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一種生成石墨烯薄膜的裝置的制造方法

文檔序號:10903513閱讀:628來源:國知局
一種生成石墨烯薄膜的裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種生成石墨烯薄膜的裝置,使用濕法攪拌球磨剝離石墨層,制備石墨烯薄膜。其特征在于:裝置由高溫處理部、原位還原部、加藥部、機(jī)械剝離部、離心分離部和干燥部構(gòu)成;剝離設(shè)備包括圓柱形腔室、轉(zhuǎn)動軸、轉(zhuǎn)動橫桿和磨球等,其中轉(zhuǎn)動軸帶動與軸垂直的許多轉(zhuǎn)動橫桿在固定的圓柱形腔體內(nèi)攪動,轉(zhuǎn)動橫桿在攪動中帶動腔體內(nèi)的磨球相互碰撞和摩擦,從而對粉體進(jìn)行研磨,石墨原料在受到摩擦力的剪切作用下,石墨中各石墨層間的范德華力瓦解,從而使得石墨被剝離減薄獲得石墨烯,進(jìn)入離心分離部。本實用新型生產(chǎn)石墨烯的類機(jī)械剝離裝置操作簡單,所得石墨烯晶體結(jié)構(gòu)完美,且可以實現(xiàn)石墨烯的高效穩(wěn)定化生產(chǎn)。
【專利說明】
一種生成石墨烯薄膜的裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及一種高效穩(wěn)定的石墨烯薄膜生產(chǎn)設(shè)備,尤其涉及一種生成石墨烯薄膜的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]石墨烯憑借其獨(dú)特的性質(zhì)成為了近年來材料研究領(lǐng)域的熱點(diǎn)之一。最初發(fā)現(xiàn)的石墨烯是由單層碳六元環(huán)組成的二維周期蜂窩狀點(diǎn)陣結(jié)構(gòu),可稱為本征石墨烯或單碳層石墨烯,它是通過膠帶法制備獲得的。它可以翹曲成零維的富勒烯,卷成一維的碳納米管或者堆垛成三維的石墨,因此單碳層石墨烯是構(gòu)成其他石墨材料的基本單元。作為一種準(zhǔn)二維晶體,單碳層石墨烯在碳平面內(nèi)有無限重復(fù)的周期性結(jié)構(gòu),但在垂直于碳平面的方向只具有納米尺度,可以看作是具有宏觀尺寸的納米材料,表現(xiàn)出許多獨(dú)特的性質(zhì)。石墨烯具有卓越的二維電學(xué)、光學(xué)、熱學(xué)、力學(xué)性能以及化學(xué)穩(wěn)定性,其獨(dú)特的二維結(jié)構(gòu)和優(yōu)異的晶體學(xué)質(zhì)量使得其在超快速微納光電子器件,射頻器件,潔凈能源和各類傳感器等領(lǐng)域具有重要的實用價值。比如,電子在石墨烯里遵循相對論量子力學(xué),沒有靜質(zhì)量,以1/300光速的超高速度運(yùn)行,表現(xiàn)出奇異的室溫量子霍爾效應(yīng)及彈道輸運(yùn)現(xiàn)象,可制備室溫彈道輸運(yùn)晶體管,被視為未來信息納米器件的重要基礎(chǔ)新材料;石墨烯電子傳輸速度是硅的150倍,有望制備出速度達(dá)到兆赫的超快速計算機(jī)與射頻器件;石墨烯的單分子度的敏感性有望在各種傳感器,如氣體傳感器和生物傳感器等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用;石墨烯具有2.3 %光吸收的光學(xué)特性,使其可以用于制備超快速光探測器和鎖模激光器,另一方面,由于極低的光吸收特性,使得石墨烯既可用于制備光電子器件,如發(fā)光二極管和太陽能電池等的透明電極,從而取代成本昂貴、資源稀少、不可折疊的以銦為主要成分的ITO透明導(dǎo)電膜,也可用于制備超級電容器和鋰離子電池;基于石墨烯的有機(jī)光伏打電池的能量轉(zhuǎn)換效率可望達(dá)到24%。
[0003]目前,制備石墨烯的方法主要有機(jī)械剝離法,氧化石墨還原法,熱分解SiC法,化學(xué)氣相沉積法和外延生長法等。其中,氧化石墨還原法相對高效且成本較低,并能夠制備出大量的石墨烯懸浮液及石墨烯衍生物,但在氧化還原的過程中,石墨烯的電子結(jié)構(gòu)以及晶體的完整性容易受到強(qiáng)氧化劑的破壞,造成石墨烯的結(jié)構(gòu)存在較多的不可控缺陷,而導(dǎo)致其部分電學(xué)、熱學(xué)性能損失;熱解SiC法也會產(chǎn)生不可控缺陷以及多晶疇結(jié)構(gòu),難以獲得較好的長程有序結(jié)構(gòu),制備大面積具有單一厚度的石墨烯比較困難;化學(xué)氣相沉積法雖然可以實現(xiàn)石墨烯薄膜的大面積生長,但工藝控制較為復(fù)雜;外延生長法生產(chǎn)的石墨烯薄片往往厚度不均勻,且石墨烯和基質(zhì)之間的黏合會影響碳層的特性。相比之下,機(jī)械剝離法是一種能以低成本制備出高質(zhì)量石墨烯的簡單易行的方法。目前制約石墨烯材料研究和應(yīng)用的主要因素為:石墨烯難以規(guī)模化制備和制備過程中質(zhì)量和產(chǎn)率難以控制。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]針對現(xiàn)有技術(shù)之不足,本發(fā)明提供了一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,所述裝置由高溫處理部、原位還原部、加藥部、機(jī)械剝離部、離心分離部和干燥部構(gòu)成;
[0005]所述機(jī)械剝離部的圓柱形腔室通過第一進(jìn)料通道與原位還原部相連,所述機(jī)械剝離部的圓柱形腔室通過第二進(jìn)料通道與加藥部相連,轉(zhuǎn)動軸在圓柱形腔室內(nèi)與轉(zhuǎn)動橫桿垂直連接,磨球置于所述圓柱形腔室內(nèi),所述圓柱形腔室通過排料口與離心分離部相連;
[0006]其中,所述轉(zhuǎn)動軸帶動與軸垂直相連的轉(zhuǎn)動橫桿在固定的圓柱形腔室內(nèi)攪動,以便在攪動中帶動腔室內(nèi)磨球和石墨原料相互碰撞和摩擦。
[0007]根據(jù)一個優(yōu)選實施方式,所述磨球為直徑50μηι?ΙΟΟμπι且硬度大于石墨的珠子。
[0008]根據(jù)一個優(yōu)選實施方式,所述高溫處理部用于在200°C?1200°C和氮?dú)饣蚨栊詺怏w氣氛的條件下對石墨原料進(jìn)行高溫處理。
[0009]根據(jù)一個優(yōu)選實施方式,所述原位還原部用于在200°C?1200°C和氮?dú)浠旌蠚怏w氣氛的條件下對石墨原料進(jìn)行還原處理。
[0010]根據(jù)一個優(yōu)選實施方式,用于存放表面活性添加劑的所述加藥部用于,通過第二進(jìn)料管道與用于對石墨原料進(jìn)行剝離的所述機(jī)械剝離部相連,并且所述加藥部用于持續(xù)向機(jī)械剝離部的圓柱形腔室加藥。
[0011]根據(jù)一個優(yōu)選實施方式,所述機(jī)械剝離部用于接收原位還原部處理后石墨原料并基于所述加藥部提供的表面活性添加劑完成高溫處理后的所述石墨原料的機(jī)械剝離處理。
[0012]根據(jù)一個優(yōu)選實施方式,所述離心分離部用于將經(jīng)機(jī)械剝離部處理后的石墨烯和石墨的混合懸濁液液進(jìn)行離心分離。
[0013]根據(jù)一個優(yōu)選實施方式,所述干燥部用于將得到的含石墨烯溶液進(jìn)行干燥處理,得到石墨稀薄膜。
[0014]根據(jù)一個優(yōu)選實施方式,所述高溫處理部用于在200°C?1200°C和氮?dú)饣蚨栊詺怏w氣氛條件下對石墨原料進(jìn)行高溫處理,并與原位還原部相連;
[0015]所述原位還原部用于在200°C?1200°C和氮?dú)浠旌蠚怏w氣氛的條件下對接收經(jīng)所述高位處理部處理后的石墨原料進(jìn)行還原處理,并通過第一進(jìn)料管道與機(jī)械剝離部相連;
[0016]用于存放表面活性添加劑的所述加藥部通過第二進(jìn)料管道與用于對石墨原料進(jìn)行剝離的所述機(jī)械剝離部相連,并且所述加藥部用于持續(xù)向機(jī)械剝離部的圓柱形腔室加藥;
[0017]所述機(jī)械剝離部用于接收原位還原部處理后石墨原料并基于所述加藥部提供的表面活性添加劑完成高溫處理后的所述石墨原料的機(jī)械剝離處理;
[0018]所述離心分離部用于將經(jīng)機(jī)械剝離部處理后的石墨烯和石墨的混合懸濁液液進(jìn)行離心分離;所述干燥部用于將得到的含石墨烯溶液進(jìn)行干燥處理,得到石墨烯薄膜。
[0019]根據(jù)一個優(yōu)選實施方式,所述機(jī)械剝離部的圓柱形腔室通過第一進(jìn)料通道與原位還原部相連,所述機(jī)械剝離部的圓柱形腔室通過第二進(jìn)料通道與加藥部相連,轉(zhuǎn)動軸在圓柱形腔室內(nèi)與轉(zhuǎn)動橫桿垂直連接,磨球置于所述圓柱形腔室內(nèi),所述磨球為直徑50μηι?100μπι且硬度大于石墨的珠子,所述機(jī)械剝離部的圓柱形腔室通過排料口與離心分離部相連,其中,所述轉(zhuǎn)動軸帶動與軸垂直相連的轉(zhuǎn)動橫桿在固定的圓柱形腔室內(nèi)攪動,以便在攪動中帶動腔體內(nèi)磨球和石墨原料相互碰撞和摩擦。
[0020]本實用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0021 ] (I)本實用新型的磨球以50μηι?ΙΟΟμπι的磨球為球磨介質(zhì),在石墨機(jī)械剝離過程中,石墨片層被反復(fù)剝離次數(shù)顯著增加,提高了機(jī)械剝離效率。
[0022](2)本實用新型的磨球直徑控制在50μηι?ΙΟΟμπι時,所得石墨片層厚度分布集中,50%以上的石墨片層厚度都在4nm以下。
[0023](3)本實用新型以機(jī)械剝離的方式生產(chǎn)石墨烯薄膜,保證了石墨烯晶體結(jié)構(gòu)完美性。
【附圖說明】
[0024]圖1是本實用新型的裝置各部連接關(guān)系示意圖;和
[0025]圖2是本實用新型機(jī)械剝離部結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]附圖標(biāo)記列表
[0027]101:石墨原料 102:高溫處理部 103:原位還原部
[0028]104:加藥部105:離心分離部 106:干燥部
[0029]107:石墨烯薄膜 200:機(jī)械剝離部 201:圓柱形腔室
[0030]202:第一進(jìn)料通道203:第二進(jìn)料通道204:轉(zhuǎn)動軸
[0031]205:轉(zhuǎn)動橫桿 206:磨球207:排料通道
【具體實施方式】
[0032]下面結(jié)合附圖和實施例進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0033]圖1示出了本實用新型的裝置各部連接關(guān)系。如圖1所示,本實用新型一種生成石墨烯薄膜的裝置包括高溫處理部102,原位還原部103,加藥部104,機(jī)械剝離部200,離心分離部105,干燥部106。所述高溫處理部102與原位還原部103相連,高溫處理部102對加入其中的石墨原料101進(jìn)行高溫處理,并將處理后的石墨原料101送至原位還原部103。高溫處理溫度為200°C?1200°C,處理環(huán)境保持為空氣、真空、氮?dú)饣蚨栊詺怏w。一個優(yōu)選的實施方式為高溫處理過程中處理環(huán)境保持為惰性氣體環(huán)境。石墨原料101在惰性氣體保護(hù)下加熱200°C?1200°C,含氧官能團(tuán)穩(wěn)定性下降,以水蒸氣、二氧化碳等形式離開。原位還原部103與高溫處理部102和機(jī)械剝離部200相連。原位還原部103接受經(jīng)高溫處理部102處理后的石墨原料101,并對其進(jìn)行還原處理,處理后的石墨原料101送至機(jī)械剝離部200。在原位還原部103中,在200°C?1200°C溫度條件下,加入氮?dú)饣驓錃庵械闹辽僖环N作為還原介質(zhì),對石墨原料101進(jìn)行還原處理,進(jìn)一步去除石墨原料101中的含氧官能團(tuán)。加藥部104與機(jī)械剝離部200相連。加藥部104用于存放表面活性添加劑,并在所述機(jī)械剝離部200對石墨原料101進(jìn)行剝離過程中,持續(xù)向機(jī)械剝離部200加藥。表面活性添加劑為十二烷基硫酸鈉、甲基戊醇、草酸鈉、甲基纖維素鈉、聚丙烯酰胺、古爾膠、脂肪酸聚乙二醇酯中的一種或幾種。機(jī)械剝離部200與離心分離部105相連。機(jī)械剝離部200用于接收原位還原部103的還原處理后的石墨原料101和加藥部104提供的表面活性劑,并對接收的石墨原料101進(jìn)行攪動球磨剝離,并將經(jīng)過剝離處理后的石墨烯和石墨的混合懸濁液送入離心分離部105。離心分離部105與干燥部106相連。離心分離部105對進(jìn)入其中的石墨烯和石墨的混合懸濁液進(jìn)行離心處理,的到石墨烯懸濁液,并送入干燥部106。干燥部106對進(jìn)入其中的石墨烯懸濁液進(jìn)行干燥處理,最終得到石墨烯薄膜107。
[0034]圖2是本實用新型機(jī)械剝離部結(jié)構(gòu)事宜圖。參見2所示,機(jī)械剝離部200包括圓柱形腔室201、第一進(jìn)料通道202、第二進(jìn)料通道203、轉(zhuǎn)動軸204、轉(zhuǎn)動橫桿205和磨球206。機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201通過第一進(jìn)料通道202與原位還原部103相連,所述機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201通過第二進(jìn)料通道203與加藥部104相連,轉(zhuǎn)動軸204在圓柱形腔室201內(nèi)與轉(zhuǎn)動橫桿205垂直連接,磨球206置于所述圓柱形腔室201內(nèi),所述磨球206為直徑50-ΙΟΟμπι且硬度大于石墨的珠子。所述機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201通過排料通道207與離心分離部105相連。原位還原部103通過第一進(jìn)料通道202向機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201加入石墨原料101。加藥部104通過第二進(jìn)料口 203向機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201加入表面活性添加劑。轉(zhuǎn)動軸204帶動與轉(zhuǎn)動軸204垂直相連的轉(zhuǎn)動橫桿205在圓柱形腔室201內(nèi)攪動。轉(zhuǎn)動橫桿205在攪動中帶動圓柱形腔室201內(nèi)的磨球206和石墨原料101相互碰撞和摩擦,石墨原料101在所述磨球206摩擦力的剪切作用下,石墨中各石墨層間的范德華力瓦解,獲得石墨烯和石墨的懸濁液。
[0035]實施例1
[0036]結(jié)合圖1和圖2說明本實用新型的石墨烯薄膜生產(chǎn)過程。高溫處理部102與原位還原部103相連,高溫處理部102在1000°C高溫和惰性氣體處理環(huán)境下對加入其中的石墨原料101進(jìn)行I小時高溫處理,并將處理后的石墨原料101送至原位還原部103。石墨原料101在惰性氣體保護(hù)下加熱至1000°c,含氧官能團(tuán)穩(wěn)定性下降,以水蒸氣、二氧化碳等形式離開石墨烯原料101。原位還原部103與高溫處理部102相連,并通過第一進(jìn)料通道202與機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201相連。原位還原部103接受經(jīng)高溫處理部102處理后的石墨原料101,并在100tC溫度條件下,加入氮?dú)饣驓錃庵械闹辽僖环N作為還原介質(zhì),對其進(jìn)行I小時還原處理,處理后的石墨原料101送至機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201。石墨原料101進(jìn)行還原處理,將進(jìn)一步去除石墨原料101中的含氧官能團(tuán)。加藥部104通過第二進(jìn)料通道203與機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201相連。加藥部104用于存放表面活性添加劑,并在所述機(jī)械剝離部200對石墨原料101進(jìn)行剝離過程中,持續(xù)向機(jī)械剝離部200加入十二烷基硫酸鈉與水配成濃度為80.0 %的漿體。機(jī)械剝離部200的轉(zhuǎn)動軸204在圓柱形腔室201內(nèi)與轉(zhuǎn)動橫桿205垂直連接,磨球206置于所述圓柱形腔室201內(nèi),原位還原部103通過第一進(jìn)料通道202向機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201加入石墨原料101。加藥部104通過第二進(jìn)料口 203向機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201加入表面活性添加劑。轉(zhuǎn)動軸204帶動與轉(zhuǎn)動軸204垂直相連的轉(zhuǎn)動橫桿205在圓柱形腔室201內(nèi)攪動。轉(zhuǎn)動橫桿205在攪動中帶動圓柱形腔室201內(nèi)的磨球206和石墨原料101相互碰撞和摩擦,石墨原料101在所述磨球206摩擦力的剪切作用下,石墨中各石墨層間的范德華力瓦解,獲得石墨烯和石墨的懸濁液。所述磨球206為直徑50μπι?ΙΟΟμπι且硬度大于石墨的珠子。所述機(jī)械剝離部200的圓柱形腔室201通過排料通道207與離心分離部105相連。機(jī)械剝離部200通過排料通道207將經(jīng)過剝離處理后的石墨烯和石墨的混合懸濁液送入離心分離部105。離心分離部105與干燥部106相連。離心分離部105對進(jìn)入其中的石墨烯和石墨的混合懸濁液進(jìn)行離心處理,的到石墨烯懸濁液,并送入干燥部106。干燥部106對進(jìn)入其中的石墨烯懸濁液進(jìn)行干燥處理,最終得到石墨烯薄膜107。
[0037]本實施例的磨球206以直徑為50μηι?ΙΟΟμπι的磨球為球磨介質(zhì),在石墨機(jī)械剝離過程中,相對于直徑大于ΙΟΟμπι的球磨介質(zhì)而言,石墨片層被反復(fù)剝離次數(shù)顯著增加,提高了機(jī)械剝離效率。并且所得石墨片層厚度分布集中,50%以上的石墨片層厚度都在4nm以下。
[0038]需要注意的是,上述具體實施例是示例性的,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在本發(fā)明公開內(nèi)容的啟發(fā)下想出各種解決方案,而這些解決方案也都屬于本發(fā)明的公開范圍并落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白,本發(fā)明說明書及其附圖均為說明性而并非構(gòu)成對權(quán)利要求的限制。本發(fā)明的保護(hù)范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
【主權(quán)項】
1.一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,所述裝置由高溫處理部(102)、原位還原部(103)、加藥部(104)、機(jī)械剝離部(200)、離心分離部(105)和干燥部(106)構(gòu)成; 所述機(jī)械剝離部(200)的圓柱形腔室(201)通過第一進(jìn)料通道(202)與原位還原部(103)相連,所述機(jī)械剝離部(200)的圓柱形腔室(201)通過第二進(jìn)料通道(203)與加藥部(104)相連,轉(zhuǎn)動軸(204)在圓柱形腔室(201)內(nèi)與轉(zhuǎn)動橫桿(205)垂直連接,磨球(206)置于所述圓柱形腔室(201)內(nèi),所述圓柱形腔室(201)通過排料口與離心分離部(105)相連; 其中,所述轉(zhuǎn)動軸(204)帶動與軸垂直相連的轉(zhuǎn)動橫桿(205)在固定的圓柱形腔室(201)內(nèi)攪動,以便在攪動中帶動腔室內(nèi)磨球(206)和石墨原料(101)相互碰撞和摩擦。2.如權(quán)利要求1所述的一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,所述磨球(206)為直徑50μηι?I ΟΟμπι且硬度大于石墨的珠子。3.如權(quán)利要求1所述的一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,所述高溫處理部(102)用于在200°C?1200°C和氮?dú)饣蚨栊詺怏w氣氛的條件下對石墨原料(101)進(jìn)行高溫處理。4.如權(quán)利要求1所述的一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,所述原位還原部(103)用于在200°C?1200°C和氮?dú)浠旌蠚怏w氣氛的條件下對石墨原料(101)進(jìn)行還原處理。5.如權(quán)利要求1所述的一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,用于存放表面活性添加劑的所述加藥部(104)用于,通過第二進(jìn)料管道與用于對石墨原料(101)進(jìn)行剝離的所述機(jī)械剝離部(200)相連,并且所述加藥部(104)用于持續(xù)向機(jī)械剝離部(200)的圓柱形腔室(201)加藥。6.如權(quán)利要求1所述的一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,所述機(jī)械剝離部(200)用于接收原位還原部(103)處理后石墨原料(101)并基于所述加藥部(104)提供的表面活性添加劑完成高溫處理后的所述石墨原料(101)的機(jī)械剝離處理。7.如權(quán)利要求1所述的一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,所述離心分離部(105)用于將經(jīng)機(jī)械剝離部(200)處理后的石墨烯和石墨的混合懸濁液液進(jìn)行離心分離。8.如權(quán)利要求1所述的一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,所述干燥部(106)用于將得到的含石墨烯溶液進(jìn)行干燥處理,得到石墨烯薄膜(107)。9.如權(quán)利要求1所述的一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,所述高溫處理部(102)用于在200°C?1200°C和氮?dú)饣蚨栊詺怏w氣氛條件下對石墨原料(101)進(jìn)行高溫處理,并與原位還原部(103)相連; 所述原位還原部(103)用于在200°C?1200°C和氮?dú)浠旌蠚怏w氣氛的條件下對接收經(jīng)所述高溫處理部(102)處理后的石墨原料(101)進(jìn)行還原處理,并通過第一進(jìn)料管道與機(jī)械剝離部(200)相連; 用于存放表面活性添加劑的所述加藥部(104)通過第二進(jìn)料管道與用于對石墨原料(101)進(jìn)行剝離的所述機(jī)械剝離部(200)相連,并且所述加藥部(104)用于持續(xù)向機(jī)械剝離部(200)的圓柱形腔室(201)加藥;所述機(jī)械剝離部(200)用于接收原位還原部(103)處理后石墨原料(101)并基于所述加藥部(104)提供的表面活性添加劑完成高溫處理后的所述石墨原料(101)的機(jī)械剝離處理;所述離心分離部(105)用于將經(jīng)機(jī)械剝離部(200)處理后的石墨烯和石墨的混合懸濁液液進(jìn)行離心分離;所述干燥部(106)用于將得到的含石墨烯溶液進(jìn)行干燥處理,得到石墨烯薄膜(107)。10.如權(quán)利要求1所述的一種生成石墨烯薄膜的裝置,其特征在于,所述機(jī)械剝離部(200)的圓柱形腔室(201)通過第一進(jìn)料通道(202)與原位還原部(103)相連,所述機(jī)械剝離部(200)的圓柱形腔室(201)通過第二進(jìn)料通道(203)與加藥部(104)相連,轉(zhuǎn)動軸(204)在圓柱形腔室(201)內(nèi)與轉(zhuǎn)動橫桿(205)垂直連接,磨球(206)置于所述圓柱形腔室(201)內(nèi),所述磨球(206)為直徑50μηι?ΙΟΟμπι且硬度大于石墨的珠子,所述機(jī)械剝離部(200)的圓柱形腔室(201)通過排料口與離心分離部(105)相連,其中,所述轉(zhuǎn)動軸(204)帶動與軸垂直相連的轉(zhuǎn)動橫桿(205)在固定的圓柱形腔室(201)內(nèi)攪動,以便在攪動中帶動腔體內(nèi)磨球(206)和石墨原料(101)相互碰撞和摩擦。
【文檔編號】C01B31/04GK205590299SQ201521136577
【公開日】2016年9月21日
【申請日】2015年12月31日
【發(fā)明人】白德旭
【申請人】白德旭
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