技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及光學(xué)膜制備領(lǐng)域，具體涉及一種高阻隔性光學(xué)薄膜及其制備方法和應(yīng)用。該光學(xué)薄膜由光學(xué)基膜、氧氣阻隔膜和水汽阻隔膜復(fù)合而成，所述光學(xué)基膜的上表面涂有所述氧氣阻隔膜，所述氧氣阻隔膜的上表面涂有所述水汽阻隔膜，所述氧氣阻隔膜位于所述光學(xué)基膜與所述水汽阻隔膜之間。其制備方法包括：S1.疏水改性PVA阻隔液及隔水阻隔液的制備；S2.疏水改性PVA阻隔液的涂布及干燥；S3.隔水阻隔液的涂布及干燥。本發(fā)明提供的高阻隔性光學(xué)薄膜產(chǎn)品由光學(xué)基膜、氧氣阻隔膜和水汽阻隔膜三層復(fù)合而成，得到產(chǎn)品具有極低的透氧透水性，可用作量子點膜的外層阻隔膜或用作要求阻隔外界氧氣和水汽的食品包裝膜等；制備方法簡單，生產(chǎn)成本低。

技術(shù)研發(fā)人員：徐瑞璋;向愛雙;丁玲;張磊
受保護的技術(shù)使用者：武漢保麗量彩科技有限公司
文檔號碼：201710025909
技術(shù)研發(fā)日：2017.01.13
技術(shù)公布日：2017.06.27