鍍膜玻璃及其加工方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及玻璃，尤其是涉及一種低成本、高硬度、抗跌落、防指紋、抗油污的鍍膜玻璃及其加工方法。
【背景技術】
[0002]觸摸屏電子設備(如手機、平板電腦等)使用越來越被人們所接受，并成為目前電子設備的主流及未來的發(fā)展方向。而現(xiàn)有的觸摸屏設備，觸摸屏質量的好壞直接關系到其質量和制作成本。普通的觸摸屏玻璃在硬度、強度和抗污上不足，或者是成本較高。

【發(fā)明內容】

[0003]為解決上述問題，本發(fā)明的目的在于提供一種低成本、高硬度、抗跌落、防指紋、抗油污的鍍膜玻璃及其加工方法。
[0004]本發(fā)明通過以下技術措施實現(xiàn)的，一種鍍膜玻璃，包括玻璃基片，所述玻璃基片的一表面依次鍍有S1Jl、AL 203層。
[0005]作為一種優(yōu)選方式，所述玻璃基片為鈉鈣玻璃。
[0006]作為一種優(yōu)選方式，玻璃基片的厚度為0.1mm—1.1mm，S12層的厚度為30—50nm，AL2O3的厚度為 60—10nm0
[0007]作為一種優(yōu)選方式，所述3102層的厚度為45nm，所述AL 203的厚度為80nmo
[0008]作為一種優(yōu)選方式，所述S12層和AL 203層都為真空濺射鍍膜層。
[0009]本發(fā)明還公開了一種鍍膜玻璃的加工方法，包括如下步驟:
[0010]I)排列靶材:在真空濺射鍍膜設備依次排列的8個腔體中分別設置有S12靶、S12靶、S1 2靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶和AL 203革巴，每個設置S1 2靶的腔體中設定功率為6KW，每個設置AL2O3靶的腔體中設定功率為8KW ;
[0011]2)所有腔體溫度設定為150度，電壓設定為420V，電流15A ;
[0012]3)按生產速度0.8m/min、生產節(jié)拍為2分鐘每架進行玻璃基片的鍍膜加工。
[0013]作為一種優(yōu)選方式，所述真空濺射鍍膜設備為CVD (化學氣相淀積)真空濺射鍍膜設備。
[0014]作為一種優(yōu)選方式，所述S12靶和AL 203靶的純度在99.995%以上。
[0015]作為一種優(yōu)選方式，所述腔體中的氣體為純度99.995 %以上的氬氣或純度99.995%以上的氮氣。
[0016]作為一種優(yōu)選方式，所述玻璃基片為鈉鈣玻璃。
[0017]利用本發(fā)明生產出的鍍膜玻璃具有以下優(yōu)勢:1、表面硬度可達到9H(鉆石10H)，遠大于目前采用化學或者物理強化所能達到的上限(一般物理或者化學強化硬度在7H左右)。2、抗跌落，抗跌落效果針對0.3mm玻璃，能夠用68g鋼球在30cm高度砸下，不會出現(xiàn)破碎現(xiàn)象；比化學或者物理強化工藝生產的產品抗跌落效果要強。3、具有防指紋、抗油污的效果；而目前通用工藝需要重新鍍一層防指紋膜才有該效果。由于通過先在玻璃基片表面鍍有S1Jl后再鍍AL 203層，從而保證了 AL 203層的牢固性，通過多次真空濺射鍍膜，使鍍層更均勻緊密。
【附圖說明】
[0018]圖1為本發(fā)明實施例的剖視圖。
【具體實施方式】
[0019]下面結合實施例并對照附圖對本發(fā)明作進一步詳細說明。
[0020]一種鍍膜玻璃及其加工方法，請參照圖1，包括玻璃基片I，所述玻璃基片I的一表面依次鍍有S1Jl 2、AL 203層3。
[0021]其加工方法，包括如下步驟:
[0022]I)排列靶材:在真空濺射鍍膜設備依次排列的8個腔體中分別設置有S12靶、S12靶、S1 2靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶和AL 203革巴，每個設置S1 2靶的腔體中設定功率為6KW，每個設置AL2O3靶的腔體中設定功率為8KW ;
[0023]2)所有腔體溫度設定為150度，電壓設定為420V，電流15A ;
[0024]3)按生產速度0.8m/min、生產節(jié)拍為2分鐘每架進行玻璃基片I的鍍膜加工。
[0025]利用本方法生產出的鍍膜玻璃具有以下優(yōu)勢:1、表面硬度可達到9H(鉆石10H)，遠大于目前采用化學或者物理強化所能達到的上限(一般物理或者化學強化硬度在7H左右)。2、抗跌落，抗跌落效果針對0.3mm玻璃，能夠用68g鋼球在30cm高度砸下，不會出現(xiàn)破碎現(xiàn)象；比化學或者物理強化工藝生產的產品抗跌落效果要強。3、具有防指紋、抗油污的效果；而目前通用工藝需要重新鍍一層防指紋膜才有該效果。由于通過先在玻璃基片I表面鍍有S1Jl 2后再鍍AL 203層3，從而保證了 AL 203層3的牢固性，通過多次真空濺射鍍膜，使鍍層更均勻緊密。
[0026]本的鍍膜玻璃效果測試:
[0027]I)表面強度測試:對鍍膜后的產品用尖銳的金屬如小刀等在上面來回摩擦100000個來回，不會產生可見的劃痕；
[0028]2)抗跌落測試:用68g鋼球在30cm高度跌落在產品的不同部位，跌落50次以上玻璃沒有出現(xiàn)破碎現(xiàn)象；
[0029]3)防指紋測試:將水倒在產品表面，測試水珠的水滴角，大于120度；
[0030]4)透過率測試:大于99%。
[0031]本實施例的鍍膜玻璃，請參考圖1，在前面技術方案的基礎上具體還可以是，玻璃基片I優(yōu)選鈉鈣玻璃。
[0032]本實施例的鍍膜玻璃，請參考圖1，在前面技術方案的基礎上具體還可以是，玻璃基片的厚度為0.1mm-1, lmm, S1jl的厚度為30—50nm，AL 203的厚度為60—100nm。其中在本實施例中，S1Jl的厚度為45nm，所述AL 203的厚度為80nm。
[0033]本實施例的加工方法，在前面技術方案的基礎上具體還可以是，真空濺射鍍膜設備為CVD真空濺射鍍膜設備。
[0034]本實施例的加工方法，在前面技術方案的基礎上具體還可以是，S12靶和AL2O3靶的純度在99.995%以上。
[0035]本實施例的加工方法，在前面技術方案的基礎上具體還可以是，腔體中的氣體為純度99.995%以上的氬氣或純度99.995%以上的氮氣。
[0036]以上是對本發(fā)明鍍膜玻璃及其加工方法進行了闡述，用于幫助理解本發(fā)明，但本發(fā)明的實施方式并不受上述實施例的限制，任何未背離本發(fā)明原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應為等效的置換方式，都包含在本發(fā)明的保護范圍的內。
【主權項】
1.一種鍍膜玻璃，其特征在于:包括玻璃基片，所述玻璃基片的一表面依次鍍有S12層、AL2O3層。2.根據權利要求1所述的鍍膜玻璃，其特征在于:所述玻璃基片為鈉鈣玻璃。3.根據權利要求1或2所述的鍍膜玻璃，其特征在于:玻璃基片的厚度為0.1mm—1.lmm, S12層的厚度為 30—50nm，AL 203的厚度為 60—lOOnm。4.根據權利要求1或2所述的鍍膜玻璃，其特征在于:所述S1Jl的厚度為45nm，所述AL2O3的厚度為80nm。5.根據權利要求1或2所述的鍍膜玻璃，其特征在于:所述S12層和AL 203層都為真空濺射鍍膜層。6.一種鍍膜玻璃的加工方法，其特征在于包括如下步驟: 1)排列靶材:在真空濺射鍍膜設備依次排列的8個腔體中分別設置有S12靶、S12靶、S12靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶和AL 203靶，每個設置S1 2靶的腔體中設定功率為6KW，每個設置AL2O3靶的腔體中設定功率為8KW ; 2)所有腔體溫度設定為150度，電壓設定為420V，電流15A; 3)按生產速度0.8m/min、生產節(jié)拍為2分鐘每架進行玻璃基片的鍍膜加工。7.根據權利要求6所述的加工方法，其特征在于:所述真空濺射鍍膜設備為CVD真空濺射鍍膜設備。8.根據權利要求6所述的加工方法，其特征在于:所述S12靶和AL 203靶的純度在99.995% 以上。9.根據權利要求6所述的加工方法，其特征在于:所述腔體中的氣體為純度99.995%以上的氬氣或純度99.995%以上的氮氣。10.根據權利要求6所述的加工方法，其特征在于:所述玻璃基片為鈉鈣玻璃。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種鍍膜玻璃，包括玻璃基片，所述玻璃基片的一表面依次鍍有SIO2層、AL2O3層。本發(fā)明還公開了一種鍍膜玻璃的加工方法，包括如下步驟：1)排列靶材；2)設定腔體溫度為150度，電壓設定為420V，電流15A；3)按生產速度0.8m/min、生產節(jié)拍為2分鐘每架進行玻璃基片的鍍膜加工。本發(fā)明的鍍膜玻璃具有低成本、高硬度、抗跌落、防指紋、抗油污的優(yōu)點。
【IPC分類】C03C17/34, C23C14/08, C23C14/34, C23C14/10
【公開號】CN105060732
【申請?zhí)枴緾N201510415095
【發(fā)明人】王瑞生
【申請人】廣州市頤恩匯商貿發(fā)展有限公司
【公開日】2015年11月18日
【申請日】2015年7月15日