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光產(chǎn)酸單體及其前體的制作方法

文檔序號(hào):9919196閱讀:1010來源:國(guó)知局
光產(chǎn)酸單體及其前體的制作方法
【專利說明】光產(chǎn)酸單體及其前體 本發(fā)明專利申請(qǐng)是申請(qǐng)?zhí)枮?01110463329.8,申請(qǐng)日為2011年12月31日,名稱為"光產(chǎn) 酸單體及其前體"的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。 相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0001 ]本發(fā)明是2010年12月31日提交的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)No . 61 /428,999的非臨時(shí)提交,其 全部?jī)?nèi)容援引包含于此。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002] 本發(fā)明公開了一種可聚合光產(chǎn)酸單體,以及用于該單體的磺內(nèi)酯前體化合物。 發(fā)明背景
[0003] 在硅晶片上印刻所需圖案的高級(jí)光刻技術(shù)通常依賴于聚(甲基丙烯酸酯)光致抗 蝕劑聚合物中酯的酸-催化脫保護(hù)成酸,作為轉(zhuǎn)移圖案的關(guān)鍵化學(xué)反應(yīng)以引起溶解度變化。 該催化過程,被稱為化學(xué)增幅,通過輻射光敏試劑或光致產(chǎn)酸劑(PAG)所引發(fā)。光致抗蝕劑 聚合物中所用的PAG可以由兩個(gè)部分組成:磺酸鹽陰離子,和通常具有至少一個(gè)芳族基團(tuán)的 三(烴基)锍陽(yáng)離子,其中,所述陽(yáng)離子吸收光子并且分解生成酸質(zhì)子,導(dǎo)致多重理想的酸-催化化學(xué)反應(yīng)。磺酸過酸,例如,通常在2或3個(gè)硫原子鍵長(zhǎng)之內(nèi)具有氟取代基的烷基或芳基 磺酸,在一些應(yīng)用中是優(yōu)選的。
[0004] 由于光刻技術(shù)的改進(jìn)導(dǎo)致圖案更高的分辨率日益提升,光致抗蝕劑基質(zhì)中的酸擴(kuò) 散成為焦點(diǎn)。在一種方式中,可以通過將所述酸的共輒堿(例如,磺酸鹽陰離子)連接到聚合 物阻礙酸擴(kuò)散,限制所述酸至有限的體積,以及更均勻地在光致抗蝕劑基質(zhì)中分散光致產(chǎn) 酸劑。
[0005][0006] 現(xiàn)有技術(shù)中上述和其他缺陷可以通過具有式(I)的化合物克服:
其中R1,R2和R3各自獨(dú)H為Η,F(xiàn),(^―1Q烷基,m取代 1Q烷基,Cp1Q壞烷基,或氟取代Cho 環(huán)烷基,條件是至少一個(gè)RSR2或R3為F;n為1到10的整數(shù),A是鹵化或非鹵化含有C 2-3Q稀烴的 可聚合基團(tuán),以及G+為有機(jī)或無機(jī)陽(yáng)離子。
[0007] -種聚合物包含式(I)的化合物。
[0008] -種單體的磺內(nèi)酯前體,具有式(XVI):
其中R各自獨(dú)立為F,Chq烷基,氟取代Chq烷基,Chq環(huán)烷基,或氟取代Cm環(huán)烷基,條 件是至少一個(gè)R為F;n為0到10的整數(shù),以及m為1到4+2n的整數(shù)。
[0009] 單體包括磺內(nèi)酯前體和含羥基或含羧基、鹵化或非鹵化、含C2-3Q烯烴化合物的氧 離子(oxyanion)的反應(yīng)產(chǎn)物。
【附圖說明】
[0010] 通過結(jié)合隨后附圖的詳細(xì)描述,上述和其他目的、特點(diǎn)以及本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是顯而 易見的,其中:
[0011] 圖1顯示一個(gè)示例性單體的質(zhì)量損失隨溫度的熱重分析曲線。
[0012]圖2是基于X射線晶體檢測(cè)分析的示例性單體鉀鹽的0RTEP曲線;和
[0013] 圖3是特征尺寸(埃)隨對(duì)使用示例光產(chǎn)酸劑單體制備的聚合物的照射劑量(毫焦 每平方厘米,mj/cm2)變化的深紫外線(DUV)光刻對(duì)照曲線。
【具體實(shí)施方式】
[0014] 本文公開的是一種單體的磺內(nèi)酯前體,和從氟化磺內(nèi)酯前體得到的用作光產(chǎn)酸劑 (本文簡(jiǎn)稱PAG)的新型烯烴單體。本文所用的"磺內(nèi)酯"涉及環(huán)磺酸酯,其通過親核加成攻擊 能夠開環(huán),其中開環(huán)親核攻擊特別針對(duì)磺酯環(huán)上氧α位上的碳原子。優(yōu)選地,磺內(nèi)酯被一個(gè) 或更多氟原子氟化,更優(yōu)選地,磺內(nèi)酯可以包括在磺酸酯硫原子*: 1位偕(geminal)二氟化亞 甲基。當(dāng)開環(huán)反應(yīng)使用的親核試劑是羧酸,如(甲基)丙烯酸,或羥基苯乙烯或羥基甲基苯乙 烯時(shí),與磺內(nèi)酯反應(yīng)的產(chǎn)物可用作自由基聚合的單體。在這些情況下,親核試劑可能是這些 化合物之一的氧離子,以及可能通過堿與(甲基)丙烯酸或苯乙烯羧酸,羥基苯乙烯(含酚 基)或羥基甲基苯乙烯(含芐醇部分)的反應(yīng)制得。
[0015] 這樣磺內(nèi)酯的開環(huán)產(chǎn)物以高產(chǎn)率非常清楚地獲得。具有低擴(kuò)散和低除氣性質(zhì)的光 產(chǎn)酸劑可進(jìn)一步通過交換反應(yīng)由開環(huán)產(chǎn)物制得,其中開環(huán)產(chǎn)物的陽(yáng)離子交換為光敏陽(yáng)離 子,例如含有至少一個(gè)苯基的鐵陽(yáng)離子。優(yōu)選當(dāng)聚合成聚合物和用于光致抗蝕劑組合物時(shí), 該單體,在暴露于高級(jí)光刻法所用的輻射如電子束,X射線和具有波長(zhǎng)為13.4-13.5nm的深 紫外線(EUV)時(shí)產(chǎn)生酸。這些單體優(yōu)選具有低的酸擴(kuò)散,以及可以提供高的對(duì)比度和良好的 線型。進(jìn)一步地,在相同的光致抗蝕劑組合物,曝光和工藝條件下,相對(duì)于傳統(tǒng)的非-聚合物 束縛(bound) PAG,這些PAG的分解產(chǎn)物可以減少。
[0016] 本文中,'猶"是指碘鐵或锍陽(yáng)離子。同樣,在本文中,"取代的"是指含有取代基, 例如鹵素(即F,Cl,Br,I),羥基,氨基,硫醇,羧基,羧酸鹽,酰胺,腈,硫醇,硫化物,二硫化 物,硝基,CKO烷基,CK0烷氧基,C 6-1Q芳基,C6-1Q芳氧基,C7-1Q烷芳基,C7-1Q烷芳氧基,或包含 前述至少一種的組合。除非另作說明或此類取代會(huì)對(duì)取代后的結(jié)構(gòu)的所期望的性能產(chǎn)生顯 著地不利的影響,對(duì)于本文中的通式而言,其所公開的任何的基團(tuán)或結(jié)構(gòu)都可以理解為是 可以取代的。同樣,本文中使用的"(甲基)丙烯酸酯"是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯,和除非 另作說明,其并不局限于其中任何一個(gè)。
[0017] 單體為具有通式(I)的化合物:
其中R1,R2和R3各目棚,U-10玩S,耿代U-10玩S,U-10*1、玩S,或氟取代Ci-io 環(huán)烷基,條件是至少一個(gè)RSR2或R3為F。示例性的基團(tuán)除一個(gè)或多個(gè)氟原子外,RSR 2和R3可 以包括烷基基團(tuán)如甲基,乙基,正丙基,異丙基,正丁基,2-丁基,異丁基,正戊基,2-戊基,3-戊基,2-甲基丁基,3-甲基丁基,正己基,正庚基,正辛基,3-辛基,正癸基,或具有一個(gè)或多 個(gè)氟取代基的前述烷基之一,包括三氟甲基,2,2,2-三氟乙基,全氟乙基,全氟丁基等;或環(huán) 烷基基團(tuán)例如環(huán)丁基,環(huán)戊基,1-甲基環(huán)戊基,環(huán)己基,1-甲基環(huán)己基,1-或2-金剛烷基,1-或2-萘烷基;或具有一個(gè)或多個(gè)氟取代基的上述環(huán)烷基基團(tuán)之一,包括全氟環(huán)戊烷基,3,5_ 二(三氟甲基)環(huán)己基,全氟環(huán)己烷基等。更優(yōu)選地,R 1,R2,和R3獨(dú)立地為Η和F的組合。
[0018] 同樣在式(I)中,η為1到10的整數(shù),以及優(yōu)選η為1,2,或3。在式(I)中,取代基R1,!?2 和R3的總數(shù)(非氫)可以為4+2n。單體可以包括僅單獨(dú)的R1,!?2,或R 3非氫取代基團(tuán)(當(dāng)取代基 是F時(shí)),或除F基團(tuán)外,包括超過一個(gè)的取代基(非氫)??蛇x地,取代基R1,!? 2和R3非氟。
[0019] 同樣在式(I)中,A是鹵化或非鹵化含有C2-3Q烯烴的可聚合基團(tuán),以及G+為有機(jī)或無 機(jī)陽(yáng)咼子。
[0020] 特別地,A是親核試劑的反應(yīng)殘基。當(dāng)親核試劑包括任何能夠與本文所述的前體磺 內(nèi)酯反應(yīng)的親核基團(tuán)時(shí),親核試劑優(yōu)選為可以通過如自由基,陰離子,陽(yáng)離子或可控自由基 聚合方法的聚合條件下得到聚合物的可聚合基團(tuán)。優(yōu)選地,親核試劑是含羥基鹵化或非鹵 化含C 2-3Q烯烴化合物的氧離子,其中A是提供鹵化或非鹵化含C2-3Q烯烴可聚合基團(tuán)A的親核 試劑的反應(yīng)基。
[0021] 優(yōu)選地,親核試劑是C3-2Q乙烯基羧酸,含羥基C5-2Q乙烯基碳酸酯,或C7-20乙烯基羥 基芳香化合物的氧離子。其中用到的羥基芳香化合物,可包括酚羥基,或非酚羥基,例如芐 羥基,或側(cè)羥基。
[0022] 示例性的親核試劑包括不飽和羧酸的氧離子例如(甲基)丙烯酸,(甲基)丙烯?;?乙酸,馬來酸或富馬酸,檸康酸,衣康酸,含羥基(甲基)丙烯酸酯例如2-羥基乙基(甲基)丙 烯酸酯和2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯,降冰片烯的羧酸例如5-降冰片烯-2-羧酸和5-降冰 片烯-2,3-二羧酸,含羥基(甲基)丙烯酸酯例如2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯和2-羥基丙基 (甲基)丙烯酸酯;羥基苯乙烯例如鄰,間或?qū)?羥基苯乙烯,或乙烯基苯甲醇例如4-乙烯基 苯甲醇。
[0023]優(yōu)選地,化合物具有式(II)或(III)的結(jié)構(gòu):
其中R2,R3,和R4各自獨(dú)立的為Η,F(xiàn),&-1()烷基,或 1()氟烷基,η為1或2,A-Ο為C3-2Q乙烯基 羧酸酯基團(tuán),含羥基的C5-2Q乙烯基羧酸酯基團(tuán),或C7-2Q乙烯基芳氧化合物,以及G+為有機(jī)或 無機(jī)陽(yáng)離子。
[0024]更加優(yōu)選,化合物具有式(IV),(V),(VI),或(VIII)的結(jié)構(gòu):
其中R2,R3,R4,R5,R6,和R 7各自獨(dú)立的為Η,F(xiàn),Cko烷基,或氟取代Cko烷基,R8各自獨(dú)立 為F,Cl-10烷基,或氣取代Cl-1Q烷基,L為鹵化或非鹵化Cl-3Q亞烷基,C2-3Q亞烯基,單環(huán)或多環(huán) C3-3Q環(huán)烷基,單環(huán)或多環(huán)C6-3Q亞芳基,或單環(huán)或多環(huán)C7-30亞烷基-亞芳基(alkylene-arylene)基團(tuán);k和1各自獨(dú)立為0到5的整數(shù)以及當(dāng)k為0時(shí),1為1 ;m為0到4的整數(shù);η為1,2, 或3;以及G+為有機(jī)或無機(jī)陽(yáng)離子。
[0025] 化合物可以更加優(yōu)選為式(IX),(X),(XI),(XII),或(XIII):
其中R5和R7各自獨(dú)立為H ACho烷基,或氟取代Cm烷基,以及G+為有機(jī)或無機(jī)陽(yáng)離 子。優(yōu)選的R5和R7各自獨(dú)立為Η或-CH3。
[0026]除通過磺內(nèi)酯與親核試劑反應(yīng)提供陰離子結(jié)構(gòu)外,單體還包括陽(yáng)離子G+,其中陽(yáng) 離子可以是與親核試劑結(jié)合的任何陽(yáng)離子(即作為親核試劑鹽的陽(yáng)離子)。這樣,陽(yáng)離子可 以是,例如,無機(jī)陽(yáng)離子,包括堿金屬陽(yáng)離子,如鋰,鈉,鉀,銣,銫,堿土金屬陽(yáng)離子,如鎂, 鈣,鋇,或鍶;主族金屬陽(yáng)離子如鋁,錫,鉛,或鉍,或過渡金屬陽(yáng)離子如銅,鋅,鐵,鎳,鈷,或 銀;或陽(yáng)離子可以是有機(jī)陽(yáng)離子例如銨陽(yáng)離子,包括銨,烷基銨(包括單_,二_,三-或四烷基 銨例如三乙基銨,四甲基銨,四丁基銨,三甲基苯基銨,或十六烷基銨);亞銨離子;胍離子, 烷基鱗陽(yáng)離子;或碘鐵陽(yáng)離子或烷基,芳基或芳烷基取代的硫??梢允褂糜汕笆鲋辽僖环N組 成的混合物。優(yōu)選的,陽(yáng)離子是可光降解的鐵陽(yáng)離子,這樣單體同樣可以光降解,即
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