專利名稱：表面處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對小零件進行表面處理的表面處理裝置。所謂小零件，是指例如0.5 5000um的粉狀體、片狀電容器、二極管、連接器、簧片開關(guān)、 釘子、螺栓、螺母、墊片等小型零件。
背景技術(shù)：
作為用于對小零件進行表面處理的表面處理裝置，例如已知專利文獻1、 2所示的裝置。這些裝置通過一邊使收容有小零件的處理容器旋轉(zhuǎn)一邊在處理 容器內(nèi)注入表面處理液，來對小零件進行表面處理。專利文獻l:日本專利特表平11一505295號公報專利文獻2:美國專利第5879520公報發(fā)明的公開發(fā)明所要解決的技術(shù)問題然而，以往的上述裝置存在表面處理液的飛散或泄漏會弄臟裝置的內(nèi) 部和外部的問題。另外，在對小零件進行表面處理時，通常是在進行了第一表面處理后 利用期望的金屬進行第二表面處理。即，進行兩種表面處理。通常，兩種 表面處理中使用的表面處理液分別進行回收并重復使用。因此，在用一臺 表面處理裝置進行兩種表面處理時，理想的是將各表面處理液不相混地嚴 密分開并加以回收。然而，以往的一臺表面處理裝置并不能很好地實現(xiàn)這 樣的回收。本發(fā)明的目的在于提供一種能防止裝置的內(nèi)部和外部被弄臟的表面處 理裝置，還在于提供一種主要效果是在一臺裝置中能將兩種表面處理液嚴密分開地加以回收并重復使用的表面處理裝置。 解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案本發(fā)明的第一形態(tài)的表面處理裝置是一種用于一邊使收容有小零件的處 理容器旋轉(zhuǎn)一邊對小零件進行表面處理的表面處理裝置，其特征在于，包括 具有使液體從內(nèi)向外流出的液體流出機構(gòu)、并能收容小零件的處理容器；從下 方圍繞處理容器的承接槽；設(shè)置成從上方封住承接槽、在中央具有開口的蓋體； 將表面處理液朝處理容器內(nèi)供給的表面處理液供給機構(gòu)；以及將清洗水朝處理 容器內(nèi)供給的清洗水供給機構(gòu)，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使表面處理液供給 機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給表面處理液并利用液體流出機構(gòu)使表面處理液 從處理容器流出，對小零件進行表面處理，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使清洗 水供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給清洗水并利用液體流出機構(gòu)使清洗水從 處理容器流出，對小零件進行清洗，另外，還包括使清洗水朝蓋體的內(nèi)表面和 /或處理容器的外表面噴出的第一清洗機構(gòu)，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使第 一清洗機構(gòu)動作時，對蓋體的內(nèi)表面和/或處理容器的外表面進行清洗。本發(fā)明的第二形態(tài)的表面處理裝置是一種用于一邊使收容有小零件的處 理容器旋轉(zhuǎn)一邊對小零件進行表面處理的表面處理裝置，其特征在于，包括 具有使液體從內(nèi)向外流出的液體流出機構(gòu)、并能收容小零件的處理容器；從下 方圍繞處理容器的承接槽；設(shè)置成從上方封住承接槽、在中央具有開口的蓋體; 將表面處理液朝處理容器內(nèi)供給的表面處理液供給機構(gòu)；以及將清洗水朝處理 容器內(nèi)供給的清洗水供給機構(gòu)，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使表面處理液供給 機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給表面處理液并利用液體流出機構(gòu)使表面處理液 從處理容器流出，對小零件進行表面處理，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使清洗 水供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給清洗水并利用液體流出機構(gòu)使清洗水從 處理容器流出，對小零件進行清洗，另外，還包括使蓋體相對于承接槽開閉的 開閉機構(gòu)，開閉機構(gòu)使蓋體以水平狀態(tài)從封住承接槽的位置升降至規(guī)定高度位 置，再使蓋體從該規(guī)定高度位置移動以從承接槽離開。本發(fā)明的第三形態(tài)的表面處理裝置是一種用于一邊使收容有小零件的處 理容器旋轉(zhuǎn)一邊對小零件進行表面處理的表面處理裝置，其特征在于，包括具有使液體從內(nèi)向外流出的液體流出機構(gòu)、并能收容小零件的處理容器；從下 方圍繞處理容器的承接槽；設(shè)置成從上方封住承接槽、在中央具有開口的蓋體； 用于收容表面處理液的箱；將收容在箱內(nèi)的表面處理液朝處理容器內(nèi)供給的表 面處理液供給機構(gòu)；將清洗水朝處理容器內(nèi)供給的清洗水供給機構(gòu)；以及使承 接槽承接到的表面處理液返回收容該表面處理液的箱、并使承接槽承接到的清 洗水朝排出部流動的排放機構(gòu)，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使表面處理液供給 機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給表面處理液并利用液體流出機構(gòu)使表面處理液 從處理容器流出，對小零件進行表面處理，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使清洗 水供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給清洗水并利用液體流出機構(gòu)使清洗水從 處理容器流出，對小零件進行清洗，上述排放機構(gòu)具有與承接槽的排出口連 通的排出部件；設(shè)置成與排出部件的前端部、或者箱和排出部的各入口可自由 上下動地連結(jié)的連結(jié)管；使連結(jié)管上下運動的升降部；以及使排出部件的前端 部移動的移動機構(gòu)，使排出部件的前端部移動而配置在箱和排出部中所選的入 口之上，并使連結(jié)管上升或下降，利用連結(jié)管使排出部件與上述入口連結(jié)。本發(fā)明的第四形態(tài)的表面處理裝置是一種用于一邊使收容有小零件的處 理容器旋轉(zhuǎn)一邊對小零件進行兩種表面處理的表面處理裝置，其特征在于，包 括具有使液體從內(nèi)向外流出的液體流出機構(gòu)、并能收容小零件的處理容器； 從下方圍繞處理容器的承接槽；設(shè)置成從上方封住承接槽、在中央具有開口的 蓋體；用于分別收容兩種表面處理液的兩個箱；將收容在兩個箱內(nèi)的表面處理 液分別朝處理容器內(nèi)供給的兩個的表面處理液供給機構(gòu)；將清洗水朝處理容器 內(nèi)供給的清洗水供給機構(gòu)；使承接槽承接到的表面處理液返回收容該表面處理 液的箱、并使承接槽承接到的清洗水朝排出部流動的排放機構(gòu)，在一邊使處理 容器旋轉(zhuǎn)一邊使表面處理液供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給表面處理液并 利用液體流出機構(gòu)使表面處理液從處理容器流出，對小零件進行表面處理，在 一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使清洗水供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給清洗水 并利用液體流出機構(gòu)使清洗水從處理容器流出，對小零件進行清洗，另外，還 包括使清洗水朝蓋體的內(nèi)表面和/或處理容器的外表面噴出的第一清洗機構(gòu)， 在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使第一清洗機構(gòu)動作時，對蓋體的內(nèi)表面和/或處理容器的外表面進行清洗，另外，還包括使蓋體相對于承接槽開閉的開閉機構(gòu)， 開閉機構(gòu)使蓋體以水平狀態(tài)從封住承接槽的位置升降至規(guī)定高度位置，再使蓋 體從該規(guī)定高度位置移動以從承接槽離開，上述排放機構(gòu)具有與承接槽的排 出口連通的排出部件；設(shè)置成與排出部件的前端部、或者兩個箱和排出部的各 入口可自由上下動地連結(jié)的連結(jié)管；使連結(jié)管上下運動的升降部；以及使排出 部件的前端部移動的移動機構(gòu)，使排出部件的前端部移動而配置在兩個箱和排 出部中所選的入口之上，并使連結(jié)管上升或下降，利用連結(jié)管使排出部件與上 述入口連結(jié)。本發(fā)明較為理想的是適當采用如下的具體結(jié)構(gòu)。(a) 第一清洗機構(gòu)具有噴出清洗水的第一噴出部和/或第二噴出部，第一噴 出部由在沿著蓋體的開口的邊緣設(shè)置的供水通路上形成的噴出口形成，將清洗 水朝蓋體的內(nèi)表面噴出，第二噴出部由在沿著蓋體的內(nèi)表面設(shè)置的供水通路上 形成的噴出口形成，將清洗水朝處理容器的外表面噴出。(b) 開閉機構(gòu)具有從蓋體延伸的臂；設(shè)置在臂的另一端側(cè)、可繞與臂正 交的水平軸自由旋轉(zhuǎn)地得到支撐的旋轉(zhuǎn)體；將臂可自由轉(zhuǎn)動地支撐的水平支撐 軸；對臂予以支撐以防止將水平支撐軸作為支點的臂的蓋體側(cè)變低的支撐機 構(gòu)；使水平支撐軸與臂一起升降的升降機構(gòu)；上升至規(guī)定高度位置的臂的旋轉(zhuǎn) 體從下方與其抵接的抵接體，在使水平支撐軸上升時，蓋體以水平狀態(tài)上升， 直到旋轉(zhuǎn)體與抵接體抵接，在旋轉(zhuǎn)體與抵接體抵接后，臂繞水平支撐軸轉(zhuǎn)動， 同時蓋體一邊傾斜一邊上升。(c) 具有將清洗水朝排出部件的內(nèi)表面噴出的第二清洗機構(gòu)。 另外，本發(fā)明也可適當采用如下的具體結(jié)構(gòu)。(I) 還包括陽極電極，陽極電極設(shè)置成從上方插入固定在垂直轉(zhuǎn)軸上的處 理容器內(nèi)，處理容器還具有沿著內(nèi)表面的導電環(huán)，導電環(huán)能從垂直轉(zhuǎn)軸進行通 電。(II) 在上述(I)中，陽極電極具有陽極端子；通過螺釘可裝拆地安裝在 陽極端子上的、用于收容表面處理用的陽極金屬的陽極殼體。(III) 在上述(II)中，陽極電極安裝在蓋體上，在利用蓋體將承接槽封住時，陽極電極從上方插入處理容器內(nèi)。(IV) 表面處理液供給機構(gòu)具有用于將箱內(nèi)的表面處理液經(jīng)由過濾器朝處理容器內(nèi)供給的供給管、用于將箱內(nèi)的表面處理液經(jīng)由過濾器朝該箱內(nèi)供給的 返回管，在動作時，經(jīng)由供給管和返回管來供給表面處理液，在非動作時，僅 經(jīng)由返回管來供給表面處理液。(V) 安裝處理容器的裝置主體內(nèi)的室具有底面，該底面傾斜，以朝著形成 在底面上的排出口變低。(VI) 蓋體封住承接槽時與蓋體的周壁的下端抵接的樹脂體沿著承接槽的 周壁內(nèi)表面設(shè)置。(VII) 在蓋體的周壁的下端內(nèi)表面上設(shè)置有朝著內(nèi)側(cè)向下傾斜的凸緣。(vni)垂直轉(zhuǎn)軸被承接槽的內(nèi)周壁從承接槽隔開。 (ix)在上述(vin)中，與垂直轉(zhuǎn)軸的上端連結(jié)并載放處理容器的托板在下 表面上具有圍繞承接槽的內(nèi)周壁的上端部的周壁。 發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的第一形態(tài) 第四形態(tài)，能發(fā)揮如下效果。(i)通過一邊利用 垂直轉(zhuǎn)軸使收容有小零件的處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使表面處理液供給機構(gòu)動作，能 朝處理容器內(nèi)供給表面處理液。由此，能對小零件進行表面處理。(2)由于包 括蓋體，因而能防止表面處理液在處理中朝外部飛散。另外，根據(jù)本發(fā)明的第一形態(tài)和第四形態(tài)，通過使第一清洗機構(gòu)動作，能 對蓋體的內(nèi)表面和處理容器的外表面進行清洗。即，能將飛散在蓋體的內(nèi)表面 和處理容器的外表面上的表面處理液沖走。因此，能更有效地分別回收上述表 面處理液。另外，根據(jù)本發(fā)明的第二形態(tài)和第四形態(tài)，通過使開閉機構(gòu)動作，能將蓋 體自動開閉。而且，由于能使蓋體從承接槽的稍上方以水平狀態(tài)下降，利用蓋 體將承接槽封住，因而能將蓋體的周壁較深地插入承接槽內(nèi)，因此，能利用蓋 體良好地封住承接槽。另外，根據(jù)本發(fā)明的第三形態(tài)和第四形態(tài)，能發(fā)揮如下效果。 (i)通過使表面處理液供給機構(gòu)動作，能使用箱內(nèi)的表面處理液來進行表面處理，通過使排放機構(gòu)動作，能將使用后的表面處理液返回箱。由此，能重 復使用表面處理液。(2) 通過使清洗水供給機構(gòu)動作，能對處理容器內(nèi)進行清洗，通過使排放 機構(gòu)動作，能將清洗水從排出部排出并將表面處理液收容在箱內(nèi)。(3) 通過使排放機構(gòu)動作，能自動地將清洗水從排出部排出并將表面處理 液回收在箱內(nèi)。(4) 由于使連結(jié)管上升或下降來使排出部件與箱和排出部的入口連結(jié)，因而可確保液體的流路不會中斷，因此，能可靠地防止表面處理液和清洗水朝外 部泄漏。另外，根據(jù)本發(fā)明的第四形態(tài)，通過使清洗水供給機構(gòu)動作，能對處理容 器內(nèi)進行清洗，通過使排放機構(gòu)動作，能將兩種表面處理液收容在原來的各個 箱內(nèi)。因此，在使用某種表面處理液并將其收容在箱內(nèi)后，通過清洗，可使用 其它表面處理液并將其收容在箱內(nèi)。因此，能將各表面處理液不相混地嚴密分 開并加以回收。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(a)，能可靠地對蓋體的內(nèi)表面和處理容器的外表面進行清洗。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(b)，能使蓋體自動開閉。而且，能將蓋體提升至不會妨礙 處理容器的裝拆作業(yè)的位置。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(c)，能對排出部件的內(nèi)表面進行清洗。因此，例如在使用 某種表面處理液并將其經(jīng)由排出部件回收在箱內(nèi)后，利用第二清洗機構(gòu)來對排 出部件內(nèi)表面進行清洗，可使用其它表面處理液并將其經(jīng)由排出部件回收在箱 內(nèi)。因此，能將各表面處理液特別是在排出部件中不相混地嚴密分開并加以回 收。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(I)，通過在陽極電極與處理容器的導電環(huán)之間通電，作為 表面處理，能進行電解處理、例如電鍍處理等。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(II)，能容易地進行陽極電極的維護。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(in)，由于能在開閉蓋體的同時進行陽極電極的裝拆，因 而能提高作業(yè)效率。而且，由于能省去僅支撐陽極電極的支撐機構(gòu)，因而能簡化裝置結(jié)構(gòu)。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(IV)，不僅是在表面處理液供給機構(gòu)的動作時，在表面處理 液供給機構(gòu)的非動作時也能使箱內(nèi)的表面處理液經(jīng)由過濾器返回箱內(nèi)，因而能 始終凈化箱內(nèi)的表面處理液。因此，能重復使用潔凈的表面處理液。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(V),在安裝處理容器的裝置主體內(nèi)的室中，滴落在底面上 的表面處理液和清洗水朝著排出口逐漸流動。因此，能容易地進行底面的清掃。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(VI)或者(VII)，能防止表面處理液和清洗水朝承接槽的外部漏出。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(vin)，能防止表面處理液和清洗水朝垂直轉(zhuǎn)軸側(cè)漏出。 根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(ix)，能防止表面處理液和清洗水從托板與內(nèi)周壁之間的間 隙朝垂直轉(zhuǎn)軸側(cè)漏出，因此，能更可靠地發(fā)揮上述結(jié)構(gòu)(vni)的效果。


圖i是第一實施方式的表面處理裝置的主視剖視圖。 圖2是圖i的n—n截面向視圖。 圖3是圖2的in—ni截面向視圖。 圖4是圖i的裝置的后視透視圖。圖5是圖3的V—V截面向視圖。圖6是圖1的部分放大圖。圖7是表示處理容器的安裝構(gòu)造的分解立體圖。圖8是處于將承接槽封住的狀態(tài)的蓋體的俯視圖。圖9是圖8的IX—IX截面向視圖。圖10是圖8的X—X截面向視圖。圖11是圖8的XI—XI截面向視圖。圖12是表示第一陽極電極和第一支撐機構(gòu)的局部剖視圖。圖13是第一陽極電極的放大剖視圖。圖14是臂的俯視透視圖。圖15是圖3的局部放大圖，表示蓋體的開閉機構(gòu)。圖16是圖15的XVI向視圖。圖17是圖15的XVII向視圖。圖18是開閉機構(gòu)的支撐體的俯視圖。圖19是開閉機構(gòu)的主要部分放大立體圖。圖20是圖3的局部放大圖，表示排放機構(gòu)。圖21是圖20的XXI向視圖。圖22是圖18的XXII —XXII截面向視圖。圖23是第一陽極電極的放大主視剖視圖。圖24是第一陽極電極的分解放大主視剖視圖。圖25是表示裝置主體前部的上室的內(nèi)部的上方立體示意圖。圖26是表示蓋體被開閉機構(gòu)打開后的狀態(tài)的剖視圖。圖27是表示蓋體被開閉機構(gòu)關(guān)閉后的狀態(tài)的剖視圖。圖28是表示開閉機構(gòu)的動作中途的剖視圖。圖29是表示第一陽極電極裝填工序中第一支撐機構(gòu)動作之前的第一陽極 電極的狀態(tài)的上方立體圖。圖30是表示第一陽極電極裝填工序中接著圖29的狀態(tài)的上方立體圖。 圖31是表示第一陽極電極裝填工序中接著圖30的狀態(tài)的上方立體圖。 圖32是表示第一陽極電極裝填工序中接著圖31的狀態(tài)的上方立體圖。 圖33是表示第一清洗機構(gòu)的第一變形例的剖視圖。 圖34是圖33的管的俯視圖。圖35是表示第一清洗機構(gòu)的第二變形例的剖視圖。圖36是圖35的XXXVI向視圖。圖37是表示第一清洗機構(gòu)的第三變形例的剖視圖。圖38是表示第一清洗機構(gòu)的第四變形例的剖視圖。圖39是圖38的XXXIX向視圖。圖40是表示第一清洗機構(gòu)的第五變形例的俯視圖。圖41是表示開閉機構(gòu)的第一變形例的立體圖。圖42是表示蓋體被圖41的開閉機構(gòu)關(guān)閉后的狀態(tài)的剖視圖。圖43是表示圖41的開閉機構(gòu)打開蓋體的打開動作的剖視圖。圖44是表示接著圖43的打開動作的剖視圖。圖45是表示蓋體被圖41的開閉機構(gòu)打開后的狀態(tài)的剖視圖。圖46是表示開閉機構(gòu)的第二變形例的側(cè)視圖。圖47是表示開閉機構(gòu)的第三變形例的立體圖。圖48是表示開閉機構(gòu)的第四變形例的立體圖。圖49是表示排放機構(gòu)的第一變形例的剖視圖。圖50是表示排放機構(gòu)的第二變形例的剖視圖。圖51是表示圖50的排放機構(gòu)的動作狀態(tài)的剖視圖。圖52是表示陽極電極支撐機構(gòu)的第一變形例的側(cè)視圖。圖53是表示陽極電極支撐機構(gòu)的第二變形例的剖視圖。圖54是表示陽極電極支撐機構(gòu)的第三變形例的側(cè)視圖。圖55是第二實施方式的表面處理裝置的立體圖。(符號說明)10旋轉(zhuǎn)表面處理裝置11處理容器112電極環(huán)(導電環(huán))12垂直轉(zhuǎn)軸143周壁15承接槽154樹脂體155內(nèi)周壁16蓋體165凸緣21第一箱22第一表面處理液供給機構(gòu) 24第二箱25第二表面處理液供給機構(gòu)27第三箱211、 241、 271入口221、 251過濾器222、 252第一供給管223、 253返回管224、 254第二供給管 3排放機構(gòu)33連結(jié)管41第一陽極電極411第一陽極端子412陽極殼體5第一清洗機構(gòu)51狹縫(噴出口)52噴出口53、 54供水通路7開閉機構(gòu)71臂72滾筒(旋轉(zhuǎn)體) 73水平支撐軸 74支撐體 75升降機構(gòu) 76抵接體 8第二清洗機構(gòu)具體實施方式
[第一實施方式]本實施方式涉及用一臺來進行兩種表面處理的、所謂的"雙液型"的表面 處理裝置。圖1是本實施方式的表面處理裝置10的主視剖視圖，圖2是圖1的n—ii截面向視圖，圖3是圖2的ni—in截面向視圖，圖4是圖i的裝置10的后視透視圖，圖5是圖3的V — V截面向視圖。本實施方式是在一個裝 置主體100內(nèi)安裝所有的零件。裝置主體100通過設(shè)置在底面上的滾輪201而 能在地板面上移動，并可利用設(shè)置在底面上的制動器202固定在地板面上。如圖1所示，在裝置主體100前部的上室101內(nèi)設(shè)置有處理容器11、承接槽15、蓋體16、第一陽極電極41及支撐第一陽極電極41的第一支撐機 構(gòu)43的一部分、第一退避部45、第二陽極電極46及支撐第二陽極電極46的 第二支撐機構(gòu)48的一部分、第二退避部49。如圖1所示，在裝置主體100前部的下室102內(nèi)，在中央設(shè)置有垂直轉(zhuǎn)軸 12、驅(qū)動垂直轉(zhuǎn)軸12的電動機13，在兩側(cè)設(shè)置有第一支撐機構(gòu)43的其余部分、 第二支撐機構(gòu)48的其余部分。如圖2和圖3所示，在裝置主體100后部的上室103內(nèi)，在前方設(shè)置有蓋 體16的開閉機構(gòu)7，在后方橫向排列地設(shè)置有兩個過濾器221、 251。如圖3、圖4和圖5所示，在裝置主體100后部的下室104內(nèi)，在前方設(shè) 置有排放機構(gòu)3，在后方橫向排列地設(shè)置有第一箱21、第二箱24和第三箱27。如圖2和圖4所示，在裝置主體100后部的上室103和下室104內(nèi)設(shè)置有 第一表面處理液供給機構(gòu)22、第二表面處理液供給機構(gòu)25和清洗水供給機構(gòu) (未圖示)。另外，如圖2所示，在裝置主體100的側(cè)室105內(nèi)設(shè)置有控制部6。 圖6是圖1的局部放大圖。如圖6所示，處理容器11通過將非導電性的 圓板狀的底板lll、電極環(huán)(導電環(huán))U2、非導電性的罩113重疊后用螺栓114 一體化而構(gòu)成。處理容器11在內(nèi)部具有收容作為表面處理的對象物的小零件 的空間110。罩113在中央具有開口 115。另外，處理容器ll具有使處理容器 11內(nèi)的液體從周圍逐漸朝處理容器11外流出的液體流出機構(gòu)(未圖示)。 作為液體流出機構(gòu)，例如可采用下面的結(jié)構(gòu)(a)、 (b)等。(a) 在底板111與電極環(huán)112之間設(shè)置具有與內(nèi)外連通的許多貫穿孔的多 孔性環(huán)。(b) 在底板111與電極環(huán)112之間設(shè)置有與內(nèi)外連通的間隙。另外，作為上述結(jié)構(gòu)(b)，例如可采用下面的結(jié)構(gòu)(bl)、 (b2)等。(bl)在底板111上形成與內(nèi)外連通的槽。(b2)在底板lll與電極環(huán)112之間以周向上隔開適當間隔的形態(tài)夾持間隔物。處理容器11通過裝拆機構(gòu)固定在垂直轉(zhuǎn)軸12上。裝拆機構(gòu)具有固定在 垂直轉(zhuǎn)軸12上端上的導電性的圓板狀托板141、用于將處理容器11固定在托 板141上的螺栓142。 g卩，處理容器11安放在托板141上后將螺栓142緊固而 固定在垂直轉(zhuǎn)軸12上。另外，從垂直轉(zhuǎn)軸12經(jīng)由托板141和螺栓142朝處理 容器11的電極環(huán)112進行通電。承接槽15設(shè)置成從下方將固定在垂直轉(zhuǎn)軸12上的處理容器11覆蓋，其 由底壁151和周壁152構(gòu)成。底壁151傾斜，以朝著一個排出口 153變低。蓋體16設(shè)置成從上方封住承接槽15，其利用開閉機構(gòu)7(圖3)進行開閉 動作。開閉機構(gòu)7在后面進行說明。蓋體16在中央具有開口 161。另外，在承接槽15的周壁152的內(nèi)表面的上部設(shè)置有在周向上連續(xù)延伸 的樹脂體154。樹脂體154設(shè)置成在蓋體16關(guān)閉時蓋體16的周壁163的下端 164從上方與樹脂體154抵接。在蓋體16的周壁163的下端164的內(nèi)表面上， 設(shè)置有朝著內(nèi)側(cè)向下傾斜的凸緣165。垂直轉(zhuǎn)軸12利用承接槽15的內(nèi)周壁155 與承接槽15隔開。另外，托板141在下表面上具有圍繞內(nèi)周壁155的上端部 的周壁143。另外，如圖7的分解立體圖所示，處理容器ll通過使形成在底板lll上 的兩個凹部116(圖6)與形成在托板141上的兩個突起144嵌合后利用兩條螺 栓142安裝在托板141上。圖8是處于將承接槽15封住的狀態(tài)的蓋體16的俯視圖，圖9是圖8的 IX — IX截面向視圖。蓋體16包括第一清洗機構(gòu)5。第一清洗機構(gòu)5具有使清 洗水噴出的第一噴出部和第二噴出部。如圖8和圖9所示，第一噴出部由狹縫 (噴出口)51構(gòu)成，將清洗水朝蓋體16的內(nèi)表面162噴出，狹縫51形成在沿著 蓋體16的開口 161的邊緣的內(nèi)表面162設(shè)置的供水通路53與蓋體16的內(nèi)表 面162之間。第二噴出部由多個噴出口 52構(gòu)成，將清洗水朝處理容器11的外表面119噴出，多個噴出口 52形成在沿著蓋體16的內(nèi)表面162沿徑向延伸設(shè)置的供水通路54上。另外，供水通路53從供水通路54延伸，供水通路54與后述的清洗水供給機構(gòu)一樣，與外部的清洗水供給源(例如自來水)連結(jié)。
另外，如作為圖8的X—X截面向視圖的圖10所示，蓋體16在沿著蓋體16的內(nèi)表面162沿徑向延伸設(shè)置的供水通路56的前端具有用于朝處理容器11內(nèi)供給清洗水的噴嘴57。供水通路56構(gòu)成后述的清洗水供給機構(gòu)。
另外，如作為圖8的XI—XI截面向視圖的圖11所示，蓋體16在開口 161的邊緣具有液面?zhèn)鞲衅?8。液面?zhèn)鞲衅?8通過檢測處理容器11內(nèi)的液面來檢測液量的剩余或不足。
圖12是表示第一陽極電極41和支撐第一陽極電極41的第一支撐機構(gòu)43的局部剖視圖。第一支撐機構(gòu)43具有沿橫向延伸的筒狀的臂431、在臂431的另一端支撐臂431以使其能上下移動并能在水平面內(nèi)轉(zhuǎn)動的支撐體432。支撐體432具有沿縱向延伸的筒體433、使筒體433繞縱軸轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動驅(qū)動部434、使筒體433與轉(zhuǎn)動驅(qū)動部434 —起上下運動的缸驅(qū)動部435。筒體433在上端與臂432連通成一體。
筒體433設(shè)置成在套筒437內(nèi)上下運動，套筒437豎立設(shè)置在上室101的底面1011上。另外，在筒體433的在套筒437內(nèi)上下運動的部分具有外管436，即具有雙重管構(gòu)造。轉(zhuǎn)動驅(qū)動部434利用齒輪齒條機構(gòu)使筒體433轉(zhuǎn)動。齒條在空氣壓力的作用下移動。如圖13所示，在臂431的前端設(shè)置有用于朝處理容器11內(nèi)供給第一表面處理液的噴嘴439。圖14是臂431的俯視透視圖。如圖12和圖14所示，朝第一陽極電極41通電用的電線438和朝噴嘴439供給第一表面處理液用的供給通路440穿過筒體433和臂431的內(nèi)部。
第二陽極電極46和支撐第二陽極電極46的第二支撐機構(gòu)48也具有與第一陽極電極41和支撐第一陽極電極41的第一支撐機構(gòu)43相同的構(gòu)造。艮口，如圖1所示，第二支撐機構(gòu)48具有臂471、支撐體472。支撐體472具有在套筒477(圖23)內(nèi)上下運動的筒體473、轉(zhuǎn)動驅(qū)動部474、缸驅(qū)動部475。筒體473具有外管476。在臂471的前端設(shè)置有用于朝處理容器11內(nèi)供給第二表面處理液的噴嘴。朝第二陽極電極46通電用的電線和朝噴嘴供給第二表面處理液用的供給通路穿過筒體473和臂471的內(nèi)部。
圖15是圖3的局部放大圖，表示蓋體16的開閉機構(gòu)7。圖16是圖15的XVI向視圖，圖17是圖15的XVII向視圖。開閉機構(gòu)7具有臂71、滾筒(旋轉(zhuǎn)體)72、水平支撐軸73、支撐機構(gòu)74、升降機構(gòu)75、抵接體76。
在圖15中，臂71的一端與蓋體16連結(jié)，從蓋體16橫向延伸。滾筒72設(shè)置在臂71的另一端的上部。滾筒72可自由旋轉(zhuǎn)地得到與臂71正交的水平軸77的支撐。
特別是如圖17所示，升降機構(gòu)75具有垂直的柱751、缸驅(qū)動部752、并排設(shè)置的兩根垂直的滑動軸753、 754。缸驅(qū)動部752位于柱751的上側(cè)。柱751位于兩根滑動軸753、 754之間。升降機構(gòu)75通過使缸驅(qū)動部752動作，通過后述的支撐體740使柱751沿著兩根滑動軸753、 754升降。
水平支撐軸73與臂71正交，在臂71的中途將臂71可自由轉(zhuǎn)動地支撐，水平支撐軸73可自由轉(zhuǎn)動地支撐在柱751的下端部。支撐機構(gòu)74包括支撐體740、調(diào)整螺栓7517。支撐體740位于水平支撐軸73的下方，并固定在柱751的下端。具體而言，支撐體740具有如作為俯視圖的圖18所示的形態(tài)。艮P，支撐體740由固定柱751的下端的中央部7511、供兩根滑動軸753、 754分別貫穿的側(cè)部7512、 7513構(gòu)成。在中央部7511上固定有支撐水平支撐軸73的L型凸緣731的水平部7311 (圖17)。中央部7511在與蓋16相反的一側(cè)部分具有缺口部7510。另外，中央部7511具有用于安裝調(diào)整螺栓7517的螺栓孔7518。調(diào)整螺栓7517從支撐體740的下表面?zhèn)冗M行安裝，能任意設(shè)定朝上表面?zhèn)韧怀龅耐怀龈叨取?br> 兩根滑動軸753、 754的、以支撐體740為邊界的上側(cè)部分和下側(cè)部分被折皺保護罩覆蓋。抵接體76設(shè)置在臂71的另一端的上方。以水平狀態(tài)上升規(guī)定距離H后的臂71的滾筒72從下方與抵接體76抵接。
圖19是開閉機構(gòu)7的立體局部圖。柱751的下端部分岔為平行的兩個柱部7511。 L型凸緣731與柱部7511的下端連結(jié)。臂71穿過兩個柱部7511之間。另外，在滑動軸753、 754貫穿支撐體740的部分設(shè)置有用于防止支撐體740相對滑動軸753、 754晃動的導向筒781、 782。導向筒781、 782固定在支撐體740上。
圖20是圖3的局部放大圖，表示排放機構(gòu)3。圖21是圖20的XXI向視圖，圖22是圖20的XXII — XXII截面向視圖。排放機構(gòu)3具有承接容器31、排出管32、連結(jié)管33、缸驅(qū)動部(升降部)34、轉(zhuǎn)動機構(gòu)(移動機構(gòu))35。承接容器31和排出管32構(gòu)成排出部件。承接容器31由底面311和周壁312構(gòu)成。底面311傾斜，以朝著排出口313變低。排出管32與排出口 313連通，并固定在承接容器31上。排出管32由傾斜部321和鉛垂部322構(gòu)成。連結(jié)管33設(shè)置成與鉛垂部322的下端部連結(jié)。連結(jié)管33可上下自由滑動地套設(shè)在鉛垂部322上，并利用缸驅(qū)動部34沿著鉛垂部322上下運動。缸驅(qū)動部34利用支撐板341固定在承接容器31和排出管32上。連結(jié)管33的下端部的直徑被設(shè)定成能嵌入后述的各箱的入口。轉(zhuǎn)動機構(gòu)35利用電動機354(圖21)，通過齒輪358、 359使與承接容器31的旋轉(zhuǎn)中心連結(jié)的垂直轉(zhuǎn)軸351旋轉(zhuǎn)。垂直轉(zhuǎn)軸351利用兩個臂355、 356支撐在裝置主體100的內(nèi)部壁106上。另一方面，如圖21和圖22所示，第一箱21、第二箱24和第三箱27橫向排列地設(shè)置。第三箱27位于正當中。另外，如圖22所示，這三個箱的入口211、 271、 241設(shè)置在圓弧狀的軌跡R上。該軌跡R與轉(zhuǎn)動機構(gòu)35使承接容器31以及排出管32和連結(jié)管33轉(zhuǎn)動時的、連結(jié)管33所走的軌跡一致。轉(zhuǎn)動機構(gòu)35能使承接容器31轉(zhuǎn)動成使得連結(jié)管33分別位于三個入口 211、 271、 241上。通過利用編碼器357檢測承接容器31的轉(zhuǎn)動角度，調(diào)整電動機354的動作，來對承接容器31的轉(zhuǎn)動進行調(diào)整。承接容器31可通過設(shè)置在周壁312的外周面上的導向件315相對軌道316滑動來轉(zhuǎn)動。軌道316固定在下室104的頂板1041的下表面上。
在承接容器31的頂板1041上設(shè)置有第二清洗機構(gòu)8。第二清洗機構(gòu)8具有從頂板1041朝下方突出的噴嘴81，其從噴嘴81朝著承接容器31的內(nèi)表面噴出清洗水。在噴嘴81上連結(jié)有供水通路82，供水通路82與后述的清洗水供給機構(gòu)一樣，與外部的清洗水供給源連結(jié)。
如圖2和圖4所示，第一表面處理液供給機構(gòu)22具有從第一箱21的出口端口 212經(jīng)由泵213延伸至過濾器221的第一供給管222、從過濾器221延伸至第一箱21的返回端口 214的返回管223、從過濾器221延伸至第一支撐機構(gòu)43的供給通路440的第二供給管224。第一表面處理液供給機構(gòu)22在動作時使用第一供給管222、第二供給管224和返回管223，在非動作時僅使用第一供給管222和返回管223。
如圖2和圖4所示，第二表面處理液供給機構(gòu)25具有從第二箱24的出口端口 242經(jīng)由泵243延伸至過濾器251的第一供給管252、從過濾器251延伸至第二箱24的返回端口 244的返回管253、從過濾器251延伸至第二支撐機構(gòu)48的供給通路的第二供給管254。第二表面處理液供給機構(gòu)25在動作時使用第一供給管252、第二供給管254和返回管253，在非動作時僅使用第一供給管252和返回管253。
清洗水供給機構(gòu)具有與外部的清洗水供給源連結(jié)的供給管(未圖示)。該供給管分岔，與第一清洗機構(gòu)5的供水通路54、延伸至蓋體16的噴嘴57的供水通路56、第二清洗機構(gòu)8的供水通路82分別連結(jié)。另外，在供給管與供水通路54、 56、 82的各連接部設(shè)置有電磁閥。
圖23是第一陽極電極41的放大主視剖視圖，圖24是第一陽極電極41的分解放大主視剖視圖。第一陽極電極41具有第一陽極端子411、第一陽極殼體412。第一陽極殼體412是由例如鈦制的網(wǎng)體構(gòu)成的容器，能收容第一表面處理用的陽極金屬。在第一陽極端子411的下端形成有螺紋部413。另一方面，在第一陽極殼體412的底面中央形成有與螺紋部413螺合的螺合部414。第一陽極殼體412通過使第一陽極端子411的螺紋部413與螺合部414螺合，可自由裝拆地安裝在第一陽極端子411上。第一陽極殼體412被蓋415封住。在蓋415的中央形成有供第一陽極端子411貫穿的貫穿孔416。
第二陽極電極46也具有與第一陽極電極41相同的結(jié)構(gòu)。
圖25是表示裝置主體100前部的上室101的內(nèi)部的上方立體示意圖。上室101具有底面1011。在底面1011的一個角落里形成有排出口 1012。底面1011傾斜，以朝著排出口 1012變低。另外，排出口 1012通向外部的排出部。
下面，按工序順序來說明上述結(jié)構(gòu)的表面處理裝置10的動作。
此處，作為一例，對進行第一電鍍處理和第二電鍍處理這兩種表面處理的情況進行說明。
首先，在使裝置10動作之前，預先進行下面的準備。(l)在第一箱21
內(nèi)加入第一鍍覆處理液，在第二箱24內(nèi)加入第二鍍覆處理液。(2)將處理的對象物即小零件投入處理容器11內(nèi)。(3)通過裝拆機構(gòu)，將收容了小零件的處理容器11固定在垂直轉(zhuǎn)軸12上。
然后，使裝置10動作。在使裝置10動作時，依次進行如下工序。蓋體關(guān)閉動作工序
首先，開閉機構(gòu)7動作，蓋體16從上方將承接槽15封住。
蓋體16在動作前處于圖26的狀態(tài)、即打開的狀態(tài)。在使裝置10動作時，
開閉機構(gòu)7動作，蓋體16從上方將承接槽15封住，成為圖27的狀態(tài)、即關(guān)
閉的狀態(tài)。
具體而言，如下地進行動作。在處于圖26的狀態(tài)的開閉機構(gòu)7中，柱751與水平支撐軸73和支撐體740 —起上升，滾筒72從下方與抵接體76抵接，臂71以滾筒72側(cè)較低的形態(tài)傾斜。臂71穿過支撐體740的缺口部7510傾斜。在此狀態(tài)下， 一旦開閉機構(gòu)7動作，柱751便與水平支撐軸73和支撐體740一起下降，臂71繞水平支撐軸73轉(zhuǎn)動而逐漸成為水平狀態(tài)。然后，如圖28所示，在臂71從上方與調(diào)整螺栓7517抵接的時刻，臂71的轉(zhuǎn)動停止，相應地，蓋體16成為水平狀態(tài)。然后，柱751與水平支撐軸73和支撐體740 —起下降，相應地，蓋體16保持水平狀態(tài)下降，如圖27所示，從上方將承接槽15封住。第一清洗工序
接著，電動機13、清洗水供給機構(gòu)、第一清洗機構(gòu)5和第二清洗機構(gòu)8動作。此時，排放機構(gòu)3的連結(jié)管33與第三箱27的入口 271連結(jié)。第三箱27用于收容被使用后的清洗水，通向外部的排水部。
在清洗水供給機構(gòu)動作時，電磁閥打開，從與外部的清洗水供給源連結(jié)的供給管將清洗水提供給供水通路56，從噴嘴57將清洗水朝旋轉(zhuǎn)著的處理容器11內(nèi)供給。被供給來的清洗水一邊沖洗處理容器11的內(nèi)部一邊通過液體流出機構(gòu)從處理容器ll排出。由此，對處理容器ll的內(nèi)表面和小零件進行清洗。在第一清洗機構(gòu)5動作時，電磁閥打開，從上述供給管將清洗水提供給供
水通路54，在處理容器ll旋轉(zhuǎn)的狀況下，從狹縫51和噴出口52將清洗水噴出。由此，對蓋體16的內(nèi)表面162和處理容器11的外表面119進行清洗。
在第二清洗機構(gòu)8動作時，電磁閥打開，從上述供給管將清洗水提供給供水通路82，從噴嘴81將清洗水噴出。由此，對承接容器31的內(nèi)表面進行清洗。
然后， 一旦清洗進行了規(guī)定時間，清洗水供給機構(gòu)、第一清洗機構(gòu)5、第二清洗機構(gòu)8便停止其動作。另一方面，處理容器ll旋轉(zhuǎn)一小會。由此，殘留在處理容器11內(nèi)的清洗水通過液體流出機構(gòu)從處理容器11排出。
從處理容器11排出的清洗水以及對蓋體16的內(nèi)表面162和處理容器11的外表面119清洗后的清洗水被承接槽15承接，從排出口 153經(jīng)由承接容器31和排出管32流入第三箱27，進而朝外部的排出部流出。另外，清洗了承接容器31的內(nèi)表面的清洗水也經(jīng)由排出管32流入第三箱27，進而朝外部的排出部流出。排放機構(gòu)第一動作工序
接著，排放機構(gòu)3動作。即，承接容器31轉(zhuǎn)動，連結(jié)管33位于第一箱21的入口211上方，利用缸驅(qū)動部34下降，從而與入口211連結(jié)。[4]第一陽極電極裝填工序
接著，第一支撐機構(gòu)43動作。另外，如圖29所示，在第一支撐機構(gòu)43動作之前，第一陽極電極41處于退入第一退避部45的狀態(tài)。
在第一支撐機構(gòu)43動作時，缸驅(qū)動部435使筒體433上升。由此，如圖30所示，臂431與第一陽極電極41 一起上升，第一陽極電極41從第一退避部45朝上方出來。接著，轉(zhuǎn)動驅(qū)動部434使筒體433朝圖30的箭頭方向旋轉(zhuǎn)規(guī)定距離。由此，臂431與第一陽極電極41一起旋轉(zhuǎn)，第一陽極電極41如圖31所示位于蓋體16的開口 161的上方。然后，缸驅(qū)動部435使筒體433下降。由此，第一陽極電極41如圖32所示被裝填在處理容器11內(nèi)。第一電鍍處理工序
接著，在對處理容器11的電極環(huán)112通電的同時，電動機13和第一表面處理液供給機構(gòu)22動作。在第一表面處理液供給機構(gòu)22動作時，第一箱21內(nèi)的第一鍍覆處理液經(jīng)由第一供給管222、過濾器221、第二供給管224和供給通路440，從噴嘴439流入處理容器ll內(nèi)。另一方面，此時，處理容器11處于旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，第一鍍覆處理液逐漸地通過液體流出機構(gòu)從處理容器11排出。
另一方面，在處理容器ll中，電流通過第一鍍覆處理液在第一陽極電極41與電極環(huán)112之間流動，利用第一鍍覆處理液對因處理容器11的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力而與電極環(huán)112接觸的小零件進行鍍覆處理。由于處理容器11 一邊反復進行正轉(zhuǎn)和逆轉(zhuǎn)一邊旋轉(zhuǎn)，因而小零件不斷地與電極環(huán)112接觸，因此，可對所有的小零件進行均勻的鍍覆處理。
然后，第一表面處理液供給機構(gòu)22進行了規(guī)定時間的上述鍍覆處理后，停止其動作。另一方面，處理容器ll旋轉(zhuǎn)一小會。由此，殘留在處理容器ll內(nèi)的第一鍍覆處理液通過液體流出機構(gòu)全部從處理容器11排出。
從處理容器11排出的第一鍍覆處理液被承接槽15承接，從排出口 153朝承接容器31落下，并經(jīng)由排出管32和入口211流入第一箱21內(nèi)。S卩，被排出的第一鍍覆處理液返回第一箱21。
另外，在第一表面處理液供給機構(gòu)22的動作時和非動作時，第一箱21內(nèi)的第一鍍覆處理液經(jīng)由第一供給管222、過濾器221和返回管223返回第一箱21。因此，在裝置IO動作時，第一箱21內(nèi)的第一鍍覆處理液始終被過濾器221凈化。第一陽極電極退避工序
接著，第一支撐機構(gòu)43進行與上述第一陽極電極裝填工序相反的動作。即，在圖32的狀態(tài)下第一支撐機構(gòu)43動作時，缸驅(qū)動部435使筒體433上升。由此，如圖31所示，臂431與第一陽極電極41一起上升，第一陽極電極41位于蓋體16的開口 161的上方。接著，轉(zhuǎn)動驅(qū)動部434使筒體433朝圖31的箭頭方向旋轉(zhuǎn)規(guī)定距離。由此，臂431與第一陽極電極41 一起旋轉(zhuǎn)，第一陽極電極41如圖30所示位于第一退避部45的上方。然后，缸驅(qū)動部435使筒體433下降。由此，第一陽極電極41如圖29所示退入第一退避部45內(nèi)。排放機構(gòu)第二動作工序接著，排放機構(gòu)3動作。即，承接容器31轉(zhuǎn)動，連結(jié)管33位于第三箱27的入口271上方，利用缸驅(qū)動部34下降，從而與入口271連結(jié)。[8]第二清洗工序
接著，電動機13、清洗水供給機構(gòu)、第一清洗機構(gòu)5和第二清洗機構(gòu)8動作，進行與上述第一清洗工序相同的作業(yè)。[9]排放機構(gòu)第三動作工序
接著，排放機構(gòu)3動作。g卩，承接容器31轉(zhuǎn)動，連結(jié)管33位于第二箱24的入口241上方，利用缸驅(qū)動部34下降，從而與入口241連結(jié)。[IO]第二陽極電極裝填工序
接著，第二支撐機構(gòu)48動作。另外，在第二支撐機構(gòu)48動作之前，第二陽極電極46處于退入第二退避部49的狀態(tài)。
第二支撐機構(gòu)48與第一支撐機構(gòu)43同樣地動作。即，在第二支撐機構(gòu)48動作時，缸驅(qū)動部485使筒體483上升。由此，臂481與第二陽極電極46一起上升，第二陽極電極46從第二退避部49朝上方出來。接著，轉(zhuǎn)動驅(qū)動部484使筒體483旋轉(zhuǎn)規(guī)定距離。由此，臂481與第二陽極電極46—起旋轉(zhuǎn)，第二陽極電極46位于蓋體16的開口 161的上方。然后，缸驅(qū)動部485使筒體483下降。由此，第二陽極電極46被裝填在處理容器11內(nèi)。第二電鍍處理工序
接著，在對處理容器11的電極環(huán)112通電的同時，電動機13和第二表面處理液供給機構(gòu)25動作。
在第二表面處理液供給機構(gòu)25動作時，第二箱24內(nèi)的第二鍍覆處理液經(jīng)由第一供給管252、過濾器251、第二供給管254和供給通路440，從噴嘴439流入處理容器ll內(nèi)。另一方面，此時，處理容器ll處于旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，第二鍍覆處理液逐漸地通過液體流出機構(gòu)從處理容器11排出。
另一方面，在處理容器ll中，電流通過第二鍍覆處理液在第二陽極電極46與電極環(huán)112之間流動，利用第二鍍覆處理液對因處理容器11的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力而與電極環(huán)112接觸的小零件進行鍍覆處理。由于處理容器11 一邊反復進行正轉(zhuǎn)和逆轉(zhuǎn)一邊旋轉(zhuǎn)，因而小零件不斷地與電極環(huán)112接觸，因此，可對所有的小零件進行均勻的鍍覆處理。
然后，第二表面處理液供給機構(gòu)25進行了規(guī)定時間的上述鍍覆處理后，停止其動作。另一方面，處理容器ll旋轉(zhuǎn)一小會。由此，殘留在處理容器ll內(nèi)的第二鍍覆處理液通過液體流出機構(gòu)全部從處理容器11排出。
從處理容器11排出的第二鍍覆處理液被承接槽15承接，從排出口 153朝承接容器31落下，并經(jīng)由排出管32和入口 241流入第二箱24內(nèi)。即，被排出的第二鍍覆處理液返回第二箱24。
另外，在第二表面處理液供給機構(gòu)25的動作時和非動作時，第二箱24內(nèi)的第二鍍覆處理液經(jīng)由第一供給管252、過濾器251和返回管253返回第二箱24。因此，在裝置IO動作時，第二箱24內(nèi)的第二鍍覆處理液始終被過濾器251凈化。第二陽極電極退避工序
接著，第二支撐機構(gòu)48進行與上述第二陽極電極裝填工序相反的動作。即，在第二支撐機構(gòu)48動作時，缸驅(qū)動部485使筒體483上升。由此，臂481與第二陽極電極46 —起上升，第二陽極電極46位于蓋體16的開口 161的上方。接著，轉(zhuǎn)動驅(qū)動部484使筒體483旋轉(zhuǎn)規(guī)定距離。由此，臂481與第二陽極電極46—起旋轉(zhuǎn)，第二陽極電極46位于第二退避部49的上方。然后，缸驅(qū)動部485使筒體483下降。由此，使第二陽極電極46退入第二退避部49內(nèi)。排放機構(gòu)第四動作工序
接著，排放機構(gòu)3動作。g卩，承接容器31轉(zhuǎn)動，連結(jié)管33位于第三箱27的入口271上方，利用缸驅(qū)動部34下降，從而與入口271連結(jié)。[14]第三清洗工序
接著，電動機13、清洗水供給機構(gòu)、第一清洗機構(gòu)5和第二清洗機構(gòu)8動作，進行與上述第一清洗工序相同的作業(yè)。[15]蓋體打開動作工序
接著，開閉機構(gòu)7動作，蓋體16從承接槽15離開。即，在圖27的狀態(tài)下開閉機構(gòu)7動作時，柱751和臂71與水平支撐軸73和支撐體740 —起上升，滾筒72也上升。此時，蓋體16也以水平狀態(tài)從承接槽15離開而上升。 一旦柱751上升了距離H，如圖28所示，滾筒72便從下方與抵接體76抵接。然后，柱751進一步上升，滾筒72在與抵接體76抵接的狀態(tài)下轉(zhuǎn)動，臂71以滾筒72為支點逐漸朝上方傾斜。由此，蓋體16成為圖26的狀態(tài)、即打開的狀態(tài)。另外，臂71穿過支撐體740的缺口部7510傾斜。然后，使裝置10的動作停止。
之后，利用裝拆機構(gòu)將收容有小零件的處理容器11從垂直轉(zhuǎn)軸12拆下。然后，從處理容器ll取出小零件，使其干燥。
由此，能在小零件上形成兩層鍍覆膜。下層的鍍覆膜是由第一鍍覆處理液形成的，上層的鍍覆膜是由第二鍍覆處理液形成的。例如，在第一鍍覆處理液為鎳鍍覆液的情況下，下層的鍍覆膜是鎳膜，在第二鍍覆處理液為錫鍍覆液的情況下，上層的鍍覆膜是錫膜。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu)的裝置10，能發(fā)揮如下的作用效果。
(1) 在第一電鍍處理工序中，能對小零件進行第一電鍍處理，在第二電鍍處理工序中，能對進行了第一電鍍處理的小零件進行第二電鍍處理。因此，能在小零件上形成由兩層形成的鍍覆膜。
(2) 在第二清洗工序中，通過清洗水供給機構(gòu)的動作，能對處理容器11的內(nèi)表面和小零件進行清洗，通過第一清洗機構(gòu)5的動作，能對蓋體16的內(nèi)表面162和處理容器11的外表面119進行清洗，另外，通過第二清洗機構(gòu)8的動作，能對承接容器31的內(nèi)表面進行清洗。因此，將第一鍍覆處理液回收至第一箱21后，能將第一鍍覆處理液從處理容器11的內(nèi)部、蓋體16的內(nèi)表面162、處理容器11的外表面119和承接容器31的內(nèi)表面干凈地沖走并排出。因此，在第二鍍覆處理工序中，能將第二鍍覆處理液與第一鍍覆處理液不相混地嚴密分開，將第二鍍覆處理液回收至第二箱24。
另外，在第二清洗工序中，第一清洗機構(gòu)5也對蓋體16的內(nèi)表面162和處理容器11的外表面119進行清洗，因而能將飛散的第一鍍覆處理液干凈地沖走。處理容器11 一邊旋轉(zhuǎn)一邊被清洗，因此，因該旋轉(zhuǎn)而飛起的清洗水撞擊蓋體16的內(nèi)表面162和承接槽15的內(nèi)表面，因而能將飛散的第一鍍覆處理液干凈地沖走。因此，能有效地分別回收第一鍍覆處理液和第二鍍覆處理液。此外，第二清洗機構(gòu)8也對承接容器31的內(nèi)表面進行清洗，因而能將附著在
承接容器31的內(nèi)表面上的第一鍍覆處理液干凈地沖走，因此，能更有效地分
別回收第一鍍覆處理液和第二鍍覆處理液。
(3) 在第一電鍍處理工序中，通過第一表面處理液供給機構(gòu)22的動作，使用第一箱21內(nèi)的第一鍍覆處理液進行處理，并且，通過排放機構(gòu)第一動作工序，使連結(jié)管33與第一箱21的入口211連結(jié)，因此，能使被使用后的第一鍍覆處理液返回第一箱21。由此，能重復使用第一鍍覆處理液。另外，在第二電鍍處理工序中，通過第二表面處理液供給機構(gòu)25的動作，使用第二箱24內(nèi)的第二鍍覆處理液進行處理，并且，通過排放機構(gòu)第三動作工序，使連結(jié)管33與第二箱24的入口 241連結(jié)，因此，能使被使用后的第二鍍覆處理液返回第二箱24。由此，能重復使用第二鍍覆處理液。
(4) 由于包括蓋體16，因此能防止第一電鍍處理工序中第一鍍覆處理液的飛散，能防止第二電鍍處理工序中第二鍍覆處理液的飛散，并能防止第一 第三清洗工序中清洗水的飛散。
(5) 蓋體16在將承接槽15封住的狀態(tài)下，其周壁163的下端164與樹脂體154抵接。因此，能防止表面處理液和清洗水朝承接槽15外漏出。
(6) 蓋體16在周壁163的下端164的內(nèi)表面上具有凸緣165。因此，能防止表面處理液和清洗水沾在蓋體16的周壁163與承接槽15的周壁152間的重疊部分上。因此，能防止表面處理液和清洗水朝承接槽15外漏出。
(7) 由于同時具有樹脂體154和凸緣165，因此凸緣165能防止沿蓋體16的內(nèi)表面162落下的清洗水附著在樹脂體154與蓋體16的下端164抵接的部分上。因此，能更可靠地防止清洗水和表面處理液朝蓋體16和承接槽15外流出。
(8) 由于垂直轉(zhuǎn)軸12被承接槽15的內(nèi)周壁155從承接槽15隔開，因而能防止表面處理液和清洗水朝垂直轉(zhuǎn)軸12側(cè)漏出。而且，由于與垂直轉(zhuǎn)軸12的上端連結(jié)的托板141在下表面上具有圍繞內(nèi)周壁155的上端部的周壁143,因而能防止表面處理液和清洗水從托板141與內(nèi)周壁155之間的間隙156(圖6)朝垂直轉(zhuǎn)軸12側(cè)漏出，因此，能可靠地防止表面處理液和清洗水朝垂直轉(zhuǎn)軸12側(cè)的漏出。
(9) 由于能在第一陽極電極41與處理容器11的電極環(huán)112之間通電，因而能進行第一電鍍處理。由于能在第二陽極電極46與處理容器11的電極環(huán)112之間通電，因而能進行第二電鍍處理。因此，能進行兩種電鍍處理。
(10) 在蓋體關(guān)閉動作工序中，通過開閉機構(gòu)7的動作，能將蓋體16自動關(guān)閉。在蓋體打開動作工序中，通過開閉機構(gòu)7的動作，能將蓋體16自動打開。而且，在蓋體打開動作工序中，能將蓋體16打開至朝上方傾斜的較高的位置，因而能使蓋體16位于不會妨礙處理容器11朝垂直轉(zhuǎn)軸12進行裝拆作業(yè)的位置。
(11) 在蓋體關(guān)閉動作工序中，蓋體16從承接槽15的稍上方以水平狀態(tài)下降，將承接槽15封住。由此，能將蓋體16的周壁163較深地插入承接槽15內(nèi)。因此，能利用蓋體16更可靠地封住承接槽15，能防止處理液和清洗水朝外部飛散。
(12) 在蓋體關(guān)閉動作工序和蓋體打開動作工序中，蓋體16在承接槽15的稍上方成為水平狀態(tài)，因而能防止蓋體16 —邊升降一邊傾斜時液面?zhèn)鞲衅?8碰撞到處理容器11的開口 115的邊緣。
(13) 在第一電鍍處理工序中，在第一表面處理液供給機構(gòu)22的動作時和非動作時，能使第一箱21內(nèi)的第一鍍覆處理液經(jīng)由過濾器221返回第一箱21內(nèi)。因此，能凈化第一箱21內(nèi)的第一鍍覆處理液。在第二電鍍處理工序中，在第二表面處理液供給機構(gòu)25的動作時和非動作時，能使第二箱24內(nèi)的第二鍍覆處理液經(jīng)由過濾器251返回第二箱24內(nèi)。因此，能凈化第二箱24內(nèi)的第二鍍覆處理液。因此，能重復使用清凈的表面處理液。
(14) 在第一陽極電極裝填工序中，通過第一支撐機構(gòu)43的動作，能將第一陽極電極41朝處理容器11內(nèi)自動裝填。在第一陽極電極退避工序中，通過第一支撐機構(gòu)43的動作，能使第一陽極電極41朝第一退避部45內(nèi)自動退避。即，在不使用第一陽極電極41時，能預先使第一陽極電極41退入第一退避部45，因而能防止第一陽極電極41妨礙處理容器11的裝拆作業(yè)等，并能防止附著在第一陽極電極41上的第一鍍覆處理液弄臟處理容器11的周邊。(15) 在第二陽極電極裝填工序中，通過第二支撐機構(gòu)48的動作，能將第 二陽極電極46朝處理容器11內(nèi)自動裝填。在第二陽極電極退避工序中，通過 第二支撐機構(gòu)48的動作，能使第二陽極電極46朝第二退避部49內(nèi)自動退避。 即，在不使用第二陽極電極46時，能預先使第二陽極電極46退入第二退避部 49，因而能防止第二陽極電極46妨礙處理容器11的裝拆作業(yè)等，并能防止附 著在第二陽極電極46上的第二鍍覆處理液弄臟處理容器11的周邊。
(16) 第一陽極電極41通過在第一陽極端子411上可自由裝拆地安裝第一 陽極殼體412而構(gòu)成，因此，通過拆下第一陽極殼體412，能容易地進行第一 陽極電極41的維護。第二陽極電極46也一樣。
(17) 在裝置主體100的上室101中，能使滴落在底面1011上的鍍覆處理 液和清洗水朝著排出口 1012流動。因此，能容易地進行底面1011的清掃。
另外，較為理想的是在第一電鍍處理工序和第二電鍍處理工序中進行所謂 的"脫泡運行"。 一般而言，在表面處理液含有表面活化劑時，有時表面處理 中會產(chǎn)生氣泡，影響表面處理。因此，在確認有氣泡產(chǎn)生時，通過"脫泡運行"， 即一邊繼續(xù)表面處理液的供給一邊停止朝處理容器11的通電并使處理容器11 的旋轉(zhuǎn)變慢，使表面處理液與氣泡一起從處理容器11流出。由此，能在不受 氣泡妨礙的情況下良好地進行表面處理。
另外，在本實施方式的表面處理裝置中，也可采用如下的變形結(jié)構(gòu)。
(A)是第一變形例。如圖33和圖34所示，第一清洗機構(gòu)5使用一根管59 構(gòu)成。圖34是圖33的管59的俯視圖。在兩圖中，清洗水供給機構(gòu)未圖示。 即，管59由相當于圖8的供水通路53的圓形部591、相當于圖8的供水通路 54的直線部592構(gòu)成。另外，在圓形部591中，在縱截面上部附近形成有許多 噴出口 5911(相當于狹縫51)，在直線部592中，在縱截面最下部形成有一個 以上的噴出口 5921(相當于噴出口 52)。
在該結(jié)構(gòu)中，從與外部的清洗水供給源連結(jié)的供給管提供給管59的清洗 水從噴出口 51朝蓋體16的內(nèi)表面162噴出，并從噴出口 52朝處理容器11的 外表面119噴出。利用該結(jié)構(gòu)也能發(fā)揮與圖8 圖10所示的第一清洗機構(gòu)5相同的作用效
果。而且，能簡化第一清洗機構(gòu)5的結(jié)構(gòu)。
(B) 是第二變形例。如圖35和圖36所示，第一清洗機構(gòu)5還具有第三噴 出部。圖36是圖35的XXXVI向視圖。第三噴出部由噴出口 611構(gòu)成，該噴出 口 611形成在沿著蓋體16的外周緣設(shè)置的供水通路61上。
在該結(jié)構(gòu)中，從與外部的清洗水供給源連結(jié)的供給管提供給供水通路61 的清洗水從噴出口 611朝蓋體16的周壁163的內(nèi)表面噴出。
利用該結(jié)構(gòu)也能發(fā)揮與圖8 圖10所示的第一清洗機構(gòu)5相同的作用效 果。而且，能可靠地清洗蓋體16的周壁163的內(nèi)表面。
(C) 是第三變形例。如圖37所示，第一清洗機構(gòu)5具有多個供水通路54。 各供水通路54從供水通路53沿徑向延伸。在各供水通路54上形成有多個噴 出口 52。
在該結(jié)構(gòu)中，從與外部的清洗水供給源連結(jié)的供給管供給來的清洗水朝各 供水通路54流動，并從各供水通路54的噴出口 52朝處理容器11的外表面119 噴出。
利用該結(jié)構(gòu)也能發(fā)揮與圖8 圖10所示的第一清洗機構(gòu)5相同的作用效 果。而且，能有效清洗處理容器ll的外表面119。
(D) 是第四變形例。如圖38和圖39所示，第一清洗機構(gòu)5具有供水通路 54，該供水通路54設(shè)置成從蓋體16的徑向外側(cè)圍繞供水通路53。圖39是圖 38的XXXIX向視圖。
在該結(jié)構(gòu)中，從與外部的清洗水供給源連結(jié)的供給管供給來的清洗水，從 沿周向延伸的供水通路54的噴出口 52朝處理容器11的外表面119噴出。
利用該結(jié)構(gòu)也能發(fā)揮與圖8 圖10所示的第一清洗機構(gòu)5相同的作用效 果。而且，能在整個圓周上可靠地清洗處理容器11的外表面119。
(E) 是第五變形例。這個例子是將清洗水供給機構(gòu)與第一清洗機構(gòu)形成為 一體。如圖40所示，第一清洗機構(gòu)5的供水通路53、 54與清洗水供給機構(gòu)的 噴嘴57連結(jié)。
在該結(jié)構(gòu)中，從與外部的清洗水供給源連結(jié)的供給管供給來的清洗水從狹縫51朝蓋體16的內(nèi)表面162噴出，并從噴出口 52朝處理容器11的外表面119 噴出，此外，還從噴嘴57注入處理容器11內(nèi)。
利用該結(jié)構(gòu)也能發(fā)揮與圖8 圖10所示的第一清洗機構(gòu)5相同的作用效 果。而且，由于能省去清洗水供給機構(gòu)，因而能簡化裝置結(jié)構(gòu)。
另外，在上述例中，作為清洗水僅僅供給水，但也可將高壓空氣與水混合 后噴出。這樣，在空氣壓力的作用下，水和空氣能強有力地噴出，因而，清洗 效果更好。
(A)是第一變形例。圖41是開閉機構(gòu)7的立體圖，圖42 圖45是按順序 表示其動作的側(cè)剖視圖。該開閉機構(gòu)7也具有臂71、滾筒(旋轉(zhuǎn)體)72、水平支 撐軸73、支撐機構(gòu)、升降機構(gòu)75、抵接體。
在圖42中，臂71由從蓋體16沿橫向延伸的前臂部711、與前臂部711 正交地朝上方延伸的后臂部712構(gòu)成。滾筒72設(shè)置在后臂部712的上端。滾 筒72與后臂部712正交，并能繞水平的軸線自由旋轉(zhuǎn)地得到支撐。
升降機構(gòu)75具有垂直的柱751、缸驅(qū)動部752、并排設(shè)置的兩根垂直的 滑動軸753、 754。缸驅(qū)動部752位于柱751的下側(cè)。柱751位于兩根滑動軸 753、 754之間。升降機構(gòu)75通過使缸驅(qū)動部752動作，通過水平支撐軸73 使柱751沿著兩根滑動軸753、 754升降。
水平支撐軸73與臂71正交，在前臂部711與后臂部712的交叉部將臂 71可自由轉(zhuǎn)動地支撐，水平支撐軸73可自由轉(zhuǎn)動地支撐在柱751的上端部。 另外，水平支撐軸73延伸至兩側(cè)的滑動軸753、 754，相對于滑動軸753、 754 可滑動地連結(jié)。
在柱751的兩側(cè)設(shè)置有具有垂直壁781和水平壁782的框體78。 g卩，設(shè) 置有兩個框體78。另一方面，滾筒72從后臂部712的上端延伸至兩側(cè)的框體 78。垂直壁781被設(shè)置成在滾筒72從后方與其抵接時使前臂部711成為水平 狀態(tài)。水平壁782從垂直壁781朝后方延伸。水平壁782被設(shè)置于前臂部711 以水平狀態(tài)上升規(guī)定距離H(圖42)時，滾筒72從下方與水平壁782抵接的高 度位置。垂直壁781構(gòu)成該開閉機構(gòu)7的支撐機構(gòu)，水平壁782構(gòu)成該開閉機構(gòu)7的抵接體。
上述結(jié)構(gòu)的開閉機構(gòu)7如下地進行打開動作。
在蓋體16關(guān)閉的狀態(tài)、即圖42的狀態(tài)下開閉機構(gòu)7動作時，如圖43所 示，柱751和臂71與水平支撐軸73—起上升，滾筒72也上升。此時，蓋體 16也以水平狀態(tài)從承接槽15離開而上升。 一旦柱751上升了距離H，滾筒72 便從下方與水平壁782抵接。然后，如圖44所示，柱751進一步上升，滾筒 72 —邊旋轉(zhuǎn)一邊沿著水平壁782朝后方移動，前臂部711以水平支撐軸73為 支點逐漸朝上方傾斜。由此，蓋體16成為圖45的狀態(tài)、即打開的狀態(tài)，與設(shè) 置在后方的支撐部件79抵接，從而防止其倒向后方。
利用上述結(jié)構(gòu)的開閉機構(gòu)7也能發(fā)揮與圖15所示的開閉機構(gòu)7相同的作 用效果。
(B) 是第二變形例。圖46是開閉機構(gòu)7的側(cè)視圖。該開閉機構(gòu)7具有臂 71、升降機構(gòu)75。
升降機構(gòu)75具有上下架設(shè)的鏈755、鏈驅(qū)動機構(gòu)756、上下延伸的滑動 軸757。鏈755架設(shè)在上部鏈輪7551與下部鏈輪7552之間。
臂71從蓋體16沿橫向延伸，在另一端部通過軸承713設(shè)置成可沿著滑動 軸757滑動。另外，軸承713與鏈755連結(jié)。
在該開閉機構(gòu)7中，在鏈驅(qū)動機構(gòu)756動作時，鏈755上下運動，相應地， 臂71沿著滑動軸757上下運動，其結(jié)果是，蓋體16以水平狀態(tài)上下運動。由 此，進行蓋體16的開閉。
利用上述結(jié)構(gòu)的開閉機構(gòu)7也能發(fā)揮與圖15所示的開閉機構(gòu)7相同的作 用效果。而且，能極大程度地簡化開閉機構(gòu)7的結(jié)構(gòu)。
(C) 是第三變形例。圖47是幵閉機構(gòu)7的立體圖。該開閉機構(gòu)7具有臂 71、升降機構(gòu)75、橫向移動機構(gòu)91。
橫向移動機構(gòu)91具有橫向移動體911、軌道912。軌道912沿著與臂 71正交的方向延伸。橫向移動體911設(shè)置成在驅(qū)動源(未圖示)的作用下沿著軌 道912移動。
升降機構(gòu)75在橫向移動體911上具有上下延伸的柱751、使柱751上下運動的缸驅(qū)動機構(gòu)752、上下延伸的滑動軸757。柱751的上端與臂71的中途 連結(jié)。
臂71從蓋體16沿橫向延伸，在另一端部通過軸承713設(shè)置成可沿著滑動 軸757滑動。
該開閉機構(gòu)7的打開動作如下進行。即，在缸驅(qū)動機構(gòu)752動作時，臂 71沿著滑動軸757上升規(guī)定距離(例如上述H)，其結(jié)果是，蓋體16以水平狀 態(tài)上升上述規(guī)定距離。之后，橫向移動機構(gòu)91動作，橫向移動體91沿著軌道 912移動。由此，臂71與蓋體16—起移動，蓋體16從處理容器11的上方朝 橫向移動。即，蓋體16成為打開狀態(tài)。另外，關(guān)閉動作與上述動作相反。
利用上述結(jié)構(gòu)的開閉機構(gòu)7也能發(fā)揮與圖15所示的開閉機構(gòu)7相同的作 用效果。而且，由于能將蓋體16從處理容器11完全拉開，因而能實現(xiàn)可靠的 打開狀態(tài)。
(D)是第四變形例。圖48是開閉機構(gòu)7的立體圖。該開閉機構(gòu)7具有臂 71、升降機構(gòu)75、轉(zhuǎn)動機構(gòu)92。
升降機構(gòu)75具有上下延伸的柱751、使柱751上下運動的缸驅(qū)動機構(gòu) 752、上下延伸的滑動軸757、升降板758。柱751的上端固定在升降板758的 下表面上。升降板758設(shè)置成沿著滑動軸757上下運動。
臂71從蓋體16沿橫向延伸，在另一端部通過軸承713設(shè)置成可沿著滑動 軸757滑動。在軸承713的周面上形成有齒輪7131。臂71和軸承713載放在 升降板758上，可相對于升降板758滑動。
轉(zhuǎn)動機構(gòu)92具有固定在升降板758上的電動機921、在電動機921的 驅(qū)動下旋轉(zhuǎn)的齒輪922。齒輪922與軸承713的齒輪7131連結(jié)。
該開閉機構(gòu)7的打開動作如下進行。S卩，在缸驅(qū)動機構(gòu)752動作時，升降 板758沿著滑動軸757上升規(guī)定距離(例如上述H)，其結(jié)果是，載放在升降板 758上的臂71上升上述規(guī)定距離，蓋體16以水平狀態(tài)上升上述規(guī)定距離。之 后，轉(zhuǎn)動機構(gòu)92動作，軸承713轉(zhuǎn)動，臂71轉(zhuǎn)動，由此，蓋體16從處理容 器ll的上方沿橫向一邊走圓弧狀軌跡一邊移動。即，蓋體16成為打開狀態(tài)。 另外，關(guān)閉動作與上述動作相反。利用上述結(jié)構(gòu)的開閉機構(gòu)7也能發(fā)揮與圖15所示的開閉機構(gòu)7相同的作 用效果。而且，由于能將蓋體16從處理容器11完全拉開，因而能實現(xiàn)可靠的 打開狀態(tài)。
(A) 是第一變形例。如圖49所示，使用柔性軟管37來取代圖20的由承接 容器31和排出管32構(gòu)成的排出部件。g卩，柔性軟管37的上端與承接槽15的 排出口 153連結(jié)，在柔性軟管37的下端連結(jié)有連結(jié)管33。連結(jié)管33通過叉 381被轉(zhuǎn)臺382的中心軸383支撐，隨著轉(zhuǎn)臺382的轉(zhuǎn)動與圖20時同樣地轉(zhuǎn)動。 轉(zhuǎn)臺382被桿384支撐，在缸驅(qū)動部385的作用下升降。
在該結(jié)構(gòu)中，連結(jié)管33轉(zhuǎn)動至任意的箱的入口之上，通過缸驅(qū)動部385 的動作下降，與該入口連結(jié)。
利用該結(jié)構(gòu)也能發(fā)揮與圖20所示的排放機構(gòu)3相同的作用效果。而且， 能簡化排放機構(gòu)3的結(jié)構(gòu)，此外，與圖20時相比，能降低轉(zhuǎn)動和升降所需的 功率。
(B) 是第二變形例。如圖50所示，連結(jié)管33設(shè)置在箱的入口上，而不是 設(shè)置在排出管32上。在圖50中，連結(jié)管33設(shè)置成可相對于第一箱21的入口 211上下自由滑動，通過缸驅(qū)動部34的作用相對于入口 211上下運動。連結(jié)管 33也分別同樣地設(shè)置在第二箱24的入口 241和第三箱27的入口 271上。
在該結(jié)構(gòu)中，承接容器31轉(zhuǎn)動，如圖51所示，排出管32的鉛垂部322 位于例如第一箱21的入口211上，在缸驅(qū)動部34的作用下，連結(jié)管33上升， 入口 211通過連結(jié)管33與排出管32連結(jié)。
利用該結(jié)構(gòu)也能發(fā)揮與圖20所示的排放機構(gòu)3相同的作用效果。
(A)是第一變形例。圖52是表示第一陽極電極41及其支撐機構(gòu)43、第二 陽極電極46及其支撐機構(gòu)48的側(cè)視圖。第一陽極電極41的第一支撐機構(gòu)43 具有沿橫向延伸的臂441、上下延伸的支撐體442、抵接體443。
臂441在一端上支撐有第一陽極電極41，在另一端的上部具有滾筒444。 支撐體442具有缸驅(qū)動機構(gòu)445、從缸驅(qū)動機構(gòu)445朝下方延伸的柱446、固定在柱446的下端部上的塊體447。臂441在接近滾筒443的位置能繞水平 支撐軸448轉(zhuǎn)動地支撐在塊體447的下端。但是，臂441的轉(zhuǎn)動受到抑制，以 使第一陽極電極41不會從臂441的水平位置下降。
抵接體443設(shè)置于臂441與第一陽極電極41 一起以水平狀態(tài)上升了規(guī)定 距離H時，滾筒444從下方與抵接體443抵接的位置。
另外，在第一支撐機構(gòu)43上設(shè)置有第一表面處理液供給機構(gòu)22的噴嘴 439。噴嘴439在第一陽極電極41的附近被臂441支撐。延伸至噴嘴439的供 給通路440固定在塊體447和缸驅(qū)動機構(gòu)445上。塊體447與缸驅(qū)動機構(gòu)445 之間的供給通路440的部分4401具有褶皺構(gòu)造，因此伸縮自如。
第二陽極電極46的第二支撐機構(gòu)48也具有與第一支撐機構(gòu)43相同的構(gòu) 造。即，第二陽極電極46具有臂481、支撐體482、抵接體483。臂481具 有滾筒484。支撐體482具有缸驅(qū)動機構(gòu)485、柱486、塊體487。臂481能 繞水平支撐軸488轉(zhuǎn)動。第二表面處理液供給機構(gòu)24的噴嘴489被臂481支 撐。延伸至噴嘴489的供給通路460在塊體487與缸驅(qū)動機構(gòu)485之間的部分 4601具有褶皺構(gòu)造，因此伸縮自如。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu)的陽極電極支撐機構(gòu)，由于只需使柱上下運動就能裝拆陽極 電極，因而能提高作業(yè)效率。
(B)是第二變形例。圖53是僅使用一個陽極電極時的支撐機構(gòu)的縱剖視 圖。此處，僅使用一個陽極電極時是指只進行一種表面處理的情況或者使用不 溶性陽極的情況。
在該支撐機構(gòu)中，由陽極端子931和陽極殼體932構(gòu)成的陽極電極93設(shè) 置在蓋體16的中央部。將陽極殼體932封住的蓋部933也將蓋體16的開口 161 封住。
另外，在陽極殼體932內(nèi)設(shè)置有用于供給表面處理液的噴嘴94、用于供 給清洗水的噴嘴95。利用來自噴嘴95的清洗水對陽極殼體932內(nèi)進行清洗。 陽極端子931和噴嘴94、 95貫穿蓋部933而固定在蓋部933上。
另外，在第一清洗機構(gòu)5的供水通路53上設(shè)置有朝徑向內(nèi)側(cè)開口的狹縫59。根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，由于能在開閉蓋體16的同時進行陽極電極93的裝拆，因 而能進一步提高作業(yè)效率。而且，由于能省去僅用于支撐陽極電極的支撐機構(gòu)， 因而能簡化裝置的結(jié)構(gòu)。此外，由于蓋體16的開口 161被蓋部933封住，因 而能防止表面處理液經(jīng)由開口 161飛散。
(C)是第三變形例。圖54是僅使用一個陽極電極時的支撐機構(gòu)的縱剖視 圖。此處，僅使用一個陽極電極時是指使用不溶性陽極的情況。由于使用不溶 性陽極時不必供給金屬離子，因而不需要用于保持作為金屬離子的供給源的金 屬的陽極殼體。
因此，與圖53時相比，該支撐機構(gòu)省去了陽極殼體和噴嘴95。 利用上述結(jié)構(gòu)也能發(fā)揮與圖53時相同的效果。
另外，本發(fā)明的表面處理裝置不僅能用于進行上述第一電鍍處理和第二電 鍍處理這兩種電鍍處理，還能用于進行下面所示的表面處理。
作為表面處理，除了電鍍處理以外，還有前處理、后處理、無電解鍍覆處 理、電沉積涂敷處理、復合鍍覆處理等。以下對各處理進行簡單的說明。前處理
脫脂處理…表面處理液是堿性脫脂劑。不需要通電。該處理除去小零件表 面的油分。
電解脫脂處理…表面處理液是堿性溶液。需要通電。在該處理中，"陰極 電解法"將小零件作為陰極，利用從陰極產(chǎn)生的氫氣來除去小零件表面的污漬， "陽極電解法"將小零件作為陽極，利用從陽極產(chǎn)生的氧氣來除去小零件表面 的污漬，"PR電解法"通過使電流的方向周期性顛倒來發(fā)揮"陰極電解法"和 "陽極電解法"的長處，除去小零件表面的污漬。
滾光處理…表面處理液是水，但也可不使用。不需要通電。該處理通過在 處理容器內(nèi)加入用于防止損傷的介質(zhì)、拋光劑和小零件并使它們混合，來拋光 小零件表面。使用水時為濕式拋光，不使用水時為干式拋光。
堿浸漬清洗處理…表面處理液是堿性溶液。不需要通電。該處理除去小零 件表面的污漬。
酸洗處理…表面處理液是酸液。不需要通電。該處理除去小零件表面的銹跡和異物等，或者通過使小零件表面腐蝕來提高小零件表面與鍍覆膜的緊貼 性。
酸電解處理…表面處理液是酸液。需要通電。該處理除去小零件表面的嚴 重銹跡。有將小零件作為陰極的方法和將小零件作為陽極的方法。
化學拋光處理…表面處理液是化學拋光液。不需要通電。該處理通過表面 處理液的作用使小零件表面的凸部溶解得比凹部多，從而平滑小零件表面。
電解拋光處理…表面處理液是電解拋光液。需要通電。該處理將小零件作 為陽極，使小零件表面的凸部過量溶解，從而平滑小零件表面。
中和處理…表面處理液是中和液。不需要通電。該處理中和小零件表面。后處理
脫水防變色處理一表面處理液是水溶性硅或表面活化劑等占數(shù)％的水溶 液。不需要通電。該處理通過促進小零件的干燥來防止小零件表面產(chǎn)生污垢和 變色。
水溶性樹脂處理…表面處理液是使水溶性樹脂溶解的水溶液。不需要通 電。該處理通過使小零件浸漬在表面處理液中后干燥，在小零件表面上形成有 機防銹膜。
鉻酸鹽處理…表面處理液是含有鉻酸和無機酸的液體。不需要通電。該處 理通過使小零件浸漬在表面處理液中，在小零件表面上形成鉻酸鹽膜。該處理 主要在鋅鍍覆處理后進行，通過在鋅鍍覆膜的表面上形成鉻酸鹽膜，提高鋅鍍 覆膜的耐腐蝕性，并使外觀更美觀。無電解鍍覆處理
浸鍍處理…表面處理液是含有銅、鎳、錫、金等離子的溶液。不需要通電。 該處理通過使作為賤金屬的小零件浸漬在含有貴金屬離子的溶液中，使小零件 表面溶解所釋放出的電子朝貴金屬離子轉(zhuǎn)移，在小零件表面上形成貴金屬的 膜。
化學鍍覆處理…表面處理液是含有銅、鎳、錫、金等離子和還原劑等的溶 液。不需要通電。該處理通過使還原劑氧化所釋放出的電子朝金屬離子轉(zhuǎn)移， 在小零件表面上形成金屬的膜。[IV] 電沉積涂敷處理
陰離子電沉積涂敷處理…表面處理液是含有分散在水中的離子性樹脂粒 子的電沉積涂料。需要通電。該處理通過將小零件浸漬在電沉積涂料中，將小 零件作為陽極并對兩者施加電壓，使樹脂粒子靠近小零件，在小零件表面上形 成樹脂膜。
陽離子電沉積涂敷處理…除了將小零件作為陰極這點以外，與陰離子電沉 積涂敷處理相同。 復合鍍覆處理
復合鍍覆處理…表面處理液是含有金屬離子和非金屬物質(zhì)的復合鍍覆液。 需要通電。該處理通過使小零件浸漬在表面處理液中并通電，在小零件表面上 形成由金屬與非金屬物質(zhì)混合而成的膜。
化學復合鍍覆處理…除了不通電這點以外，與復合鍍覆處理相同。 另外，本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)表面處理裝置在進行需要通電的兩種表面處理時通常 按上述工序進行動作，但在進行不需要通電的兩種表面處理時不需要上述工序
中的[4]、 [6]、 [10]和[12]的工序。另外，在只進行需要通電的一種表面處理 時，不需要上述工序中的[9] [14]的工序。另外，在只進行不需要通電的一 種表面處理時，不需要上述工序中的[9] [14]的工序以及[4]和[6]的工序。 [第二實施方式]
圖55是第二實施方式的表面處理裝置的立體圖。本實施方式涉及用一臺 來進行一種表面處理的、所謂的"單液型"的表面處理裝置。在本實施方式的 表面處理裝置中，在第一實施方式的表面處理裝置中為了使用兩種表面處理液 而各設(shè)置兩個的構(gòu)成要素各設(shè)置一個。本實施方式的其它結(jié)構(gòu)與第一實施方式 相同。在圖55中，與圖1 圖54中的符號相同的符號表示相同或相當?shù)臉?gòu)成 要素。
該裝置的開閉機構(gòu)7是圖41所示的開閉機構(gòu)，排放機構(gòu)3是圖49所示的 排放機構(gòu)。
該裝置的陽極電極96的支撐機構(gòu)97具有臂971、升降機構(gòu)972、橫向 移動機構(gòu)973。陽極電極96被臂971的一端支撐。升降機構(gòu)972具有柱(未圖示)、缸驅(qū)動機構(gòu)974、滑動軸975。臂971與柱的上端連結(jié)，在缸驅(qū)動機構(gòu) 974的作用下沿著滑動軸975升降。橫向移動機構(gòu)973使滑動軸975沿著導向 軸976橫向移動。
在該支撐機構(gòu)97中，在圖55的狀態(tài)下，橫向移動機構(gòu)973動作，滑動軸 975在保持著臂971的狀態(tài)下橫向移動，使陽極電極96位于處理容器(未圖示) 上。然后，升降機構(gòu)972動作，臂971下降。由此，將陽極電極96安裝在處 理容器內(nèi)。另外，通過與上述動作相反的動作，將陽極電極96從處理容器取 出。
本實施方式的表面處理裝置也基于與第一實施方式的表面處理裝置相同 的構(gòu)成要素，與第一實施方式的表面處理裝置同樣地動作。因此，利用本實施 方式的表面處理裝置也能發(fā)揮與第一實施方式的表面處理裝置相同的作用效 果。
工業(yè)上的可利用性
本發(fā)明的表面處理裝置能防止裝置的內(nèi)部和外部被弄臟，因而具有很大的 工業(yè)利用價值。
權(quán)利要求
1.一種表面處理裝置，用于一邊使收容有小零件的處理容器旋轉(zhuǎn)一邊對小零件進行表面處理，其特征在于，包括處理容器，該處理容器具有使液體從內(nèi)向外流出的液體流出機構(gòu)，并能收容小零件；承接槽，該承接槽從下方圍繞處理容器；蓋體，該蓋體設(shè)置成從上方封住承接槽，并在中央具有開口；表面處理液供給機構(gòu)，該表面處理液供給機構(gòu)將表面處理液朝處理容器內(nèi)供給；以及清洗水供給機構(gòu)，該清洗水供給機構(gòu)將清洗水朝處理容器內(nèi)供給，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使表面處理液供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給表面處理液并利用液體流出機構(gòu)使表面處理液從處理容器流出，以對小零件進行表面處理，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使清洗水供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給清洗水并利用液體流出機構(gòu)使清洗水從處理容器流出，以對小零件進行清洗，另外，還包括第一清洗機構(gòu)，該第一清洗機構(gòu)使清洗水朝蓋體的內(nèi)表面和/或處理容器的外表面噴出，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使第一清洗機構(gòu)動作時，對蓋體的內(nèi)表面和/或處理容器的外表面進行清洗。
2. —種表面處理裝置，用于一邊使收容有小零件的處理容器旋轉(zhuǎn)一邊 對小零件進行表面處理，其特征在于，包括處理容器，該處理容器具有使液體從內(nèi)向外流出的液體流出機構(gòu)，并 能收容小零件；承接槽，該承接槽從下方圍繞處理容器；蓋體，該蓋體設(shè)置成從上方封住承接槽，并在中央具有開口； 表面處理液供給機構(gòu)，該表面處理液供給機構(gòu)將表面處理液朝處理容器內(nèi)供給；以及清洗水供給機構(gòu)，該清洗水供給機構(gòu)將清洗水朝處理容器內(nèi)供給， 在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使表面處理液供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給表面處理液并利用液體流出機構(gòu)使表面處理液從處理容器流出，以對小零件進行表面處理，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使清洗水供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi)供給清洗水并利用液體流出機構(gòu)使清洗水從處理容器流出，以對小零件進行清洗，另外，還包括開閉機構(gòu)，該開閉機構(gòu)使蓋體相對于承接槽開閉，開閉機構(gòu)使蓋體以水平狀態(tài)從封住承接槽的位置升降至規(guī)定高度位 置，再使蓋體從該規(guī)定高度位置移動以從承接槽離開。
3. —種表面處理裝置，用于一邊使收容有小零件的處理容器旋轉(zhuǎn)一邊 對小零件進行表面處理，其特征在于，包括處理容器，該處理容器具有使液體從內(nèi)向外流出的液體流出機構(gòu)，并 能收容小零件;承接槽，該承接槽從下方圍繞處理容器；蓋體，該蓋體設(shè)置成從上方封住承接槽，并在中央具有開口； 箱，該箱用于收容表面處理液；表面處理液供給機構(gòu)，該表面處理液供給機構(gòu)將收容在箱內(nèi)的表面處 理液朝處理容器內(nèi)供給；清洗水供給機構(gòu)，該清洗水供給機構(gòu)將清洗水朝處理容器內(nèi)供給；排放機構(gòu)，該排放機構(gòu)使承接槽承接到的表面處理液返回收容該表面 處理液的箱，并使承接槽承接到的清洗水朝排出部流動，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使表面處理液供給機構(gòu)動作時，朝處理容 器內(nèi)供給表面處理液并利用液體流出機構(gòu)使表面處理液從處理容器流出， 以對小零件進行表面處理，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使清洗水供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi) 供給清洗水并利用液體流出機構(gòu)使清洗水從處理容器流出，以對小零件進行清洗，所述排放機構(gòu)具有排出部件，該排出部件與承接槽的排出口連通；連結(jié)管，該連結(jié)管設(shè)置成與排出部件的前端部、或者箱和排出部的各 入口可自由上下運動地連結(jié)；升降部，該升降部使連結(jié)管上下運動；以及 移動機構(gòu)，該移動機構(gòu)使排出部件的前端部移動，使排出部件的前端部移動而配置在箱和排出部中所選的入口之上，并 使連結(jié)管上升或下降，利用連結(jié)管使排出部件與所述入口連結(jié)。
4. 一種表面處理裝置，用于一邊使收容有小零件的處理容器旋轉(zhuǎn)一邊 對小零件進行兩種表面處理，其特征在于，包括處理容器，該處理容器具有使液體從內(nèi)向外流出的液體流出機構(gòu)，并 能收容小零件；承接槽，該承接槽從下方圍繞處理容器；蓋體，該蓋體設(shè)置成從上方封住承接槽，并在中央具有開口； 兩個箱，該兩個箱用于分別收容兩種表面處理液；兩個表面處理液供給機構(gòu)，該兩個表面處理液供給機構(gòu)將收容在兩個 箱內(nèi)的表面處理液分別朝處理容器內(nèi)供給；清洗水供給機構(gòu)，該清洗水供給機構(gòu)將清洗水朝處理容器內(nèi)供給；以及排放機構(gòu)，該排放機構(gòu)使承接槽承接到的表面處理液返回收容該表面 處理液的箱，并使承接槽承接到的清洗水朝排出部流動，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使表面處理液供給機構(gòu)動作時，朝處理容 器內(nèi)供給表面處理液并利用液體流出機構(gòu)使表面處理液從處理容器流出， 以對小零件進行表面處理，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使清洗水供給機構(gòu)動作時，朝處理容器內(nèi) 供給清洗水并利用液體流出機構(gòu)使清洗水從處理容器流出，以對小零件進 行清洗，另外，還包括第一清洗機構(gòu)，該第一清洗機構(gòu)使清洗水朝蓋體的內(nèi)表 面和/或處理容器的外表面噴出，在一邊使處理容器旋轉(zhuǎn)一邊使第一清洗機構(gòu)動作時，對蓋體的內(nèi)表面 和/或處理容器的外表面進行清洗，另外，還包括開閉機構(gòu)，該開閉機構(gòu)使蓋體相對于承接槽開閉，開閉機構(gòu)使蓋體以水平狀態(tài)從封住承接槽的位置升降至規(guī)定高度位 置，再使蓋體從該規(guī)定高度位置移動以從承接槽離開，所述排放機構(gòu)具有排出部件，該排出部件與承接槽的排出口連通；連結(jié)管，該連結(jié)管設(shè)置成與排出部件的前端部、或者兩個箱和排出部 的各入口可自由上下運動地連結(jié)；升降部，該升降部使連結(jié)管上下運動；以及 移動機構(gòu)，該移動機構(gòu)使排出部件的前端部移動，使排出部件的前端部移動而配置在兩個箱和排出部中所選的入口之 上，并使連結(jié)管上升或下降，利用連結(jié)管使排出部件與所述入口連結(jié)。
5. 如權(quán)利要求1或4所述的表面處理裝置，其特征在于， 第一清洗機構(gòu)具有噴出清洗水的第一噴出部和/或第二噴出部， 第一噴出部由在沿著蓋體的開口的邊緣設(shè)置的供水通路上形成的噴出口形成，將清洗水朝蓋體的內(nèi)表面噴出，第二噴出部由在沿著蓋體的內(nèi)表面設(shè)置的供水通路上形成的噴出口形 成，將清洗水朝處理容器的外表面噴出。
6. 如權(quán)利要求2或4所述的表面處理裝置，其特征在于，開閉機構(gòu)具有臂，該臂從蓋體延伸；旋轉(zhuǎn)體，該旋轉(zhuǎn)體設(shè)置在臂的另一端側(cè)，可繞與臂正交的水平軸自由 旋轉(zhuǎn)地得到支撐；水平支撐軸，該水平支撐軸將臂可自由轉(zhuǎn)動地支撐；支撐機構(gòu)，該支撐機構(gòu)對臂予以支撐，以防止將水平支撐軸作為支點的臂的蓋體側(cè)變低；升降機構(gòu)，該升降機構(gòu)使水平支撐軸與臂一起升降；以及抵接體，上升至規(guī)定高度位置的臂的旋轉(zhuǎn)體從下方與該抵接體抵接，在使水平支撐軸上升時，蓋體以水平狀態(tài)上升，直到旋轉(zhuǎn)體與抵接體抵接，在旋轉(zhuǎn)體與抵接體抵接后，臂繞水平支撐軸轉(zhuǎn)動，同時蓋體一邊傾斜一邊上升。
7.如權(quán)利要求3或4所述的表面處理裝置，其特征在于，具有第二清 洗機構(gòu)，該第二清洗機構(gòu)將清洗水朝排出部件的內(nèi)表面噴出。
全文摘要
一種表面處理裝置，其特征在于，在一個裝置主體(100)內(nèi)包括處理容器(11)、垂直轉(zhuǎn)軸(12)、裝拆機構(gòu)、承接槽(15)、蓋體(16)、多個箱(21)等、多個表面處理液供給機構(gòu)(22)等、清洗水供給機構(gòu)、排放機構(gòu)(3)、第一清洗機構(gòu)，在一邊利用垂直轉(zhuǎn)軸(12)使收容有小零件的處理容器(11)旋轉(zhuǎn)一邊使表面處理液供給機構(gòu)動作時，對小零件進行表面處理，在使清洗水供給機構(gòu)動作時，對處理容器(11)內(nèi)的小零件進行清洗，在使第一清洗機構(gòu)動作時，對蓋體的內(nèi)表面和/或處理容器的外表面進行清洗，循環(huán)使用箱內(nèi)的表面處理液。
文檔編號B05C3/08GK101568393SQ200680056849
公開日2009年10月28日 申請日期2006年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月27日
發(fā)明者中田英樹, 杉浦裕, 植村哲朗, 濱田良介 申請人:上村工業(yè)株式會社