歇地涂布涂布液12。另外，如上所述那樣從設(shè)于涂布模頭10的前端面10a的狹縫狀吐出口 11 間歇地吐出涂布液12時，在將涂布液12壓力輸送至涂布模頭10的壓力泵3 與涂布模頭10之間設(shè)置間歇閥4，通過開閉該間歇閥4，通過樹脂制涂布液供 給管13間歇地向涂布模頭10提供涂布液12 ，從設(shè)于該涂布模頭10的前端面 10a的吐出口 11間歇地吐出涂布液12。但是，如上所述那樣從設(shè)于涂布模頭10的前端面10a的吐出口 11間歇地 吐出涂布液12時，在打開間歇閥4而從吐出口 11吐出涂布液12的涂布開始階段、關(guān)閉間歇閥4而停止吐出涂布液12的涂布停止階段，由于上述涂布液 供給管13膨脹等引起的壓力傳遞延遲、殘壓等而導(dǎo)致涂布液12的吐出及停止 的響應(yīng)性降低。其結(jié)果如圖2所示，從涂布模頭IO的吐出口 11吐出的涂布液 12的吐出量在涂布開始階段逐漸增加而在涂布停止階段逐漸下降。因此，按上述方法在移動的基材1上涂布涂布液12時，如圖3所示，涂 布在基材1上的涂布液12的涂布開始側(cè)的端部和涂布停止側(cè)的端部呈傾斜狀 態(tài)，存在無法以一定的均勻的厚度將涂布液12涂布于基材1這樣的問題。近年來，如日本專利特開2001-179156號公報所示，提出了如下技術(shù)方案 在設(shè)于上述涂布模頭與間歇閥之間的支管上設(shè)置吸引閥和負(fù)壓箱，當(dāng)停止向基 材涂布涂布液時，關(guān)閉上述間歇閥而停止吐出涂布液，同時打開上述吸引閥而 使上述負(fù)壓箱吸引涂布液，從而抑制涂布液涂布在基材上。但是，該公報所示的方案不能抑制在基材上開始涂布涂布液的涂布液開始 側(cè)的端部的傾斜狀態(tài)，且在上述情況下吸引閥的響應(yīng)性等并不充分，涂布停止 側(cè)的端部依然呈現(xiàn)略微傾斜的狀態(tài)，無法在基材上以一定的均勻的厚度涂布涂 布液。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的技術(shù)問題在于解決從設(shè)于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移 動的片狀基材間歇地提供涂布液而在該基材上間歇地涂布涂布液時存在的上 述問題。艮P，本發(fā)明的技術(shù)問題在于使開始向基材涂布涂布液的涂布開始側(cè)的端面 和停止向基材涂布涂布液的涂布停止側(cè)的端面相對于基材垂直形成而不傾斜， 從而能在基材上以一定的均勻的厚度涂布涂布液。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的間歇涂布方法是從設(shè)于涂布模頭前端面 的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液而在該基材上間歇地涂布涂布液的間歇涂布方法，它具有以下工序在開始從上述涂布模頭向基材提 供涂布液時，使該涂布模頭與上述基材同向移動的工序；使該涂布模頭停止移動或使涂布模頭與基材反向移動，從涂布模頭向移動的基材涂布涂布液的工序；以及在停止從該涂布模頭向基材提供涂布液時，使該涂布模頭與上述基材 同向移動的工序。在該間歇涂布方法中，如上所述在開始從涂布模頭向基材提供涂布液時， 最好是使開始提供涂布液時的涂布模頭的移動速度與上述基材相同，并逐漸使 該涂布模頭的移動速度減速，在停止從上述涂布模頭向基材提供涂布液時，最 好是對使涂布模頭與上述基材同向移動的移動速度進(jìn)行加速，在停止涂布液供 給時使該涂布模頭的移動速度與上述基材相等。在該間歇涂布方法中，上述基材與涂布模頭的前端面之間的間距最好是在 形成液珠時基材移動方向的下游側(cè)比上游側(cè)窄。在該間歇涂布方法中，可以使上述基材掛設(shè)于支承輥進(jìn)行移動，并在與該 支承輥相對的位置上從上述涂布模頭向基材間歇地涂布涂布液，此時，可以將 上述涂布模頭以其前端面與支承輥相對的方式沿輻射方向配置，并在此狀態(tài)下 使該涂布模頭沿支承輥的轉(zhuǎn)動方向移動。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的間歇涂布裝置是從設(shè)于涂布模頭前端面 的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液而在該基材上間歇地涂 布涂布液的間歇涂布裝置，它設(shè)有傳送上述涂布模頭的傳送裝置，利用控制裝 置來控制該傳送裝置對涂布模頭的傳送，在開始從涂布模頭向基材提供涂布液 時，使上述涂布模頭與基材同向移動，在從涂布模頭向基材涂布涂布液時，使 涂布模頭停止移動或與基材反向移動，在停止從涂布模頭向基材提供涂布液 時，使涂布模頭與基材同向移動。本發(fā)明的間歇涂布方法和間歇涂布裝置在從設(shè)于涂布模頭前端面的狹縫 狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液而在該基材上間歇地涂布涂布 液時，如上所述在開始從涂布模頭向基材提供涂布液時，使該涂布模頭與上述 基材同向移動。因此，在從涂布模頭吐出口吐出的涂布液的吐出量逐漸增加并達(dá)到穩(wěn)定之 前，涂布模頭沿基材移動，在涂布模頭與基材的相對速度小于基材的移動速度 的狀態(tài)下進(jìn)行涂布，可抑制開始涂布涂布液的涂布開始側(cè)的端部傾斜。在從涂布模頭吐出口吐出的涂布液的量穩(wěn)定的階段，如上所述使涂布模頭停止移動或使涂布模頭與基材反向移動，從該涂布模頭向移動的基材涂布涂布 液，從而能以一定的厚度在基材上涂布涂布液。在停止從涂布模頭向基材提供涂布液時，使該涂布模頭與上述基材同向移動。因此，在從該涂布模頭吐出口吐出的涂布液的吐出量逐漸降低至不再吐出 為止，涂布模頭沿基材移動，在涂布模頭與基材的相對速度小于基材的移動速 度的狀態(tài)下進(jìn)行涂布，可抑制停止涂布涂布液的涂布停止側(cè)的端部傾斜。其結(jié)果是，在本發(fā)明的間歇涂布方法和間歇涂布裝置中，開始向基材涂布 涂布液的涂布開始側(cè)的端面和停止向基材涂布涂布液的涂布停止側(cè)的端面相 對于基材垂直形成而不傾斜，能在基材上以一定的均勻的厚度涂布涂布液。根據(jù)表示本發(fā)明具體實施方式
的附圖以及結(jié)合附圖的以下說明，顯而易見 本發(fā)明的上述及其他目的、優(yōu)點和特征。


圖1是表示在現(xiàn)有例的間歇涂布裝置中從涂布模頭向掛設(shè)于支承輥而移 動的基材間歇地涂布涂布液的狀態(tài)的概略說明圖。圖2是表示在現(xiàn)有例中從涂布模頭吐出的涂布液的吐出量變化的圖。圖3是表示在現(xiàn)有例中涂布于基材的涂布液狀態(tài)的概略側(cè)視圖。 圖4是表示本發(fā)明一實施方式中涂布模頭移動的工序的概略說明圖。 圖5是表示在上述實施方式中當(dāng)涂布模頭的移動速度與基材的移動速度 大致相等時從設(shè)于涂布模頭前端面的吐出口吐出涂布液形成液珠的狀態(tài)、使涂 布模頭停止移動而從涂布模頭向移動的基材涂布涂布液的狀態(tài)、以及使停止的 涂布模頭沿基材移動并當(dāng)涂布模頭的移動速度與基材的移動速度大致相等時 使涂布模頭從基材離開的狀態(tài)的概略說明圖。圖6是表示在上述實施方式中從涂布模頭向移動的基材涂布涂布液的狀 態(tài)的放大說明圖。圖7是表示在上述實施方式中從涂布模頭吐出的涂布液的吐出量和涂布 模頭移動速度的關(guān)系的圖。圖8是表示在上述實施方式中涂布在基材上的涂布液的狀態(tài)的概略側(cè)視圖。圖9是表示本發(fā)明另一實施方式的概略說明圖。圖10是表示在上述另一實施方式中當(dāng)涂布模頭的移動速度與基材的移動速度大致相等時從設(shè)于涂布模頭前端面的吐出口吐出涂布液而形成液珠的狀 態(tài)的概略說明圖。圖11是表示在上述另一實施方式中使涂布模頭停止移動而從涂布模頭向 移動的基材涂布涂布液的狀態(tài)的概略說明圖。圖12是表示在上述另一實施方式中使停止的涂布模頭沿基材移動并當(dāng)涂布模頭的移動速度與基材的移動速度大致相等時使涂布模頭從基材離開的狀 態(tài)的概略說明圖。 (符號說明)1基材2支承輥10涂布模頭10a刖順面11吐出口12涂布液12a積液部13涂布液供給管20傳送裝置(轉(zhuǎn)動臂)20a臂部21控制裝置22注射泵23清洗裝置具體實施方式
下面，根據(jù)附圖具體說明本發(fā)明的實施方式涉及的間歇涂布方法和間歇涂布裝置。另外，本發(fā)明涉及的間歇涂布方法和間歇涂布裝置不限于下 述實施方式，在不改變發(fā)明主旨的范圍內(nèi)可以進(jìn)行適當(dāng)變更。如圖4所示，在本實施方式中，在使基材1掛設(shè)于支承輥2上進(jìn)行移動的同時，利用控制裝置21來控制傳送涂布模頭10的傳送裝置20。將上述涂布模頭10的前端面10a在向下的狀態(tài)下引向該涂布模頭10 的前端面10a與以上述方式移動的基材1間隔所需間距的位置，同時使該 涂布模頭10沿著掛設(shè)于支承輥2的呈圓弧狀的基材1而與基材1同向移動。當(dāng)上述涂布模頭10的移動速度與基材1的移動速度大致相等時，利用 注射泵22通過樹脂制涂布液供給管13向涂布模頭IO提供涂布液12，如圖 5 (A)所示，從設(shè)于涂布模頭IO的前端面10a的狹縫狀吐出口 11吐出涂 布液12而形成液珠，使涂布模頭IO的前端面10a接近基材1，從而使涂布 液12的液珠與以上述方式移動的基材1接觸。然后，在按上述方式使涂布液12的液珠與移動的基材l接觸的狀態(tài)下， 使沿基材1移動的上述涂布模頭10的移動速度減速，在注射泵22向涂布 模頭IO穩(wěn)定地提供涂布液12的階段，如圖5(B)所示，停止該涂布模頭 IO的移動，從該涂布模頭IO的吐出口 11向移動的基材l涂布涂布液12。這里，在按上述方式從涂布模頭10的吐出口 11向移動的基材1涂布 涂布液12時，如圖6所示，上述基材1和涂布模頭10的前端面10a的間 距在基材1移動方向下游側(cè)的間距G2比上游側(cè)的間距Gl略窄，利用該略 窄的部分來控制在移動的基材1上涂布的涂布液12的厚度，從而在基材1 上以一定的厚度涂布涂布液12。另外，在與基材1的間距變大的基材1的 移動方向上游側(cè)部分，由于重力而充分形成涂布液12的積液部12a，因此 可實現(xiàn)無斷液、無飛白(日文力、卞^)的涂布。按上述方法在移動的基材1上涂布規(guī)定長度的涂布液12后，在停止注 射泵22向涂布模頭10提供涂布液12的同時，如圖5 (C)所示，使該涂 布模頭IO沿基材1移動，使該涂布模頭10的移動速度加速，當(dāng)該涂布模 頭10的移動速度與基材1的移動速度大致相等時，使該涂布模頭10上升 而離開基材1。另外，上述一連串動作中涂布液12的吐出量和涂布模頭10的移動速 度的關(guān)系如圖7所示。如果按上述方法在移動的基材1上涂布涂布液12，則如上所述，不僅 可抑制開始涂布涂布液12的涂布開始側(cè)的端部傾斜，也可抑制停止涂布涂 布液12的涂布停止側(cè)的端部傾斜。其結(jié)果如圖8所示，涂布在基材1上的涂布液12的涂布開始側(cè)的端面 12a和涂布停止側(cè)的端面12b相對于基材1垂直形成，可在基材1上以一定 的均勻的厚度涂布涂布液12。如上所述地使涂布模頭IO上升而離開基材1后，在該涂布模頭10返 回涂布開始位置的途中，將該涂布模頭10引向清洗裝置23，利用該清洗裝 置23清洗涂布模頭10的前端部，然后進(jìn)行下一次涂布。這里，在如上所述地使涂布模頭IO上升而離開基材1到利用清洗裝置 23清洗該涂布模頭IO期間內(nèi)，為了防止因基材1移動而使基材1上未涂布 涂布液12的部分變長，可以使在此期間的基材1的移動速度減速，或使多 個涂布模頭IO按上述方法依次移動，從而在移動的基材1上依次間歇地涂 布涂布液12。如圖5 (B)所示，在上述實施方式中，使該涂布模頭IO停止移動而 在基材1上涂布涂布液12，但為了確保其動作間隔，也可以在使涂布模頭 IO反向移動的同時進(jìn)行涂布。在本實施方式中，如上所述在使涂布模頭IO的前端面10a始終向下的 狀態(tài)下使該涂布模頭IO沿著移動的基材1與基材1同向移動，但涂布模頭 10的配置狀態(tài)不限于此。例如，也可以是如圖9所示的實施方式，在上述支承輥2上設(shè)置作為 傳送涂布模頭10的傳送裝置20的轉(zhuǎn)動臂20，利用控制裝置21來控制該轉(zhuǎn) 動臂20的轉(zhuǎn)動，同時使涂布模頭10可滑動地保持于從支承輥2突出的轉(zhuǎn) 動臂20的臂部20a，將該涂布模頭10以與支承輥2相對的方式沿輻射方向 配置，使該涂布模頭IO的前端面10a與掛設(shè)于支承輥2上進(jìn)行移動的基材 1相對。這里，在本實施方式中，使上述涂布模頭IO滑動，將該涂布模頭10的前端面10a引向與按上述方式移動的基材1之間間隔所需間距相對的位 置，同時使上述轉(zhuǎn)動臂20轉(zhuǎn)動，在使涂布模頭10的前端面10a與基材1 相對的狀態(tài)下，使涂布模頭IO沿基材1移動。當(dāng)上述轉(zhuǎn)動臂20產(chǎn)生的涂布模頭10的移動速度與基材1的移動速度 大致相等時，利用注射泵22向涂布模頭IO提供涂布液12，如圖10所示， 從設(shè)于涂布模頭IO的前端面10a的狹縫狀吐出口 11吐出涂布液12而形成 液珠，使涂布液12的液珠與按上述方式移動的基材1接觸。在按上述方式使涂布液12的液珠與移動的基材1接觸的狀態(tài)下，降低 上述轉(zhuǎn)動臂20的轉(zhuǎn)動速度，使沿基材1移動的涂布模頭10的移動速度減 速，在注射泵22向涂布模頭10穩(wěn)定地提供涂布液12的階段，如圖11所 示，使轉(zhuǎn)動臂20停止轉(zhuǎn)動從而停止涂布模頭IO的移動，從該涂布模頭10 的吐出口 11向移動的基材1涂布涂布液12。按上述方法在移動的基材1上涂布規(guī)定長度的涂布液12后，停止上述 注射泵22向涂布模頭IO提供涂布液12，同時如圖12所示，使上述轉(zhuǎn)動臂 20轉(zhuǎn)動，使涂布模頭IO沿基材1移動，當(dāng)該涂布模頭IO的移動速度與基 材1的移動速度大致相等時，使該涂布模頭10向離開基材1的方向滑動。按上述方法在移動的基材1上涂布涂布液12的方式也與上述實施方式 同樣，可抑制開始涂布涂布液12的涂布開始側(cè)的端部傾斜，抑制停止涂布 涂布液12的涂布停止側(cè)的端部傾斜。其結(jié)果如上述圖8所示，涂布在基材 1上的涂布液12的涂布開始側(cè)的端面12a和涂布停止側(cè)的端面12b相對于 基材1垂直形成，可在基材1上以一定的均勻的厚度涂布涂布液12。雖然通過上述實施方式對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)描述，但需注意的是，本 領(lǐng)域技術(shù)人員可進(jìn)行各種變更和修改。因此，除非這些變更和修改超出本發(fā)明的范圍，否則均屬于本發(fā)明。
權(quán)利要求
1. 一種間歇涂布方法，從設(shè)于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液，從而在所述基材上間歇地涂布涂布液，其特征在于，具有如下工序在開始從所述涂布模頭向基材提供涂布液的時刻，使所述涂布模頭與所述基材同向移動的工序；使所述涂布模頭停止移動或使涂布模頭與基材反向移動，從涂布模頭向移動的基材涂布涂布液的工序；以及在停止從所述涂布模頭向基材提供涂布液的時刻，使所述涂布模頭與所述基材同向移動的工序。
2. 如權(quán)利要求1所述的間歇涂布方法，其特征在于，在開始從所述涂 布模頭向基材提供涂布液的開始時刻使涂布模頭的移動速度與所述基材相 同，并使所述涂布模頭的移動速度逐漸減速。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的間歇涂布方法，其特征在于，在停止從所述涂布模頭向基材提供涂布液時，對使涂布模頭與所述基材同向移動的移 動速度進(jìn)行加速，在停止提供涂布液時，使所述涂布模頭的移動速度與所 述基材相同。
4. 如權(quán)利要求1至3中任一項所述的間歇涂布方法，其特征在于，所 述基材與涂布模頭前端面的間距在基材移動方向的下游側(cè)比上游側(cè)窄。
5. 如權(quán)利要求1至4中任一項所述的間歇涂布方法，其特征在于，所述基材掛設(shè)于支承輥進(jìn)行移動，在與所述支承輥相對的位置上從所述涂布 模頭向基材間歇地涂布涂布液。
6. 如權(quán)利要求5所述的間歇涂布方法，其特征在于，在所述涂布模頭 的前端面以與支承輥相對的方式沿輻射方向配置的狀態(tài)下，所述涂布模頭 沿支承輥的轉(zhuǎn)動方向移動。
7. 如權(quán)利要求1至6中任一項所述的間歇涂布方法，其特征在于，在 停止從所述涂布模頭向基材提供涂布液后，利用清洗裝置來清洗所述涂布 模頭的前端部。
8. —種間歇涂布裝置，從設(shè)于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液，從而在所述基材上間歇地涂布涂布液，其 特征在于，設(shè)有傳送所述涂布模頭的傳送裝置，利用控制裝置來控制所述 傳送裝置對涂布模頭的傳送，在開始從涂布模頭向基材提供涂布液的時刻， 使所述涂布模頭與基材同向移動，在從涂布模頭向基材涂布涂布液的時刻， 使涂布模頭停止移動或與基材反向移動，在停止從涂布模頭向基材提供涂 布液的時刻，使涂布模頭與基材同向移動。
全文摘要
本發(fā)明的技術(shù)問題在于從涂布模頭向移動的基材間歇地涂布涂布液時能在基材上以一定的均勻的厚度涂布涂布液。從設(shè)于涂布模頭(10)的前端面(10a)的吐出口(11)向移動的片狀基材(1)間歇地提供涂布液(12)而在基材上間歇地涂布涂布液時，進(jìn)行如下工序在開始從涂布模頭向基材提供涂布液時，使涂布模頭與基材同向移動的工序；使該涂布模頭停止移動或與基材反向移動，從涂布模頭向移動的基材涂布涂布液的工序；以及在停止從該涂布模頭向基材提供涂布液時，使該涂布模頭與上述基材同向移動的工序。
文檔編號B05D1/26GK101279315SQ200810092118
公開日2008年10月8日 申請日期2008年4月3日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月6日
發(fā)明者戶內(nèi)八郎, 甲田正紀(jì), 荻野忠弘, 魚井將詳 申請人:中外爐工業(yè)株式會社