專利名稱：有機電致發(fā)光裝置及其電子裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及有機電致發(fā)光(在本說明書中記作EL)裝置及其制造方法。
背景技術：
近年來作為代替液晶顯示器的自發(fā)發(fā)光型顯示器，正在加速開發(fā)使用有機物的發(fā)光元件。關于將有機物作為發(fā)光材料用的有機電致發(fā)光(在本說明書中記作EL)元件，主要報告了以下兩種方法如Appl.Phys.Lett.51(12)，21 September 1987的913頁所示，用蒸鍍法形成低分子的有機EL材料(發(fā)光材料)膜的方法；以及如Appl.Phys.Lett.71(1)，7 July 1997的34頁所示，涂敷高分子的有機EL材料的方法。
作為彩色化的裝置，在低分子系列材料的情況下，采用隔著掩模在所希望的像素上蒸鍍不同的發(fā)光材料形成的方法。另一方面，關于高分子類材料，采用噴墨法的形成微細圖形的彩色化引人注目。作為采用噴墨法的有機EL元件的形成方法，已知以下的眾所周知的例子特開平7-235378、特開平10-12377、特開平10-153967、特開平11-40358、特開平11-54270、特開平11-339957、US 006087196。
由于噴墨法能以高分辨率噴出、涂敷直徑為微米級的液滴，所以能形成有機EL材料的高精細圖形?？墒?，涂敷在基板上的微小液滴干燥得極快，另外，在基板上的涂敷區(qū)域的端部(上端、下端、右端、左端)，由于從涂敷在顯示區(qū)域的微小液滴蒸發(fā)的溶劑分子的分壓低，所以一般會快速干燥。另外，在由TFT元件進行有源驅動的情況下，在TFT元件區(qū)域、或布線等的形狀、配置的關系方面，有時像素不能都沿X、Y方向等間隔地配置，在涂敷在各像素上的液滴的周圍產生局部的溶劑分子蒸發(fā)的分壓差。涂敷在這樣的像素上的有機材料液體的干燥時間的差引起像素內、像素之間的有機薄膜的厚度不勻。這樣的膜厚不勻成為亮度不勻、發(fā)光顏色不勻等的顯示不勻的原因。

發(fā)明內容
作為本發(fā)明的目的在于，在將有機EL材料噴出、涂敷在電極上形成有機EL層的有機EL裝置的制造中，提供一種使涂敷在像素區(qū)域中的有機EL材料溶液的周圍環(huán)境均勻地干燥，在有效光學區(qū)域中的各像素之間及像素內沒有亮度、發(fā)光顏色不均勻現象的有機EL裝置及有機EL裝置的制造方法。
本發(fā)明的有機電致發(fā)光裝置的制造方法，該有機電致發(fā)光裝置包括形成有多個與顯示有關的顯示像素的有效光學區(qū)域、以及圍繞上述有效光學區(qū)域配置有多個與顯示無關的空像素的空區(qū)域，其特征在于把包含有機電致發(fā)光材料的組成物涂敷到上述多個顯示像素、以及上述多個空像素。
采用上述制造方法，在有效光學區(qū)域中能使涂敷在有效光學區(qū)域內的有機EL材料液體的周圍環(huán)境均勻地干燥，能使各像素之間及像素內的膜厚均勻。另外，所謂有機電致發(fā)光層是指對發(fā)光有貢獻的層而言，包括空穴注入層、發(fā)光層、電子注入層等。另外，所謂有效光學區(qū)域，例如在有機EL裝置是顯示裝置的情況下，表示有效光學區(qū)域，另外在有機EL裝置是照明裝置的情況下，表示對照明有貢獻的區(qū)域。
本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法的特征在于在上述有效光學區(qū)域形成有電極，把上述組成物涂敷到上述電極上。
采用上述制造方法，在有效光學區(qū)域中能抑制端部的像素內液滴比內側的像素內液滴干燥得極端地快，能使有效光學像素之間的膜厚變得均勻。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法的特征在于上述有機電致發(fā)光材料包含有空穴注入層材料油墨組成物或發(fā)光層用油墨組成物，上述涂敷后除去上述溶劑。
另外，最好在上述空區(qū)中形成由與上述電極同樣的材料構成的層，將包含上述有機電致發(fā)光材料的組成物涂敷在上述層上。
采用上述制造方法，即使在有效光學區(qū)域端部的像素中，也能使涂敷的有機EL材料液體的周圍環(huán)境均勻，能抑制有效光學區(qū)域端部的像素內液滴比內側的像素內液滴干燥得極端地快，能使有效光學區(qū)域的各像素之間的有機EL薄膜層的厚度均勻。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法的特征在于最好在基板上設置兩個以上的由上述有效光學區(qū)域構成的有效光學區(qū)域組，在各有效光學區(qū)域的周圍分別設置空區(qū)，同時在上述有效光學區(qū)域組的周圍也設置另一個空區(qū)。
這里所謂空區(qū)，是指與顯示和照明沒有關系的區(qū)域。因此，在空區(qū)中形成的有機EL層可以不發(fā)光，但如果對顯示和照明沒有影響的情況下也可以發(fā)光。
如果采用上述的制造方法，則在一個基板上設置兩個以上的有效光學區(qū)域，在最后的工序中切斷各有效光學區(qū)域，在制造兩個以上的有機EL裝置的情況下，能使涂敷在有效光學區(qū)域端部的像素上的有機EL材料液體的周圍環(huán)境與其他像素同樣均勻，能抑制有效光學區(qū)域端部的像素內液滴比內側的像素內液滴干燥得極端地快，能使像素之間的有機EL薄膜層的厚度均勻。因此，能用一片基板一次制造各像素之間及像素內沒有亮度、發(fā)光顏色不均勻現象的多個有機EL裝置。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法的特征在于最好在涂敷包含上述有機電致發(fā)光材料的組成物的情況下，開始涂敷時涂敷了空區(qū)之后再涂敷有效光學區(qū)域，涂敷結束時在涂敷了有效光學區(qū)域后，涂敷空區(qū)而結束。
如果采用上述的制造方法，則從空區(qū)開始有機電致發(fā)光材料溶液的涂敷，且在空區(qū)結束，所以能穩(wěn)定地進行其間的有效光學區(qū)域的涂敷。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法的特征在于全部涂敷區(qū)域內的各個涂敷區(qū)域最好有相等的間隔。
采用上述的制造方法，在有效光學區(qū)域中，能使有效光學區(qū)域內涂敷的有機EL材料液體的周圍環(huán)境均勻地干燥，能使各像素之間及像素內的有機EL薄膜層的厚度均勻。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法的特征在于最好以等間隔配置相鄰的上述電極。采用上述的制造方法，在有效光學區(qū)域中，能使有效光學區(qū)域內涂敷的有機EL材料液體的周圍環(huán)境均勻地干燥，能使有效光學像素之間和各像素內的有機EL薄膜層的厚度均勻。
本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法是一種具有包括多個電極、以及上述電極上的有機電致發(fā)光層的有效光學區(qū)域的有機電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在應成為上述有效光學區(qū)域的區(qū)域中、以及在應成為上述有效光學區(qū)域以外的區(qū)域中，形成上述電致發(fā)光層。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的制造方法是一種具有包括多個電極、以及上述電極上的有機電致發(fā)光層的有效光學區(qū)域的有機電致發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于在應成為上述有效光學區(qū)域的不形成上述電極的區(qū)域中，形成有機電致發(fā)光層。
另外，如果采用本發(fā)明，則能提供利用上述方法制造的有機EL裝置。在這樣的有機EL裝置中，在有效光學區(qū)域內的各像素之間及像素內沒有亮度、發(fā)光顏色不均勻的現象，能實現均勻的EL顯示。
其次，本發(fā)明的有機EL裝置最好是包括配置有多個與顯示有關的顯示像素的有效光學區(qū)域、以及圍繞上述有效光學區(qū)域配置有多個與顯示無關的空像素的空區(qū)域，其特征在于有機EL層形成于上述多個顯示像素、以及多個上述空像素。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的特征在于最好在上述多個電極之間有圍堤層，在上述空區(qū)中，上述有機EL層配置在由與上述圍堤層相同的材料構成的層的上方。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的特征在于上述圍堤層最好包括無機物圍堤層及有機物圍堤層，在上述空區(qū)中，上述有機EL層配置在由與上述無機物圍堤層相同的材料構成的層的上方。
另外，在上述空區(qū)中形成的上述有機電致發(fā)光層之間最好形成上述圍堤層。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的特征在于在上述空區(qū)中，上述有機EL層最好配置在由與上述有機物圍堤層相同的材料構成的層的上方。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的特征在于在上述空區(qū)中，上述有機EL層最好配置在由與上述電極相同的材料構成的層的上方。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的特征在于在上述有效光學區(qū)域及上述空區(qū)中，相鄰的上述有機EL層的間隔最好相等。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的特征在于最好在上述空區(qū)中形成的有機電致發(fā)光層之間形成上述圍堤層。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的特征在于在上述有效光學區(qū)域及上述空區(qū)中，相鄰的上述有機電致發(fā)光層的間隔最好相等。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置的特征在于上述有效光學區(qū)域和上述空區(qū)的構成相同。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置最好是一種具有包括多個電極、以及上述各電極上的有機電致發(fā)光層的有效光學區(qū)域的有機電致發(fā)光裝置，其特征在于在應成為上述有效光學區(qū)域的區(qū)域中、以及在應成為上述有效光學區(qū)域以外的區(qū)域中，形成上述電致發(fā)光層。
另外，本發(fā)明的有機EL裝置最好是一種具有包括多個電極、以及上述各電極上的有機電致發(fā)光層的有效光學區(qū)域的有機電致發(fā)光裝置，其特征在于在應成為上述有效光學區(qū)域的不形成上述電極的區(qū)域中，形成有機電致發(fā)光層。
另外，如果采用本發(fā)明，則能提供備有上述的有機EL裝置的電子裝置。如果采用這樣的電子裝置，則能實現在各像素之間及像素內沒有亮度、發(fā)光顏色不均勻現象的均勻EL顯示和照明。


圖1是表示采用噴墨方式的有機EL裝置的制造方法之一例的剖面圖。
圖2是表示采用本發(fā)明的噴墨方式的有機EL裝置的制造方法之一例的剖面圖。
圖3是說明實施例1的有機EL裝置的制造方法的工序圖。
圖4是說明實施例2的有機EL裝置的制造方法的工序圖。
圖5是說明實施例3的有機EL裝置的制造方法的工序圖。
圖6是說明實施例4的有機EL裝置的制造方法的工序圖。
圖7是說明實施例5的有機EL裝置的制造方法的工序圖。
圖8是說明實施例6的有機EL裝置的制造方法的工序圖。
圖9是說明實施例7的有機EL裝置的制造方法的工序圖。
圖10是說明實施例8的有機EL裝置的制造方法的圖，(A)是空穴注入層形成前的基板的平面圖，(B)是沿(A)中的MM’線的局部剖面圖。
圖11是說明實施例8的有機EL裝置的制造方法的工序圖。
圖12是說明實施例9的有機EL裝置的制造方法的圖，是空穴注入層形成前的基板的平面圖。
圖13是說明實施例9的有機EL裝置的制造方法的圖，是表示噴墨頭的軌跡的示意圖。
圖14是說明實施例9的有機EL裝置的另一制造方法的圖。
圖15是表示實施例10的電子裝置的斜視圖。
具體實施例方式
以下，用

本發(fā)明的實施例。另外，給出將有機EL裝置作為顯示裝置用的例子。
采用噴墨方式的有機EL裝置的制造方法是這樣一種形成空穴注入/輸運層及發(fā)光層的方法，即從噴墨頭噴出將由形成像素的有機物構成的空穴注入層材料及發(fā)光材料溶解或分散在溶劑中的油墨組成物，涂敷在透明電極上形成圖形。為了將噴出的墨滴精確地涂敷在規(guī)定的像素區(qū)域中形成圖形，通常設置將像素區(qū)域隔開的間壁(以下稱圍堤)。
圖1表示采用噴墨方式的有機EL裝置的制造中使用的基板結構之一例的剖面圖。在玻璃基板10上形成有薄膜晶體管(TFT)11的電路元件部11’，在該電路元件部11’上形成由ITO構成的透明電極12的圖形。另外，在劃分透明電極12的區(qū)域中層疊SiO2圍堤13和由具有斥墨性或被斥墨化了的有機物構成的有機物圍堤14。圍堤的形狀即像素的開口形狀可以是圓形、橢圓形、方形等任意的形狀，但由于油墨組成物具有表面張力，所以方形的角部最好呈圓形。有機物圍堤14的材料沒有特別限制，只要是具有耐熱性、斥液性、耐墨溶劑性、與基底基板的緊密粘結性優(yōu)越的材料即可。有機物圍堤14也可以這樣形成即使不是原來備有斥液性的材料、例如氟系列樹脂，而是使通常使用的丙烯酸樹脂或聚酰亞胺樹脂等有機樹脂形成圖形，經過CF4等離子體處理等，使表面斥液化。圍堤不限于上述的無機物和有機物層疊的結構，但在例如由ITO構成透明電極14的情況下，為了提高與透明電極14的緊密粘結性，最好是SiO2圍堤13。有機物圍堤14的高度達到1～2微米左右就足夠了。
其次，參照圖2，沿著各工序的剖面結構說明采用噴墨方式的有機EL裝置的制造方法之一例。
在圖2(A)中，采用噴墨方式將包含有機EL材料的溶液(油墨組成物)涂敷在有圍堤結構的像素基板上形成圖形，形成有機EL薄膜。從噴墨頭16噴出有機EL材料油墨組成物15，如該圖(B)所示使之命中，涂敷成圖形。涂敷后進行真空及/或熱處理或利用氮氣流將溶劑除去，形成有機EL薄膜層17(該圖(C))。該有機EL薄膜層17是由空穴注入層及發(fā)光層構成的層疊膜。
這時，由于在有效光學區(qū)域(與顯示有關的像素的形成區(qū)域)端部的顯示像素周圍不涂敷墨滴，所以在內側的像素上油墨溶劑分子的分壓較低，溶劑迅速干燥，例如如圖2(C)所示，有時在顯示像素之間產生膜厚的差異。
因此，為了使涂敷在各像素上的液滴均勻地干燥，最好將油墨組成物也噴出并涂敷在有效光學區(qū)域的周圍，對涂敷在有效光學區(qū)域上的各液滴造成相同的環(huán)境。為了構筑較為相同的環(huán)境，最好使供噴墨的有機材料的涂敷區(qū)域比有效光學區(qū)域大，例如，最好在有效光學區(qū)域的周圍設置具有與顯示像素形狀相同的圍堤結構的空區(qū)(形成與顯示無關的空像素的區(qū)域)。
另外，為了使有效光學區(qū)域的像素之間的油墨組成物干燥得更均勻，最好使有效光學區(qū)域中的各個涂敷區(qū)域的間隔相等。因此，最好也等間隔地配置像素。在由于設置TFT和布線等致使各像素間隔沿X方向和Y方向呈不同的設計的情況下，也可以在間隔較寬的像素之間噴出墨滴，以便使涂敷區(qū)域的間隔相等。最好能在該像素之間設置形成了與像素部形狀相同的圍堤結構的空像素。像素的形狀即使不是圓形、正方形那樣的點對稱的形狀，也可以是矩形、跑道形、橢圓形。在矩形、跑道形那樣的像素沿X方向和Y方向配置成不同間隔的情況下，即使不具有與像素部相同的形狀，在像素間隔寬的區(qū)域也會有效地形成涂敷區(qū)域，使得涂敷區(qū)域有相同的間隔。
另外，本發(fā)明不僅能用于有機EL裝置的顯示，而且能適用于將有機EL元件作為光源用的發(fā)光裝置、照明裝置。
以下，參照實施例更具體地說明本發(fā)明，但本發(fā)明不限于這些實施例。
(實施例1)
本實施例中使用的基板是2英寸的TFT基板，在它上面沿X、Y方向都以70.5微米的間距配置了直徑為30微米的圓形像素。該TFT基板由玻璃基板25、以及在該玻璃基板上形成的具有TFT26的電路元件部26’構成。在圖3(A)中示出了TFT基板右端一側的局部剖面圖(X方向)。在電路元件部26’上形成由ITO構成的透明電極27，在電路元件部26’上形成由SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29兩層構成的圍堤，以便將該透明電極27隔開。用CVD法形成150nm的TEOS(原硅酸四乙酯)，用光刻法進行構圖，形成SiO2圍堤28。再將感光性聚酰亞胺涂敷在它上面，通過曝光、顯影，形成膜厚為2微米的聚酰亞胺圍堤29。另外，形成該圍堤的材料也可以采用非感光性材料。
另外，在圖3中，形成透明電極27的區(qū)域是有效光學區(qū)域，不用SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29劃分透明電極27的區(qū)域是空區(qū)B。
在噴墨涂敷之前，通過大氣壓等離子體處理，對聚酰亞胺圍堤29進行斥墨處理。大氣壓等離子體處理的條件是在大氣壓下，用300W的功率，電極-基板之間的距離為1mm，進行氧等離子體處理，氧氣流量為100ml/min，氦氣流量為10l/min，工作臺傳送速度為10mm/s，接著進行CF4等離子體處理，CF4氣體流量為100ml/min。氦氣流量為10l/min，工作臺傳送速度為3mm/s，如此往復進行。
作為空穴注入層材料使用拜耳公司制的Bytron(注冊商標)，調制分散在作為極性溶劑的異丙醇、N-甲基吡咯烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮中的油墨組成物30，沿X、Y方向都以70.5微米的間距從噴墨頭(愛普森公司制MJ-930C)噴出、涂敷。這時，在顯示像素周圍上下、左右以相同的間距各多噴出30多行。在圖3(B)中示出了涂敷空穴注入層材料油墨組成物30的圖形后的基板右端一側的局部剖面圖。在有效光學區(qū)域A中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在透明電極27上，另一方面，在空區(qū)B中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在聚酰亞胺圍堤29上。
其次，在真空(“l(fā)torr(133.3Pa))、室溫、20分鐘的條件下，除去溶劑，然后，在氮氣中進行200℃(在加熱板上)、10分鐘的熱處理，如圖3(C)所示，形成空穴注入層31。在有效光學區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的空穴注入層31。
其次，作為發(fā)光層，使用能發(fā)出紅色、綠色、藍色光的聚芴系材料，調制以下3種油墨組成物紅色發(fā)光層用油墨組成物32、綠色發(fā)光層用油墨組成物33、藍色發(fā)光層用油墨組成物34。作為墨溶劑使用環(huán)己基苯。如圖3(C)所示，從噴墨頭噴出這些油墨組成物32、33、34，在X方向上以211.5微米的間距、在Y方向上以70.5微米的間距涂敷成圖形。這時，在空區(qū)B中以同樣的間距上下、左右各多噴出21行。
其次，在N2氣氛中，在加熱板上通過80℃、5分鐘的熱處理，形成發(fā)光層35、36、37。在有效光學區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的發(fā)光層35、36、37。
形成了發(fā)光層后，如圖3(D)所示，采用真空加熱蒸鍍法層疊形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極38，最后利用環(huán)氧樹脂39進行封裝。
這樣，能獲得在有效光學區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進行均勻顯示的有機EL裝置。
(實施例2)在本實施例中，如圖4所示，與實施例1相同，使用在有效光學區(qū)域A的周圍配置了空區(qū)B的TFT基板。該TFT基板由玻璃基板25、以及在該玻璃基板25上形成的具有TFT26的電路元件部26’構成。另外在電路元件部26’上形成由ITO構成的透明電極27，再在電路元件部26’上形成由SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29兩層構成的圍堤，以便將該透明電極27隔開。這樣，能在有效光學區(qū)域A中形成顯示像素42。
另外，在空區(qū)B中，設置從SiO2圍堤延伸的SiO2膜28’，同時在該SiO2膜28’上形成與顯示像素42形狀相同的、以相同的間距設置聚酰亞胺圍堤40構成的空像素43。圖4(A)中示出了基板右端一側的局部剖面圖。
與實施例1相同，在圖4(B)中示出了以70.5微米的間距將空穴注入層用油墨組成物41涂敷在顯示像素42及空像素43上形成了圖形的形態(tài)。與實施例1同樣地進行干燥、熱處理，所形成的顯示像素42的空穴注入層的膜厚是均勻的。
其次，與實施例1同樣地將由聚芴系材料構成的發(fā)光層油墨組成物涂敷在顯示像素42及空像素43上形成圖形，通過干燥形成的發(fā)光層膜厚在顯示像素42內是均勻的。進行了陰極形成、封裝后的有機EL裝置是在包括顯示像素42的有效光學區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的顯示均勻的有機EL裝置。
(實施例3)在本實施例中，與實施例1相同，使用在有效光學區(qū)域A的周圍配置了空區(qū)B的TFT基板。如圖5(A)所示，該TFT基板由玻璃基板25、以及在該玻璃基板25上形成的具有TFT26的電路元件部26’構成。另外，在電路元件部26’上形成由ITO構成的透明電極27，再在電路元件部26’上形成由SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29兩層構成的圍堤，以便將該透明電極27隔開。這樣做，能在有效光學區(qū)域A中形成顯示像素42。
另外，在空區(qū)B中的電路元件部26’上，設置與顯示像素42形狀相同的、以相同的間距只形成聚酰亞胺圍堤29的空像素44。圖5(A)是基板右端一側的局部剖面圖。
其次，與實施例1相同，通過大氣壓等離子體處理，對聚酰亞胺圍堤29進行斥墨處理。
其次，如圖5(B)所示，與實施例1相同，在X、Y方向上都以70.5微米的間距，將包括空穴注入層材料的油墨組成物30涂敷在顯示像素42及空像素44上形成圖形。在有效光學區(qū)域A中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在透明電極27上，另一方面，在空區(qū)B中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在電路元件部26’上。
其次，在真空(“1torr(133.3Pa))、室溫、20分鐘的條件下，除去溶劑，然后，在氮氣中進行200℃(在加熱板上)、10分鐘的熱處理，形成圖5(C)所示的空穴注入層31。在有效光學區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的空穴注入層31。
其次，與實施例1相同，調制以下3種油墨組成物紅色發(fā)光層用油墨組成物32、綠色發(fā)光層用油墨組成物33、藍色發(fā)光層用油墨組成物34。如圖5(C)所示，從噴墨頭噴出這些油墨組成物32、33、34，在X方向上以211.5微米的間距、在Y方向上以70.5微米的間距涂敷成圖形。這時，最好在空區(qū)B中以同樣的間距上下、左右各多噴出21行。
其次，在N2氣氛中，在加熱板上通過80℃、5分鐘的熱處理，形成發(fā)光層35、36、37。在有效光學區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的發(fā)光層35、36、37。
形成了發(fā)光層后，如圖5(D)所示，采用真空加熱蒸鍍法層疊地形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極38，最后利用環(huán)氧樹脂39進行封裝。
這樣做，能獲得在有效光學區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進行均勻顯示的有機EL裝置。
(實施例4)在本實施例中，與實施例1相同，使用在有效光學區(qū)域A的周圍配置了空區(qū)B的TFT基板。如圖6(A)所示，該TFT基板由玻璃基板25、以及在該玻璃基板25上形成的具有TFT26的電路元件部26’構成。另外，在電路元件部26’上形成由ITO構成的透明電極27，再形成由SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29兩層構成的圍堤，以便將該透明電極27隔開。這樣做，能在有效光學區(qū)域A中形成顯示像素42。
另外，在空區(qū)B中的電路元件26’上，設置與顯示像素42形狀相同的、以相同的間距通過層疊SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29，設置空像素45。圖6(A)是基板右端一側的局部剖面圖。
其次，與實施例1相同，通過大氣壓等離子體處理，對聚酰亞胺圍堤29進行斥墨處理，另外，如圖6(B)所示，將包括空穴注入層材料的油墨組成物30涂敷在顯示像素42及空像素45上形成圖形。在有效光學區(qū)域A中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在透明電極27上，另一方面，在空區(qū)B中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在電路元件部26’上。
其次，在與實施例1相同的條件下，將空穴注入層材料油墨組成物30的溶劑除去，再在與實施例1相同的條件下進行熱處理，形成圖6(C)所示的空穴注入層31。在有效光學區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的空穴注入層31。
其次，與實施例1相同，調制以下3種油墨組成物紅色發(fā)光層用油墨組成物32、綠色發(fā)光層用油墨組成物33、藍色發(fā)光層用油墨組成物34。如圖6(C)所示，從噴墨頭噴出各油墨組成物32、33、34。這時，在空區(qū)B中以同樣的間距上下、左右各多噴出21行。
其次，在N2氣氛中，在加熱板上通過80℃、5分鐘的熱處理，形成發(fā)光層35、36、37。在有效光學區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的發(fā)光層35、36、37。
形成了發(fā)光層后，如圖6(D)所示，采用真空加熱蒸鍍法層疊形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極38，最后利用環(huán)氧樹脂39進行封裝。
這樣做，能獲得在有效光學區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進行均勻顯示的有機EL裝置。
(實施例5)在本實施例中，與實施例1相同，使用在有效光學區(qū)域A的周圍配置了空區(qū)B的TFT基板。如圖7(A)所示，該TFT基板由玻璃基板25、以及在該玻璃基板25上形成的具有TFT26的電路元件部26’構成。另外，在電路元件部26’上形成由ITO構成的透明電極27，再在電路元件部26’上形成由SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29兩層構成的圍堤，以便將該透明電極27隔開。這樣做，能在有效光學區(qū)域A中形成顯示像素42。
另外，在空區(qū)B中的電路元件26’上，設置與顯示像素42形狀相同的、以相同的間距通過層疊SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29，設置空像素46。另外，在空區(qū)B中的電路元件部26’上不設置TFT26。在圖7(A)中示出了基板右端一側的局部剖面圖。
其次，與實施例1相同，通過大氣壓等離子體處理，對聚酰亞胺圍堤29進行斥墨處理，另外，如圖7(B)所示，將包括空穴注入層材料的油墨組成物30涂敷在顯示像素42及空像素46上形成圖形。在有效光學區(qū)域A中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在透明電極27上，另一方面，在空區(qū)B中，空穴注入層材料油墨組成物30被涂敷在電路元件部26’上。
其次，在與實施例1相同的條件下，將空穴注入層材料油墨組成物30的溶劑除去，再在與實施例1相同的條件下進行熱處理，形成圖7(C)所示的空穴注入層31。在有效光學區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的空穴注入層31。
其次，與實施例1相同，調制紅色發(fā)光層用油墨組成物32、綠色發(fā)光層用油墨組成物33、藍色發(fā)光層用油墨組成物34，如圖7(C)所示，從噴墨頭噴出各油墨組成物32、33、34，涂敷成圖形。這時，在空區(qū)B中以同樣的間距上下、左右各多噴出21行。
其次，在N2氣氛中，在加熱板上通過80℃、5分鐘的熱處理，形成發(fā)光層35、36、37。在有效光學區(qū)域A中，能形成膜厚均勻的發(fā)光層35、36、37。
形成了發(fā)光層后，如圖7(D)所示，采用真空加熱蒸鍍法層疊形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極38，最后利用環(huán)氧樹脂39進行封裝。
這樣做，能獲得在有效光學區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進行均勻顯示的有機EL裝置。
另外，設置透明電極27、以及劃分該透明電極27的SiO2圍堤28及聚酰亞胺圍堤29，構成空像素46，除了不設置TFT26這一點以外，與顯示像素42的結構相同，能在與涂敷在顯示像素42上的情況相同的條件下，使涂敷在空像素46上的空穴注入層材料油墨組成物30干燥，因此在有效光學區(qū)域A中，能形成膜厚度較均勻的空穴注入層31，能獲得沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進行均勻顯示的有機EL裝置。
(實施例6)圖8(A)中示出了本實施例中使用的基板上的顯示像素區(qū)和空像素區(qū)的一部分。圖8(A)是基板的平面圖，這里未示出TFT元件。直徑為60微米的圓形顯示像素50沿橫向(X)以80微米的間距、沿縱向(Y)以240微米的間距排列。在縱向行的顯示像素之間有間距為80微米、直徑為60微米的空圍堤像素51，在有效光學區(qū)域的周圍，上下、左右以80微米相同的間距形成30行形狀相同的空像素52。至此，同樣用SiO2圍堤53和聚酰亞胺圍堤54的層疊圍堤劃分顯示像素，除了像素直徑、間距以外的基本剖面結構與實施例1或實施例2相同。
圖8(B)中示出了全部以80微米的間距將與實施例1同樣的空穴注入層材料油墨組成物55涂敷在顯示像素50及空像素51、52上形成了圖形的形態(tài)。與實施例1同樣地形成空穴注入層，即使在發(fā)光層中，也與實施例1相同，分別以縱向80微米的間距、橫向240微米的間距涂敷3種發(fā)光層組成物56、57、58形成圖形，通過干燥形成發(fā)光層層疊膜。圖8(C)中示出了發(fā)光層油墨組成物的圖形涂敷形態(tài)。進行了陰極形成、封裝后的有機EL裝置是在有效光學區(qū)域中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的顯示均勻的有機EL裝置。
(實施例7)圖9(A)中示出了本實施例中使用的基板上的有效光學區(qū)域和空區(qū)的一部分。圖9(A)是基板的平面圖，這里未示出TFT元件。橫向寬度為50微米、縱向寬度為200微米的矩形(角頂呈圓弧形)的像素60沿橫向(X)以80微米的間距、沿縱向(Y)以290微米的間距排列。橫向的像素之間的間隔為30微米，縱向的像素之間的間隔為90微米。在顯示像素60...的周圍，上下、左右以80微米、290微米相同的間距形成30行形狀相同的空像素61。至此，同樣用SiO262、聚酰亞胺63的層疊圍堤劃分顯示像素60，除了像素直徑、間距以外的基本剖面結構與實施例1或實施例2相同。
將與實施例1相同的空穴注入層材料油墨組成物64涂敷在全部顯示像素60及空像素61上形成圖形，另外，如圖9(B)所示，在縱向的像素之間的中央也涂敷了組成物64形成圖形。干燥后，雖然所形成的像素內的空穴注入層呈現均勻的膜厚，但在縱向的像素之間的中央不涂敷的情況下，在像素的縱向的兩端膜厚極端地變厚。
形成了空穴注入層后，與實施例1相同，也在發(fā)光層上分別以縱向240微米的間距、橫向290微米的間距涂敷3種發(fā)光層組成物65、66、67形成圖形，與空穴注入層的情況相同，如圖9(C)所示，在縱向的像素之間的中央也涂敷發(fā)光層用油墨組成物65、66、67形成圖形。因此，干燥后的發(fā)光層的膜厚在像素內、像素之間是均勻的。進行了陰極形成、封裝后的有機EL裝置是在有效光學區(qū)域中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的顯示均勻的有機EL裝置。
(實施例8)在圖10(A)中示出了本實施例中使用的基板的平面圖。圖10(B)是沿圖10(A)中的MM’線的局部剖面圖。如圖10(A)及圖10(B)所示，該基板101是空穴注入層及發(fā)光層形成前的基板，它由在玻璃基板102上形成的電路元件部103、以及在電路元件部103上形成的發(fā)光元件部104構成。在發(fā)光元件部104上設有后面所述的顯示像素和空像素，另外，發(fā)光元件部104被劃分成由顯示像素組構成的有效光學區(qū)域A、以及由配置在有效光學區(qū)域A的周圍的空像素組構成的空區(qū)B。
電路元件部103由在玻璃基板102上形成的多個TFT元件105...、以及由覆蓋該TFT元件105...的第一、第二層間絕緣膜106、107構成。TFT元件105...呈矩陣狀地配置，由ITO構成的透明電極108...連接在各TFT元件105...上。在第二層間絕緣膜107上形成透明電極108...，同時配置在對應于TFT元件105...的位置。另外，透明電極108在平面視圖中也可以形成大致呈圓形、矩形、或四角呈圓弧狀的矩形等的形狀。
另外，只在對應于發(fā)光元件部104的有效光學區(qū)域A的位置形成TFT元件105和透明電極108。
其次，SiO2圍堤109及聚酰亞胺圍堤110被層疊在發(fā)光元件部104的有效光學區(qū)域A上。SiO2圍堤109及聚酰亞胺圍堤110被設置在透明電極108...之間，由此設置包圍透明電極108的開口部111。
另外，在發(fā)光元件部104的空區(qū)B中，備有在第二層間絕緣膜107上形成的SiO2薄膜109’、以及在SiO2薄膜109’上形成的聚酰亞胺圍堤110’。利用空區(qū)B中的聚酰亞胺圍堤110’設置與顯示像素區(qū)A中的顯示像素111形狀大致相同的空像素111’。
關于設置在空區(qū)B中的空像素111’的數量，最好在沿著圖10(A)所示的X方向的寬度X’之間設置10組以上由R·G·B的三個空像素構成的組。另外，最好在沿著圖10(A)所示的Y方向的寬度Y’之間設置10列以上由R·G·B的多個空像素構成的列。此外，最好使寬度X’和寬度Y’大小相等地配置空像素。通過這樣的處理，能使位于與空區(qū)B的邊界附近的像素中的組成物油墨的干燥條件與有效光學區(qū)域A的中央附近的像素中的干燥條件更加一致。為了使寬度X’和寬度Y’的大小相等，例如在X方向上以70.5微米的間距、在Y方向上以211.5微米的間距形成了各像素(顯示像素、空像素皆是)的情況下，在寬度X’之間與Y方向平行地形成30行(由R·G·B的三個空像素構成的組共10組大小的行)，而且，在寬度Y’之間與X方向平行的行可形成10行空像素。因此，Y方向的間距是X方向的間距的3倍，所以寬度X’和寬度Y’的大小大致相等?？障袼氐臄盗坎幌抻诖?，但是不利的是如果空像素111’的數量過多，則與顯示無關的框增大，即顯示模塊增大。
與實施例1相同，對該基板101進行大氣壓等離子體處理，對聚酰亞胺圍堤110、110’進行斥墨處理，從噴墨頭噴出包含空穴注入層材料的油墨組成物，涂敷在顯示像素111及空像素111’上形成圖形。在顯示像素111中，空穴注入層材料油墨組成物被涂敷在透明電極108上，另一方面，在空像素111’中，空穴注入層材料油墨組成物被涂敷在SiO2薄膜109’上。
另外，在從噴墨頭噴出包含空穴注入層材料的油墨組成物時，最好準備例如具有與顯示元件部104的橫向(圖中X方向)相同程度的寬度的噴嘴列的噴墨頭，使該噴墨頭從圖10(A)的下側開始沿圖中箭頭Y的方向在基板101上一邊移動一邊噴出。因此，油墨組成物的噴出順序為圖中下側的空區(qū)B、有效光學區(qū)域A、圖中上側的空區(qū)B這樣的順序，能使油墨組成物的噴出從空區(qū)B開始，在空區(qū)B結束。由于在空區(qū)B噴出組成物油墨后在有效光學區(qū)域A中噴出，所以能使有效光學區(qū)域A中的油墨組成物均勻地干燥。
其次，在與實施例1相同的條件下，將空穴注入層材料油墨組成物的溶劑除去，再在與實施例1相同的條件下進行熱處理，形成圖11(A)所示的空穴注入層131。
在有效光學區(qū)域A的外側設有空像素111’，即使對該空像素111’也與顯示像素111一樣，進行組成物墨油的噴出、干燥，所以能使位于與空像素B的邊界附近的顯示像素111的組成物油墨的干燥條件與有效光學區(qū)域A的中央附近的顯示像素111的干燥條件大致一致，因此在位于與空像素B的邊界附近的顯示像素111中也能形成膜厚均勻的空穴注入層131。因此遍及全部有效光學區(qū)域A能形成膜厚均勻的空穴注入層131。
其次，與實施例1相同，從噴墨頭噴出紅色、綠色、藍色的發(fā)光層用油墨組成物，涂敷在顯示像素111及空像素111’上形成圖形，在N2氣氛中，在加熱板上通過80℃、5分鐘的熱處理，形成發(fā)光層135、136、137。在有效光學區(qū)域A中，與空穴注入層131的情況相同，能形成膜厚均勻的發(fā)光層135、136、137。
另外，形成發(fā)光層時，與空穴注入層的情況一樣，最好使噴墨頭從圖10(A)的下側開始沿圖中箭頭Y的方向在基板101上一邊移動一邊噴出，使油墨組成物的噴出順序為圖中下側的空區(qū)B、有效光學區(qū)域A、圖中上側的空區(qū)B這樣的順序，因此使油墨組成物的噴出從空區(qū)B開始，在空區(qū)B結束。因此，能在全部有效光學區(qū)域A中均勻地進行包含發(fā)光層的油墨組成物的干燥。
形成了發(fā)光層后，如圖11(B)所示，采用真空加熱蒸鍍法層疊形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極138，最后利用環(huán)氧樹脂139進行封裝。
這樣，能獲得在有效光學區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進行均勻顯示的有機EL裝置。
(實施例9)在圖12中示出了本實施例中使用的基板的平面圖。如圖12所示，該基板201以在玻璃基板202上形成的圖中未示出的電路元件部、以及在該電路元件部上形成的多個發(fā)光元件部204...為主體構成。在圖12中的基板201上，16個發(fā)光元件部204...配置成4列4行的矩陣狀。在各發(fā)光元件部204上設有與實施例8相同的圖中未示出的顯示像素和空像素，另外，各發(fā)光元件部204...被劃分成由顯示像素組構成的有效光學區(qū)域A、以及由配置在有效光學區(qū)域A的周圍的空像素組構成的空區(qū)B。
有效光學區(qū)域A中的顯示像素、以及空區(qū)B中的空像素的結構與實施例8中說明的顯示像素111及空像素111’的結構相同。另外，圖中未示出的電路元件部的結構也與實施例8的電路元件部103的結構相同。
這樣處理后，在基板201上形成由多個有效光學區(qū)域A...構成的有效光學區(qū)域組C。
最后沿圖中的單點點劃線將該基板201切開，分成16片小的基板。因此，能由一片基板同時制造多個有機EL裝置。
另外，在基板201上，在有效光學區(qū)域組C的周圍形成另一個空區(qū)D。
設置在空區(qū)D中的空像素的數量，最好在沿著圖12所示的X方向的寬度X’之間設置10組以上由R·G·B的三個空像素構成的組。另外，最好在沿著圖12所示的Y方向的寬度Y’之間設置10列以上由R·G·B的多個空像素構成的列。
對該基板201進行與實施例8同樣的處理，即對聚酰亞胺圍堤進行斥墨處理，再從噴墨頭噴出包含空穴注入層材料的油墨組成物，涂敷在顯示像素及空像素上形成圖形。
另外，在從噴墨頭噴出包含空穴注入層材料的油墨組成物時，最好準備例如具有與一個顯示元件部204的橫向(圖中X方向)相同程度的寬度的噴嘴列的噴墨頭，使該噴墨頭從圖12的下側開始在顯示元件部204上沿圖中箭頭Y的方向一邊移動到圖中的上側一邊噴出。噴墨頭的寬度不限于此，也可以是一個顯示像素部204的寬度的整數倍。
這時的噴墨頭的軌跡例如如圖13(A)所示，使噴墨頭H移動到圖中上側后傾斜地空行到下側，再次向上側移動，呈鋸齒形的軌跡，或者如圖13(B)所示，也可以移動到上側后沿橫向滑動(空行)，然后移動到下側，呈彎折狀的軌跡。
在上述的情況下，油墨組成物的噴出順序都是沿著空區(qū)D、B、有效光學區(qū)域A、空區(qū)B、D、空區(qū)D、B、有效光學區(qū)域A、...、空區(qū)B、D的順序進行，能使油墨組成物的噴出從空區(qū)D開始至空區(qū)D結束。
另外，如實施例8所述，也可以準備具有與有效光學區(qū)域組C的橫向(圖中X方向)相同程度的寬度的噴嘴列的噴墨頭，使該噴墨頭從圖12的下側開始在顯示元件部204上沿圖中箭頭Y的方向一邊移動到圖中的上側一邊噴出。這時的油墨組成物的噴出順序為空區(qū)D、B、有效光學區(qū)域A、空區(qū)B、D，能使油墨組成物的噴出從空區(qū)D開始至空區(qū)D結束。
因此，不管是哪一種情況，由于在空區(qū)D中噴出油墨組成物后，在有效光學區(qū)域A中噴出，所以在全部有效光學區(qū)域A中，能均勻地進行油墨組成物的干燥。
另外，在噴墨頭取鋸齒形軌跡或彎折狀的軌跡的情況下，由于空行后必定在空區(qū)D中噴出，所以在空行過程中即使在填充到噴墨頭中的油墨的狀態(tài)變化了的情況下，也能在空區(qū)D中進行預噴后再在有效光學區(qū)域A中噴出，由此能穩(wěn)定地進行有效光學區(qū)域A中的噴出。
其次，與實施例1同樣地除去空穴注入層材料油墨組成物的溶劑，進行熱處理，形成空穴注入層131。
由于在有效光學區(qū)域A的外側設有空區(qū)B的空像素，再在其外側設有另一個空區(qū)D的空像素，所以能使位于與空區(qū)B的邊界附近的顯示像素的組成物油墨的干燥條件與有效光學區(qū)域A的中央附近的顯示像素的干燥條件大致一致，因此在位于與空像素B的邊界附近的顯示像素中也能形成厚度均勻的空穴注入層。因此，遍及全部有效光學區(qū)域A能形成膜厚均勻的空穴注入層。
特別是由于在有效光學區(qū)域組C的周圍設有空區(qū)D，所以即使在由一片基板制造多個顯示裝置的情況下，也能形成膜厚均勻的空穴注入層。
其次，與實施例1一樣，從噴墨頭噴出紅色、綠色、藍色的發(fā)光層用油墨組成物，涂敷在有效光學區(qū)域及空區(qū)上形成圖形，通過熱處理，形成R·G·B發(fā)光層。在有效光學區(qū)域A中，與空穴注入層的情況相同，能形成膜厚均勻的發(fā)光層。
另外，形成發(fā)光層時，與空穴注入層的情況一樣，如圖13(A)或圖13(B)所示，使噴墨頭一邊移動一邊噴出，使油墨組成物的噴出順序與空穴注入層的情況相同，因此能使油墨組成物的噴出從空區(qū)D開始，在空區(qū)D結束。因此，能在全部有效光學區(qū)域A中均勻地進行油墨組成物的干燥。
形成了發(fā)光層后，采用真空加熱蒸鍍法層疊形成2nm的LiF層、20nm的Ca層及200nm的Al層作為陰極，最后利用環(huán)氧樹脂進行封裝。
這樣，能獲得在有效光學區(qū)域A中沒有亮度不均勻、顏色不均勻的能進行均勻顯示的有機EL裝置。
另外，這里作為有機EL層雖然使用了高分子材料，但也可以使用低分子材料。在使用低分子材料的情況下，如圖14所示，最好利用使用掩模71的蒸鍍法來形成有機EL層。這時，對應于有效光學區(qū)域E的區(qū)域及對應于有效光學區(qū)域E以外的區(qū)域(對應于空區(qū)F的區(qū)域)使用開口的掩模，使材料形成膜，能實現本發(fā)明。在使用蒸鍍法的情況下，通過設置空區(qū)，也能在全部有效光學區(qū)域中形成均勻的有機EL層。
(實施例10)其次，說明備有由上述的第一至第九實施例制造的有機EL裝置中的任意一種的電子裝置的具體例子。
圖15(A)是表示移動電話之一例的斜視圖。在圖15(A)中，符號600表示移動電話本體，符號601表示使用上述的有機EL裝置中的任意一種的顯示部。
圖15(B)是表示文字處理機、個人計算機等便攜型信息處理裝置之一例的斜視圖。在圖15(B)中，符號700表示信息處理裝置，符號701表示鍵盤等輸入部，符號703表示信息處理裝置本體，符號702表示使用上述的有機EL裝置中的任意一種的顯示部。
圖15(C)是表示手表型電子裝置之一例的斜視圖。在圖15(C)中，符號800表示手表本體，符號801表示使用上述的有機EL裝置中的任意一種的顯示部。
圖15(A)～(C)所示的各種電子裝置是備有使用上述的有機EL裝置中的任意一種的顯示部的電子裝置，由于具有前面的實施例1～9中制造的有機EL裝置的特征，所以使用任意一種有機EL裝置，都能構成具有顯示品質優(yōu)異的效果的電子裝置。
如上所述，如果采用本發(fā)明，則在以噴墨方式將有機EL材料噴射、涂敷到基板上并形成有機EL層的有機EL裝置的制造中，在顯示像素區(qū)域的周圍導入空噴射、涂敷區(qū)，在有效光學區(qū)域中，通過等間隔地配置涂敷液滴，均勻地進行涂敷在像素區(qū)域的有機EL材料溶液的干燥，能提供一種在有效光學區(qū)域像素之間或各像素內沒有亮度、發(fā)光顏色不均勻現象的均勻的顯示裝置及顯示裝置的制造方法。
權利要求
1.一種有機電致發(fā)光裝置，具有多個電極；形成多個與顯示有關的顯示像素的有效光學區(qū)域；以及圍繞上述有效光學區(qū)域配置多個與顯示無關的空像素的空區(qū)域，包含有機電致發(fā)光材料的有機電致發(fā)光層形成在上述多個顯示像素以及多個上述空像素中，其特征在于在上述多個電極之間有圍堤層，在上述空區(qū)域中，上述有機電致發(fā)光層被配置在由與上述圍堤層相同的材料構成的層的上方。
2.如權利要求1所述的有機電致發(fā)光裝置，其特征在于上述圍堤層包括無機物圍堤層及有機物圍堤層，在上述空區(qū)域中，上述有機電致發(fā)光層被配置在由與上述無機物圍堤層相同的材料構成的層的上方。
3.如權利要求2所述的有機電致發(fā)光裝置，其特征在于在上述空區(qū)域中形成的上述有機電致發(fā)光層之間形成上述圍堤層。
4.如權利要求1所述的有機電致發(fā)光裝置，其特征在于在上述空區(qū)域中，上述有機電致發(fā)光層被配置在由與上述有機物圍堤層相同的材料構成的層的上方。
5.如權利要求1所述的有機電致發(fā)光裝置，其特征在于在上述空區(qū)域中，上述有機電致發(fā)光層被配置在由與上述電極相同的材料構成的層的上方。
6.如權利要求1所述的有機電致發(fā)光裝置，其特征在于在上述有效光學區(qū)域及上述空區(qū)域中，相鄰的上述有機電致發(fā)光層的間隔相等。
7.如權利要求1所述的有機電致發(fā)光裝置，其特征在于相鄰的上述電極被配置為等間隔。
8.一種電子裝置，其特征在于備有權利要求1所述的有機電致發(fā)光裝置。
全文摘要
本發(fā)明的課題是，在用噴墨方式將有機EL材料噴射、涂敷在基板上形成有機EL層的有機EL裝置的制造中，在有效光學區(qū)域像素之間及各像素內使有機EL薄膜的厚度均勻。在顯示像素區(qū)域的周圍設置與顯示像素(42)形狀相同、間距相同的空圍堤(43)的組，在顯示像素區(qū)域的周邊也涂敷有機EL材料油墨組成物(41)，形成有機EL薄膜。
文檔編號B05D1/36GK1678144SQ200510056030
公開日2005年10月5日 申請日期2001年11月26日 優(yōu)先權日2000年11月27日
發(fā)明者關俊一, 森井克行 申請人:精工愛普生株式會社