本發(fā)明屬于玻璃制品領域，具體涉及一種玻璃制品表面處理方法。

背景技術：

由于玻璃具有較高的強度、硬度和耐磨性，且耐蝕性好，現(xiàn)在，作為零組件已普遍用于日常生活用品及電子產(chǎn)品等，特別是在手機、平板電腦等電子設備行業(yè)的運用相當廣泛，但是由于現(xiàn)有工藝在對產(chǎn)品做外觀處理時，往往采用陽極工藝，以使其表面可進行染色而提高裝飾性，但玻璃因自身材質因素，其不能直接進行陽極表面處理，現(xiàn)有技術基本上是直接在下部表面噴鍍涂層的方式，這種噴鍍的涂層容易脫落，當然，也可以先對玻璃進行化學處理，但其工藝復雜，并且需要耗費大量的化學制劑，陽極后的表面效果也較差，因此，現(xiàn)有的玻璃產(chǎn)品存在較大的使用局限性，大大限制了它的在電子產(chǎn)品行業(yè)的應用。

針對以上現(xiàn)狀，發(fā)明人經(jīng)反復的試驗和論證，提出了玻璃表面陽極處理工藝，從而實現(xiàn)玻璃制品的表面陽極處理工藝。

技術實現(xiàn)要素：

針對現(xiàn)有技術中存在的問題，本發(fā)明提供了一種玻璃制品表面處理方法，采用該種表面處理方法對玻璃進行表面處理，具有工藝簡單、處理成本低和著色效果好的優(yōu)點。

為了達到上述目的，本發(fā)明通過以下技術方案來實現(xiàn)的：

一種玻璃制品表面處理方法，按照以下步驟進行：

(1)先對玻璃制品的表面進行拋光；

(2)再對拋光后的玻璃制品表面進行噴砂；

(3)將噴砂后的玻璃制品浸泡于激發(fā)劑溶液中，激發(fā)劑溶液溫度為85-95℃；

(4)將浸泡后的玻璃制品用冷水清洗干燥后輸送至磁控濺射設備中，先將磁控濺射設備加溫至260-320℃，加溫時間為40-50min，然后將玻璃制品置于磁控濺射設備的沉積腔體中，對沉積腔體抽真空，使沉積腔體內的真空度為18-22mtorr，再充入甲烷，通電進行磁控濺射，使玻璃制品的表面沉積覆蓋有碳化硅層，碳化硅層厚度為50-60um；

(5)取出玻璃制品并進行陽極氧化處理，完成染色后進行清洗，即可。

進一步地，在步驟(4)中，先將磁控濺射設備加溫至290℃，加溫時間為45min，然后將玻璃制品置于磁控濺射設備的沉積腔體中，對沉積腔體抽真空，使沉積腔體內的真空度為20mtorr，再充入甲烷，通電進行磁控濺射，使玻璃制品的表面沉積覆蓋有碳化硅層，碳化硅層厚度為55um。

優(yōu)選地，上述激發(fā)劑采用硫鋁酸鹽和硅酸鹽兩種混合物。

進一步地，上述的硫鋁酸鹽與硅酸鹽的質量比為1:(2-4)。

進一步地，上述的激發(fā)劑溶液中溶質與溶劑的質量比為1:(8-12)。

進一步地，上述噴砂后的玻璃制品表面粗糙度為ra0.2-ra0.3。

優(yōu)選地，上述噴砂采用65-75目的陶瓷砂、鋯砂或金鋼砂中的一種。

進一步地，所述染色處理后將玻璃制品置于4-8℃的冷水中進行清洗，然后取出玻璃制品進行烘干，烘干溫度按1℃/min進行升溫，直至溫度達到65℃，在該溫度下維持烘干30-40min。

本發(fā)明具有如下的有益效果：本發(fā)明的玻璃制品表面處理方法是先將玻璃制品進行磁控濺射處理，使玻璃制品的表面形成一定厚度的碳化硅層，然后再將玻璃制品進行陽極氧化處理，使碳化硅層的表面形成碳化膜，最后將玻璃制品進行染色處理，染色即可較好的進入碳化硅層的碳化膜中，從而達到玻璃的表面顏色處理目的，本處理工藝在前置處理過程中，采用磁控濺射屬于物理氣相沉積，具有環(huán)保的優(yōu)點，且處理成本低，另外，該種處理工藝可以通過后續(xù)的染色工藝根據(jù)不同顏色需要進行不同染色，著色效果好。

具體實施方式

下面結合實施例對本發(fā)明的具體實施方式作進一步描述，以下實施例僅用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術方案，而不能以此來限制本發(fā)明的保護范圍。

實施例1

一種玻璃制品表面處理方法，按照以下步驟進行：

(1)先對玻璃制品的表面進行拋光；

(2)再對拋光后的玻璃制品表面進行噴砂，使噴砂后的玻璃制品表面粗糙度為ra0.2，且該噴砂采用65目的陶瓷砂；

(3)將噴砂后的玻璃制品浸泡于激發(fā)劑溶液中，激發(fā)劑溶液溫度為85℃，且激發(fā)劑溶液中溶質與溶劑的質量比為1:8，激發(fā)劑采用硫鋁酸鹽和硅酸鹽兩種混合物，其兩者之間的質量比為1:2；

(4)將浸泡后的玻璃制品用冷水清洗干燥后輸送至磁控濺射設備中，先將磁控濺射設備加溫至260℃，加溫時間為40min，然后將玻璃制品置于磁控濺射設備的沉積腔體中，對沉積腔體抽真空，使沉積腔體內的真空度為18mtorr，再充入甲烷，通電進行磁控濺射，使玻璃制品的表面沉積覆蓋有碳化硅層，碳化硅層厚度為50um；

(5)取出玻璃制品并進行陽極氧化處理，完成染色后將玻璃制品置于4℃的冷水中進行清洗，然后取出玻璃制品進行烘干，烘干溫度按1℃/min進行升溫，直至溫度達到65℃，在該溫度下維持烘干30min。

實施例2

一種玻璃制品表面處理方法，按照以下步驟進行：

(1)先對玻璃制品的表面進行拋光；

(2)再對拋光后的玻璃制品表面進行噴砂，使噴砂后的玻璃制品表面粗糙度為ra0.3，且該噴砂采用70目的鋯砂；

(3)將噴砂后的玻璃制品浸泡于激發(fā)劑溶液中，激發(fā)劑溶液溫度為90℃，且激發(fā)劑溶液中溶質與溶劑的質量比為1:10，激發(fā)劑采用硫鋁酸鹽和硅酸鹽兩種混合物，其兩者之間的質量比為1:3；

(4)將浸泡后的玻璃制品用冷水清洗干燥后輸送至磁控濺射設備中，先將磁控濺射設備加溫至290℃，加溫時間為45min，然后將玻璃制品置于磁控濺射設備的沉積腔體中，對沉積腔體抽真空，使沉積腔體內的真空度為20mtorr，再充入甲烷，通電進行磁控濺射，使玻璃制品的表面沉積覆蓋有碳化硅層，碳化硅層厚度為55um；

(5)取出玻璃制品并進行陽極氧化處理，完成染色后將玻璃制品置于6℃的冷水中進行清洗，然后取出玻璃制品進行烘干，烘干溫度按1℃/min進行升溫，直至溫度達到65℃，在該溫度下維持烘干35min。

實施例3

一種玻璃制品表面處理方法，按照以下步驟進行：

(1)先對玻璃制品的表面進行拋光；

(2)再對拋光后的玻璃制品表面進行噴砂，使噴砂后的玻璃制品表面粗糙度為ra0.3，且該噴砂采用75目金鋼砂；

(3)將噴砂后的玻璃制品浸泡于激發(fā)劑溶液中，激發(fā)劑溶液溫度為95℃，且激發(fā)劑溶液中溶質與溶劑的質量比為1:12，激發(fā)劑采用硫鋁酸鹽和硅酸鹽兩種混合物，其兩者之間的質量比為1:4；

(4)將浸泡后的玻璃制品用冷水清洗干燥后輸送至磁控濺射設備中，先將磁控濺射設備加溫至320℃，加溫時間為50min，然后將玻璃制品置于磁控濺射設備的沉積腔體中，對沉積腔體抽真空，使沉積腔體內的真空度為22mtorr，再充入甲烷，通電進行磁控濺射，使玻璃制品的表面沉積覆蓋有碳化硅層，碳化硅層厚度為60um；

(5)取出玻璃制品并進行陽極氧化處理，完成染色后將玻璃制品置于8℃的冷水中進行清洗，然后取出玻璃制品進行烘干，烘干溫度按1℃/min進行升溫，直至溫度達到65℃，在該溫度下維持烘干40min。

本發(fā)明的玻璃制品表面處理方法的處理原理是：

在上述步驟(1)中，先利用拋光機設備對玻璃制品的表面進行雜物的清理。

在上述步驟(2)中，噴砂采用65-75目的陶瓷砂、鋯砂或金鋼砂對玻璃制品的表面粗糙度進行控制，較佳的表面粗糙度有利于在磁控濺射處理中鋁粒子的沉積而提高磁控濺射的效率。

在上述步驟(3)中，對玻璃制品表面進行激發(fā)處理，具體地說，將噴砂后的玻璃制品浸泡于激發(fā)劑溶液中，且控制激發(fā)劑溶液的溫度、激發(fā)劑溶液的溶質量及溶劑量，便于激發(fā)劑溶液在玻璃制品表面更好地發(fā)揮作用。

在上述步驟(4)中，磁控濺射設備利用異常輝光放電原理對玻璃制品的表面形成一碳化硅層，其實現(xiàn)環(huán)保、無污染的優(yōu)點；

然后，在步驟(5)中，利用陽極氧化處理，使玻璃制品的碳化硅層表面形成碳化膜，從而有利于下一步驟的染色處理。

最后，將染色后的玻璃制品置于4-8℃的冷水中進行清洗，可以防止溫度升高，使碳化膜自動封孔，有利于提高著色效果；

將用冷水清洗后的玻璃制品進行升溫烘干，烘干溫度控制在65-75℃，烘干時間設定為30-40min。在環(huán)境溫度升高的狀態(tài)下，可以有效地防止因玻璃制品過冷而產(chǎn)生的裂紋現(xiàn)象，同時，所述烘干溫度采用逐步提升的方式進行升溫，其目的在于避免玻璃制品因溫度差變化過大使剛形成的碳化膜產(chǎn)生裂紋，防止影響著色效果。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，對于本領域的技術人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換。凡在本發(fā)明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內。