技術(shù)編號：12708408
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光學(xué)膜制備領(lǐng)域，具體涉及一種高阻隔性光學(xué)薄膜及其制備方法和應(yīng)用。背景技術(shù)將通過量子點納米材料制備的量子點膜應(yīng)用在顯示器的背光模組中，可以提高色域值和色彩飽和度，是近年來興起的一項熱門技術(shù)。但是量子點材料對高溫、強光、氧氣、濕度及酸等有害環(huán)境極為敏感，非常容易衰減，故在量子點膜的實際應(yīng)用中，需要良好的阻隔性能，以保證產(chǎn)品在使用過程中的穩(wěn)定性。目前，在電學(xué)、包裝等領(lǐng)域一般多采用無機物或無機物與有機物復(fù)合制備阻隔涂層，其具有良好的阻隔性能；目前也已經(jīng)開發(fā)出高度透明的阻隔涂層應(yīng)用于光學(xué)膜領(lǐng)域。...
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