光學(xué)用膜及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及可用作偏振片保護(hù)膜等的由嵌段共聚物氫化物形成的光學(xué)用膜，具體 而言，涉及與以往相比表面缺陷少、平面狀優(yōu)異的光學(xué)用膜。
【背景技術(shù)】
[0002] 已知，將芳香族乙烯基化合物聚合物的芳環(huán)氫化而得到的芳香族乙烯基化合物聚 合物氫化物、以及將包含以源自芳香族乙烯基化合物的重復(fù)單元為主成分的聚合物嵌段和 含有源自鏈狀共輒二烯化合物的重復(fù)單元的聚合物嵌段的嵌段共聚物的芳環(huán)及源自二烯 的雙鍵氫化而得到的嵌段共聚物氫化物，可用于偏振膜、相位差膜等光學(xué)膜，將經(jīng)擠出成型 而得到的膜進(jìn)行拉伸可賦予期望的相位差（專(zhuān)利文獻(xiàn)3~6)。
[0003] 另一方面，對(duì)于用于液晶顯示裝置這樣的利用偏振光的裝置的由熱塑性樹(shù)脂形成 的膜，要求光學(xué)透明、在平面方向及厚度方向的面內(nèi)的相位差變動(dòng)小，不易產(chǎn)生由基于膜表 面的凹凸的透鏡效果引起的圖像的失真現(xiàn)象，等等。
[0004] 因此，對(duì)于光學(xué)用膜用途，高度要求膜厚度的均勻性，一直以來(lái)，從可獲得厚度均 勻性優(yōu)異的膜的觀點(diǎn)出發(fā)，光學(xué)用膜可通過(guò)溶液流延法制造。
[0005] 近年來(lái)，溶液流延法被指出會(huì)由于溶劑而導(dǎo)致環(huán)境污染、生產(chǎn)性低，正在應(yīng)用的是 熔融擠出法。然而，熔融擠出法不僅所制成的膜的厚度容易變動(dòng)，而且還存在容易在膜擠出 方向上產(chǎn)生分模線的缺點(diǎn)。
[0006] 需要說(shuō)明的是，分模線包括從模擠出的熔融樹(shù)脂附著于模的壁面而成的其附著痕 跡成為線狀痕而顯示的分模線、和在附著于模的模唇口而成的樹(shù)脂痕跡處經(jīng)過(guò)而成的分模 線等。這些分模線的凹凸約為0. 1~0. 5 μπι左右，且其寬度由約50~500 μπι左右的峰和 谷構(gòu)成。
[0007] 在光學(xué)用膜中，該分模線會(huì)成為光信號(hào)錯(cuò)誤的原因或?qū)︼@示器造成會(huì)映出分模線 圖案等的不良影響。因此，已嘗試了在膜擠出成型時(shí)對(duì)熔融樹(shù)脂的溫度進(jìn)行調(diào)整、對(duì)熔融粘 度加以選定、向冷卻輥與模的氣隙、與冷卻輥接觸的熔融樹(shù)脂膜施加電壓等。另外，還進(jìn)行 了對(duì)模的唇部實(shí)施研磨處理、鍍鉻等鍍敷處理。
[0008] 然而，采用這些方法并不能充分防止分模線，在連續(xù)生產(chǎn)過(guò)程中分模線將逐漸增 加，會(huì)產(chǎn)生生產(chǎn)方面或制品特性的穩(wěn)定性等各種問(wèn)題。
[0009] 為此，已進(jìn)行了各種研究。
[0010] 例如，專(zhuān)利文獻(xiàn)1中提出了一種透明樹(shù)脂片，其由環(huán)狀烯烴類(lèi)熱塑性樹(shù)脂形成，在 至少一面上形成有表面粗糙度為0. 01 y m以下的光滑面，且其厚度為0. 05~3mm，殘余相位 差為20nm以下。另外，該文獻(xiàn)中，作為制造該樹(shù)脂片的方法，有如下記載：從安裝于擠出機(jī) 的T型模將熔融狀態(tài)的環(huán)狀烯烴類(lèi)熱塑性樹(shù)脂利用金屬制冷卻用輥和金屬制冷卻用帶夾 壓，由此使該環(huán)狀烯烴類(lèi)熱塑性樹(shù)脂壓合于該冷卻用輥或冷卻用帶，然后，于上述環(huán)狀烯烴 類(lèi)熱塑性樹(shù)脂的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以下的溫度將該環(huán)狀烯烴類(lèi)熱塑性樹(shù)脂從上述冷卻輥或 上述冷卻用帶剝離。
[0011] 另外，專(zhuān)利文獻(xiàn)2中提出了環(huán)狀烯烴樹(shù)脂制擠出成型物（片狀或膜狀）的制造方 法，其包括：將環(huán)狀烯烴樹(shù)脂熔融，并使熔融狀態(tài)的環(huán)狀烯烴樹(shù)脂通過(guò)具有剝離強(qiáng)度為75N 以下的唇部的模后擠出，使環(huán)狀烯烴樹(shù)脂成型。另外，該文獻(xiàn)中記載了：根據(jù)該方法，由于具 有極為優(yōu)異的表面光滑性，因此能夠在光學(xué)用途中適宜地使用。
[0012] 另外，專(zhuān)利文獻(xiàn)3中公開(kāi)了在包括下述工序的光學(xué)用膜的制造方法中，通過(guò)使用 模唇的表面粗糙度Ra的平均值為0. 05 μm以下、且模唇整個(gè)寬度上的表面粗糙度Ra的分 布范圍為上述平均值±0. 025 μπι以下的模，可以得到分模線的從相鄰的峰的頂點(diǎn)到谷的 底點(diǎn)之間的高度在膜整個(gè)面上為l〇〇nm以下、且膜表面的分模線的傾斜度在膜整個(gè)面上為 300nm/mm以下的光學(xué)用膜，所述工序是利用擠出機(jī)使具有脂環(huán)式結(jié)構(gòu)的非晶性熱塑性樹(shù)脂 熔融后從模擠出為片狀，并使擠出的片狀非晶性熱塑性樹(shù)脂與至少1個(gè)冷卻鼓密合，進(jìn)行 成型并接取。
[0013] 另一方面，專(zhuān)利文獻(xiàn)4、6中公開(kāi)了通過(guò)使用源自芳香族乙烯基化合物的聚合物嵌 段和源自共輒二烯化合物的聚合物嵌段這兩者被氫化的嵌段共聚物氫化物，可以得到光學(xué) 補(bǔ)償膜及相位差小的光學(xué)用膜。由于作為原料的芳香族乙烯基化合物及共輒二烯的獲取容 易，因此，與由環(huán)狀烯烴合成的具有脂環(huán)式結(jié)構(gòu)的熱塑性樹(shù)脂相比，容易實(shí)現(xiàn)更大規(guī)模的供 給，能夠期望使用該嵌段共聚物氫化物的光學(xué)用膜的實(shí)用化。
[0014] 現(xiàn)有專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0015] 專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0016] 專(zhuān)利文獻(xiàn)1 :日本特開(kāi)2000-219752號(hào)公報(bào)
[0017] 專(zhuān)利文獻(xiàn)2 :日本特開(kāi)2000-280315號(hào)公報(bào)
[0018] 專(zhuān)利文獻(xiàn)3 :日本特開(kāi)2005-128360號(hào)公報(bào)
[0019] 專(zhuān)利文獻(xiàn)4 :日本特開(kāi)2003-114329號(hào)公報(bào)
[0020] 專(zhuān)利文獻(xiàn) 5 :國(guó)際公開(kāi) W〇2〇〇9/〇6729〇 號(hào)（US2〇10/29〇ll7Al)
[0021] 專(zhuān)利文獻(xiàn) 6 :國(guó)際公開(kāi) W〇2〇〇9/l37278 號(hào)（US2〇ll/〇38〇45Al)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0022] 發(fā)明要解決的問(wèn)題
[0023] 伴隨著近年來(lái)液晶顯示裝置的高精細(xì)化、高亮度化，在將通過(guò)這些公報(bào)中記載的 方法而得到的光學(xué)用膜用于具備亮度高的光源的顯示裝置時(shí)，存在著源自分模線的條紋作 為光的明或暗在顯示畫(huà)面上即使通過(guò)目視也顯著可見(jiàn)的問(wèn)題、或引發(fā)漏光的問(wèn)題，正在尋 求進(jìn)一步的改善。
[0024] 在上述情況下，本申請(qǐng)申請(qǐng)人發(fā)現(xiàn)，與專(zhuān)利文獻(xiàn)2、3等中公開(kāi)的由環(huán)狀烯烴合成 的具有脂環(huán)式結(jié)構(gòu)的熱塑性樹(shù)脂相比，專(zhuān)利文獻(xiàn)4、6等中公開(kāi)的源自芳香族乙烯基化合物 的聚合物嵌段和源自共輒二烯化合物的聚合物嵌段這兩者經(jīng)過(guò)了氫化的嵌段共聚物氫化 物在熔融擠出成型時(shí)在模唇口產(chǎn)生的由氧化劣化引起的附著物較少。
[0025] 然而，這并不一定能夠減少分模線。
[0026] 因此，本發(fā)明的目的在于提供一種光學(xué)用膜，其使用工業(yè)上容易大規(guī)模供給的嵌 段共聚物氫化物，與現(xiàn)有的光學(xué)用膜相比表面缺陷較少，特別是在用于具備高精細(xì)且高亮 度的光源的顯示裝置時(shí)，不會(huì)確認(rèn)到由分模線引起的明暗條紋，并且沒(méi)有漏光。
[0027] 解決問(wèn)題的方法
[0028] 本發(fā)明人等為達(dá)成上述目的而進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過(guò)在將特定的嵌段 共聚物氫化物的膜熔融擠出時(shí)使用特定的模，且使用在熔融擠出前在特定溫度范圍進(jìn)行了 特定時(shí)間以上的加熱處理的嵌段共聚物氫化物的粒料，可達(dá)成上述目的，從而完成了本發(fā) 明。
[0029] 于是，根據(jù)本發(fā)明，提供下述（1)的光學(xué)用膜、（2)的偏振片保護(hù)膜、（3)的相位差 膜、及（4)的光學(xué)用膜的制造方法。
[0030] (1) -種光學(xué)用膜，其由嵌段共聚物氫化物[2]形成，所述嵌段共聚物氫化物[2] 是將嵌段共聚物[1]的全部不飽和鍵的90%以上氫化而成的，所述嵌段共聚物[1]包含以 源自芳香族乙烯基化合物的重復(fù)單元為主成分的至少2個(gè)聚合物嵌段[A]、和以源自鏈狀 共輒二烯化合物的重復(fù)單元為主成分的至少1個(gè)聚合物嵌段[B]，在將全部聚合物嵌段[A] 在嵌段共聚物整體中所占的重量分率設(shè)為wA、將全部聚合物嵌段[B]在嵌段共聚物整體中 所占的重量分率設(shè)為wB時(shí)，wA與wB之比（wA:wB)為40:60~80:20,其特征在于，該膜的長(zhǎng) 度方向上形成的分模線的從相鄰的峰的頂點(diǎn)到谷的底點(diǎn)之間的高度在膜整個(gè)面上為l〇〇nm 以下，并且，以式1表示的膜表面的分模線的傾斜度在膜整個(gè)面上為300nm/mm以下。
[0031] [數(shù)學(xué)式1]
[0032] 傾斜度（nm/mm)=(從相鄰的峰的頂點(diǎn)到谷的底點(diǎn)之間的高度V(從相鄰的峰的 頂點(diǎn)到谷的底點(diǎn)之間的寬度）· · ·式1。
[0033] (2) -種偏振片保護(hù)膜，其包含上述（1)所述的光學(xué)用膜。
[0034] (3) -種相位差膜，其是對(duì)上述（1)所述的光學(xué)用膜進(jìn)行拉伸而成的。
[0035] (4) -種光學(xué)用膜的制造方法，其包括下述工序：利用擠出機(jī)使嵌段共聚物氫化 物[2]熔融后從安裝于該擠出機(jī)的模擠出為片狀，并使擠出的片狀的嵌段共聚物氫化物 [2]與至少1個(gè)冷卻鼓密合，進(jìn)行成型并接取，其特征在于，該方法使用模唇的表面粗糙度 Ra的平均值為0. 05 μ m以下、且模唇整個(gè)寬度上的表面粗糙度Ra的分布范圍為所述平均值 ±0. 025 μ m以下的模，并且使用在50~120°C的溫度下保持了 2小時(shí)以上的嵌段共聚物氫 化物[2]的粒料。
[0036] 發(fā)明的效果
[0037] 根據(jù)本發(fā)明，可提供與現(xiàn)有的光學(xué)用膜相比表面缺陷少、特別是在用于具備亮度 高的光源的顯示裝置時(shí)不會(huì)確認(rèn)到由分模線引起的明暗條紋、且沒(méi)有亮度不均的光學(xué)用 膜。
【附圖說(shuō)明】
[0038] [圖1]本發(fā)明的光學(xué)用膜的分模線的放大部分。
[0039] 符號(hào)說(shuō)明
[0040] 1 :基線
[0041] 2:峰的頂點(diǎn)
[0042] 3 :谷的底點(diǎn)
[0043] 4 :從峰的頂點(diǎn)到谷的底點(diǎn)之間的距離
[0044] 5、6 :